專利名稱：基板測(cè)定裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)用于制作印刷電路板的掩膜基板或液晶顯示板用的玻璃基板等基板進(jìn)行測(cè)定的基板測(cè)定裝置。
背景技術(shù)：
作為這樣的基板測(cè)定裝置的一種，用于測(cè)定基板表面上的兩點(diǎn)間距離的測(cè)長(zhǎng)儀已經(jīng)投入使用(請(qǐng)參考專利文獻(xiàn)1)。在這種測(cè)長(zhǎng)儀中采用有這樣的結(jié)構(gòu)，即，沿著裝載了基板的載物臺(tái)表面，設(shè)置有向X、Y方向可移動(dòng)的拍攝部，并根據(jù)使用該拍攝部來(lái)拍攝基板表面的兩點(diǎn)時(shí)的拍攝部的移動(dòng)量，測(cè)定該兩點(diǎn)間的距離。
然而，伴隨著近年來(lái)的基板的大型化，上述的測(cè)長(zhǎng)儀產(chǎn)生了這樣的問(wèn)題，即，載置在載物臺(tái)上的基板與載物臺(tái)一起發(fā)生彎曲，而無(wú)法進(jìn)行正確的測(cè)長(zhǎng)工作。另外，利用這種基板所制作的印刷電路板或者玻璃基板通常是在處于鉛垂方向的狀態(tài)下被使用的，導(dǎo)致在將基板以水平方向裝載的情況下與使基板處于鉛垂方向的情況下，基板上發(fā)生變形的方式不同。
另一方面，在專利文獻(xiàn)2中，公開有在使液晶顯示裝置處于垂直方向的狀態(tài)下對(duì)其進(jìn)行檢查的檢查裝置。
專利文獻(xiàn)1JP特開2005-30879號(hào)公報(bào)。
專利文獻(xiàn)2JP特開2004-294271號(hào)公報(bào)。
在專利文獻(xiàn)2中所記載的檢查裝置中，分別配置有支撐液晶顯示裝置的工作臺(tái)與拍攝機(jī)構(gòu)。在這種檢查裝置中，當(dāng)液晶顯示裝置(基板)相對(duì)為小型時(shí)不產(chǎn)生問(wèn)題，但是當(dāng)液晶顯示裝置為大尺寸時(shí)，液晶顯示裝置和工作臺(tái)會(huì)發(fā)生變形，從而存在必須調(diào)整拍攝機(jī)構(gòu)的相對(duì)位置的問(wèn)題。特別是，在具有沿著裝載了基板的載物臺(tái)表面可向X、Y方向移動(dòng)的拍攝部的基板測(cè)定裝置中，有必要考慮工作臺(tái)的變形與拍攝部位置的關(guān)系。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述課題而提出的，其目的在于提供一種即使基板大型化的情況下也能夠正確地測(cè)定基板的基板測(cè)定裝置。
(1).本發(fā)明是一種基板測(cè)定裝置，其特征在于，具有基座；載物臺(tái)部，其不會(huì)受到從上述基座施加的應(yīng)力，而以其表面相對(duì)于鉛垂方向傾斜了微小角度的狀態(tài)被上述基座支撐著；基板支撐構(gòu)件，其用于支撐應(yīng)進(jìn)行測(cè)定的基板的下端部，并且設(shè)置在上述載物臺(tái)部的下方；架臺(tái)，其通過(guò)由設(shè)置在上述載物臺(tái)部的上部與下部的引導(dǎo)構(gòu)件引導(dǎo)，從而能夠沿著上述載物臺(tái)部的表面向左右方向移動(dòng)；拍攝部，其通過(guò)由設(shè)置在上述架臺(tái)上的引導(dǎo)構(gòu)件引導(dǎo)，從而能夠沿著上述架臺(tái)向上下方向移動(dòng)。
(2).本發(fā)明是如(1)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，當(dāng)設(shè)定了使上述載物臺(tái)部的表面為X、Y方向的三維坐標(biāo)系時(shí)，上述基座具有第一支撐部，其以相對(duì)于上述基座而限制上述載物臺(tái)部在X、Y、Z方向上移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐上述載物臺(tái)部；第二支撐部，其以相對(duì)于上述基座而限制上述載物臺(tái)部在Y、Z方向上移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐上述載物臺(tái)部；第三支撐部，其以相對(duì)于上述基座而限制上述載物臺(tái)部在Z方向上移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐上述載物臺(tái)部。
(3).本發(fā)明是如(1)或(2)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，具有配設(shè)在上述載物臺(tái)部上、并測(cè)定上述架臺(tái)的位置的線形標(biāo)尺；配設(shè)在上述架臺(tái)上、并測(cè)定上述拍攝部的位置的線形標(biāo)尺。
(4).本發(fā)明是一種基板測(cè)定裝置，其拍攝形成在基板上的圖案，并基于所拍攝的圖像來(lái)進(jìn)行上述圖案的測(cè)定，其特征在于，具有基座；載物臺(tái)部，其相對(duì)于上述基座，以其表面相對(duì)于鉛垂方向傾斜了微小角度的狀態(tài)被支撐著；支撐機(jī)構(gòu)，其設(shè)置在上述載物臺(tái)部上，并相對(duì)于上述載物臺(tái)部而支撐上述基板；拍攝部，其設(shè)置在上述載物臺(tái)部上，并相對(duì)于保持在上述載物臺(tái)部上的基板表面進(jìn)行平行移動(dòng)，上述載物臺(tái)部以能夠相對(duì)于上述基座進(jìn)行微小移動(dòng)的狀態(tài)被支撐著，從而允許該載物臺(tái)部的變動(dòng)。
(5).本發(fā)明是如(4)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述支撐構(gòu)件是導(dǎo)輥，該導(dǎo)輥為了支撐基板的下端部而能夠轉(zhuǎn)動(dòng)地配設(shè)在上述載物臺(tái)部的下端側(cè)，且在其圓周面上具有用于引導(dǎo)基板的凹部。
(6).本發(fā)明是如(5)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，還具有升降輥，該升降輥升降于待機(jī)位置與支撐位置之間，該待機(jī)位置為升降輥的上端被配置在上述導(dǎo)輥上端的下方的位置，而該支撐位置為升降輥的上端被配置在上述導(dǎo)輥上端的上方的位置，該升降輥能夠?qū)⒂缮鲜鰧?dǎo)輥支撐的基板提升到與上述導(dǎo)輥抵接的位置的上方。
(7).本發(fā)明是如(4)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述支撐機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)導(dǎo)輥，該多個(gè)導(dǎo)輥在上述載物臺(tái)部上的對(duì)上述基板進(jìn)行支撐的面內(nèi)，支撐上述基板的背面?zhèn)取?br> (8).本發(fā)明是如(7)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述支撐機(jī)構(gòu)還具有通過(guò)吸附保持上述基板而將該基板吸附保持在上述載物臺(tái)部上的吸附保持機(jī)構(gòu)，并且，當(dāng)通過(guò)上述吸附保持機(jī)構(gòu)進(jìn)行吸附動(dòng)作時(shí)，支撐上述基板的背面?zhèn)鹊膶?dǎo)輥退避到載物臺(tái)部?jī)?nèi)。
(9).本發(fā)明是如(4)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述基座具有支撐上述載物臺(tái)部的下端部的下端部支撐部、以及支撐向上方遠(yuǎn)離該下端部的上方部的上方支撐部，上述下端部支撐部以使上述載物臺(tái)部在上述載物臺(tái)部表面的面內(nèi)能夠向水平方向進(jìn)行微小移動(dòng)的方式來(lái)支撐上述載物臺(tái)部，上述上方支撐部以使上述被支撐的載物臺(tái)部不會(huì)傾斜至上述微小角度以上的方式進(jìn)行支撐，同時(shí)以能夠在上述載物臺(tái)部表面的面內(nèi)進(jìn)行微小移動(dòng)的方式進(jìn)行支撐。
(10).本發(fā)明是如(9)所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，在上述上方支撐部中還設(shè)置有連接機(jī)構(gòu)，該連接機(jī)構(gòu)以不阻礙上述微小移動(dòng)的方式連接上述基座與上述載物臺(tái)部，從而使上述載物臺(tái)部不向與上述傾斜方向相反的方向傾倒。
根據(jù)上述(1)、(2)以及(4)所述的發(fā)明，由設(shè)置在不會(huì)受到應(yīng)力而被支撐的載物臺(tái)部上的引導(dǎo)構(gòu)件來(lái)引導(dǎo)架臺(tái)，并且拍攝部沿著該架臺(tái)移動(dòng)，由此，即使在基板大型化的情況下，也能夠正確地測(cè)定基板。
根據(jù)上述(3)所述的發(fā)明，能夠正確地測(cè)定拍攝部的移動(dòng)量。
根據(jù)從上述(5)至(7)所述的發(fā)明，能夠容易地支撐基板。
根據(jù)上述(8)所述的發(fā)明，能夠?qū)⒒蹇煽康匚奖３衷谳d物臺(tái)上。
根據(jù)上述(9)所述的發(fā)明，能夠穩(wěn)定地支撐載物臺(tái)部。
根據(jù)上述(10)所述的發(fā)明，能夠防止載物臺(tái)部的傾倒。


圖1是作為本發(fā)明涉及的基板測(cè)定裝置的測(cè)長(zhǎng)儀的主視圖。
圖2是作為本發(fā)明涉及的基板測(cè)定裝置的測(cè)長(zhǎng)儀的側(cè)視圖。
圖3是作為本發(fā)明涉及的基板測(cè)定裝置的測(cè)長(zhǎng)儀的俯視圖。
圖4A、圖4B、圖4C是表示第一支撐部91、第二支撐部92以及第三支撐部93的說(shuō)明圖。
圖5是表示基板100與導(dǎo)輥41、42之間的關(guān)系的說(shuō)明圖。
圖6是拍攝單元16的示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面，基于附圖來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。圖1是作為本發(fā)明涉及的基板測(cè)定裝置的測(cè)長(zhǎng)儀的主視圖，圖2是其側(cè)視圖，圖3是其俯視圖。此外，在圖3中只表示了第一支撐構(gòu)件11以及載物臺(tái)部15的主要部分，而省略了其他構(gòu)件。
該測(cè)長(zhǎng)儀具有由第一支撐構(gòu)件11、第二支撐構(gòu)件12以及底座構(gòu)件13構(gòu)成的基座10；由該基座10支撐的載物臺(tái)部14；沿著載物臺(tái)部14的表面可向左右方向移動(dòng)的架臺(tái)15；由互相連接在一起的拍攝單元16以及移動(dòng)構(gòu)件17構(gòu)成、并可沿著架臺(tái)15在上下方向上移動(dòng)的拍攝部18。
此外，在該說(shuō)明書中，如從圖1至圖3所示，設(shè)定將載物臺(tái)部14的表面作為X、Y方向的三維坐標(biāo)系，并將沿著載物臺(tái)部14表面的左右方向作為X方向，將沿著載物臺(tái)部14表面的上下方向作為Y方向，將垂直于載物臺(tái)部14表面的方向作為Z方向。而且，在說(shuō)明書中，根據(jù)需要，將X方向稱為左右方向，另外，將Y方向稱為上下方向。
上述基座10具有第一支撐部91，其以相對(duì)于基座10而限制載物臺(tái)部14的X、Y、Z方向的移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐載物臺(tái)部14；第二支撐部92，其以相對(duì)于基座10而限制載物臺(tái)部14的Y、Z方向的移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐載物臺(tái)部14；第三支撐部93，其以相對(duì)于基座10而限制載物臺(tái)部14的Z方向的移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐載物臺(tái)部14。載物臺(tái)部14以其表面相對(duì)于鉛垂方向傾斜微小角度的狀態(tài)由基座10支撐著。
圖4A～圖4C是表示第一支撐部91、第二支撐部92以及第三支撐部93的說(shuō)明圖。參照?qǐng)D1以及圖4A，在基座10的第二支撐構(gòu)件12的右側(cè)上部配設(shè)有抵接金屬零件21。在該抵接金屬零件21上形成有其截面為V字型的圓錐狀凹部24。另外，在載物臺(tái)部14的右側(cè)下部配設(shè)有抵接金屬零件22。在該抵接金屬零件22上也形成有其截面為V字型的圓錐狀凹部25。而且，在這些凹部24、25之間配設(shè)有鋼球23。因此，因自重而裝載在基座10上的載物臺(tái)部14，通過(guò)該支撐部91而以相對(duì)于基座10而限制載物臺(tái)部14的X、Y、Z方向的移動(dòng)的狀態(tài)被支撐著。
參照?qǐng)D1以及圖4B，在基座10的第二支撐構(gòu)件12的左側(cè)上部配設(shè)有抵接金屬零件26。在該抵接金屬零件26上形成有其截面為V字型的圓錐狀凹部29。另外，在載物臺(tái)部14的左側(cè)下部配設(shè)有抵接金屬零件27。在該抵接金屬零件27上形成有其截面為大致コ字型的大致半圓柱狀的凹部31。而且，在這些凹部29、31之間配設(shè)有鋼球28。因此，因自重而裝載在基座10上的載物臺(tái)部14，通過(guò)該支撐部92而以載物臺(tái)部14可相對(duì)基座10在X方向移動(dòng)、但限制Y、Z方向的移動(dòng)的狀態(tài)被支撐著。
參照?qǐng)D2、圖3以及圖4C所示，在基座10的第一支撐構(gòu)件11的中央上部配設(shè)有抵接金屬零件32。該抵接金屬零件32的面向載物臺(tái)部14一側(cè)的表面為平坦面。另外，在載物臺(tái)部14的背面?zhèn)戎醒肷喜啃纬捎衅浣孛鏋閂字型的圓錐狀的凹部34。而且，在抵接金屬零件32的平坦面與凹部34之間配設(shè)有鋼球33。因此，因自重而靠在第一支撐構(gòu)件11側(cè)的載物臺(tái)部14，通過(guò)該支撐部93而以載物臺(tái)部14可相對(duì)基座10在X、Y方向移動(dòng)、但限制Z方向的移動(dòng)的狀態(tài)被支撐著。
此外，如圖3所示，在載物臺(tái)部14的上部配設(shè)有用于防止由于某種原因使載物臺(tái)部14向前倒的防止傾倒螺栓47。另外，同樣也配設(shè)有防止下落螺栓(未圖示)，從而使載物臺(tái)部14不從第一支撐部91及第二支撐部92脫落。
即，上述防止傾倒螺栓47允許載物臺(tái)部14向X、Y方向進(jìn)行微小移動(dòng)，只要載物臺(tái)部14以不從基座10離開規(guī)定以上距離的狀態(tài)而受到限制，以使鋼球33不脫離凹部24即可。此外，取代該防止下落螺栓，例如可利用鏈條或鋼絲等來(lái)連接載物臺(tái)部14與基座10。
通過(guò)具有這種結(jié)構(gòu)的第一支撐部91、第二支撐部92以及第三支撐部93來(lái)支撐載物臺(tái)部14，由此，載物臺(tái)部14不會(huì)受到來(lái)自基座10的應(yīng)力，而以其表面相對(duì)于鉛垂方向傾斜了微小角度的狀態(tài)被基座10支撐。在此，所謂的“不會(huì)受到來(lái)自基座的應(yīng)力”是指由于具有上述結(jié)構(gòu)，從而即使在例如由溫度變化導(dǎo)致的伸縮率不同等導(dǎo)致基座10或者載物臺(tái)部14上發(fā)生變形的情況下，載物臺(tái)部14也不會(huì)受到來(lái)自基座10的、基于變形的應(yīng)力。換句話說(shuō)，載物臺(tái)部14以相對(duì)基座10僅可移動(dòng)微小距離的狀態(tài)被支撐著，從而即使由于溫度或重力等導(dǎo)致在載物臺(tái)部14發(fā)生了變形或者尺寸的變動(dòng)，也能夠允許該變動(dòng)(能夠吸收變動(dòng)部分)。
此外，考慮到支撐的穩(wěn)定性，上述支撐部93的位置在從支撐基板100下端的支撐部91、92向上方遠(yuǎn)離規(guī)定以上距離的位置就可，并且，理想位置在載物臺(tái)部14的上端側(cè)的中央部附近。但也可以將支撐部93例如分開到載物臺(tái)部14的左右兩側(cè)而配置兩點(diǎn)以上，并利用兩點(diǎn)以上來(lái)支撐載物臺(tái)部14。但是，考慮到當(dāng)采用多個(gè)支撐部93時(shí)，會(huì)發(fā)生各支撐部93的Z方向位置的偏差，因此優(yōu)選在支撐部93上設(shè)置Z方向位置的調(diào)整機(jī)構(gòu)，例如設(shè)置抵接金屬零件32的位置調(diào)整機(jī)構(gòu)等。
另外，支撐部91采用了限制XYZ方向的移動(dòng)的方式，但是，也可以具有這樣的結(jié)構(gòu)，即，在載物臺(tái)部14從基座10不脫離的程度上，與支撐部92同樣，在X方向可進(jìn)行微小移動(dòng)地支撐著。另外，也可以設(shè)置兩個(gè)以上的支撐部92，而以三點(diǎn)以上來(lái)支撐載物臺(tái)部14的下端。作為這樣的變形例，例如，也可以在構(gòu)成于導(dǎo)軌上的基座10上，以可在X方向進(jìn)行微小移動(dòng)的方式裝載載物臺(tái)部14。當(dāng)然，由于以相對(duì)于導(dǎo)軌均勻接觸的狀態(tài)來(lái)支撐載物臺(tái)部14下端在機(jī)械精度上比較困難，因此，在因機(jī)械精度造成的變形成為問(wèn)題的情況下，如上述實(shí)施方式，只要如支撐部91、92那樣用所限定的多個(gè)點(diǎn)來(lái)支撐載物臺(tái)部14的下端即可。
還有，參照?qǐng)D1至圖3，在載物臺(tái)部14的表面上配設(shè)有7個(gè)導(dǎo)輥41，其與基板100的背面抵接并引導(dǎo)基板100；多個(gè)導(dǎo)輥42，其與基板100的下端部抵接并引導(dǎo)基板100。
圖5是表示基板100與導(dǎo)輥41、42之間的關(guān)系的說(shuō)明圖。
導(dǎo)輥41配置在使其外周面從載物臺(tái)部14的表面只突出一部分的位置。另外，導(dǎo)輥42配設(shè)在可支持基板100的下端部的位置。在導(dǎo)輥42上形成有用于可靠地支撐基板100的下端部的凹部44。通過(guò)未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，這些導(dǎo)輥41能夠在圖5中以實(shí)線表示的基板100的引導(dǎo)位置與圖5中以虛線表示的退避位置之間移動(dòng)。
還有，參照?qǐng)D1，在載物臺(tái)部14的表面配設(shè)有與基板100的下端部抵接并升降基板100的四個(gè)升降輥43。該升降輥43具有升降于待機(jī)位置與支撐位置之間的結(jié)構(gòu)，上述待機(jī)位置為該升降輥43的上端配置在導(dǎo)輥42上端的下方的位置，而上述支撐位置為該升降輥43的上端配置在導(dǎo)輥42上端的上方的位置。另外，在載物臺(tái)部14的表面上形成有未圖示的多個(gè)吸附孔。
當(dāng)在載物臺(tái)部14上裝載基板100時(shí)，在將升降輥43配置在待機(jī)位置的狀態(tài)下，將導(dǎo)輥41、42配置在圖5中以實(shí)線表示的基板100的引導(dǎo)位置，并通過(guò)這些導(dǎo)輥41、42引導(dǎo)基板100。接著，使升降輥43上升到支撐位置。由此，原由導(dǎo)輥42支撐的基板100，變成由升降輥43支撐。在該狀態(tài)下，將導(dǎo)輥41配置在圖5中以虛線表示的基板100的引導(dǎo)位置的同時(shí)，通過(guò)形成在載物臺(tái)部14表面上的吸附孔進(jìn)行吸氣。由此，基板100在其下端部被升降輥43支撐的狀態(tài)下，吸附保持在載物臺(tái)部14。
上述導(dǎo)輥42以及升降輥43構(gòu)成用于支撐基板100的下端部的、本發(fā)明的基板支撐構(gòu)件。
在載物臺(tái)部14的表面配設(shè)有向X方向延伸的一對(duì)導(dǎo)軌45。架臺(tái)15由該導(dǎo)軌45引導(dǎo)，而使其能夠在X方向上往復(fù)移動(dòng)。另外，在載物臺(tái)部14的表面上，與一對(duì)導(dǎo)軌45平行地配設(shè)有一對(duì)線形標(biāo)尺46。通過(guò)一對(duì)線形標(biāo)尺46，來(lái)測(cè)定架臺(tái)15在X方向的位置。此外，配設(shè)有一對(duì)線形標(biāo)尺46的原因是為了修正架臺(tái)15的偏擺誤差。
如圖1以及圖2所示，在載物臺(tái)部14的上下兩端部配設(shè)有直線電機(jī)的定子51。另外，如圖2所示，在架臺(tái)15的背面配設(shè)有一對(duì)動(dòng)子52。架臺(tái)52接受由這些定子51以及動(dòng)子52構(gòu)成的直線電機(jī)的驅(qū)動(dòng)，而在X方向進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。
如圖1所示，在架臺(tái)15的表面配設(shè)有向Y方向延伸的一對(duì)導(dǎo)軌53。拍攝部18的移動(dòng)構(gòu)件17與拍攝單元16一起，由該導(dǎo)軌53引導(dǎo)而能夠在Y方向進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。另外，在架臺(tái)15上，與一對(duì)導(dǎo)軌53平行地配設(shè)有省略圖示的線形標(biāo)尺。通過(guò)該線形標(biāo)尺來(lái)測(cè)定拍攝部18在Y方向的位置。
在架臺(tái)15的表面配設(shè)有直線電機(jī)的定子54。另外，在拍攝部18的移動(dòng)構(gòu)件17的背面配設(shè)有動(dòng)子。拍攝部18受到由這些定子54以及動(dòng)子構(gòu)成的直線電機(jī)的驅(qū)動(dòng)，而在Y方向進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。
圖6是拍攝單元16的示意圖。
該拍攝單元16通過(guò)高倍率用CCD攝像機(jī)61或者低倍率用CCD攝像機(jī)62，對(duì)利用同軸反射照明來(lái)照射的基板100的圖像進(jìn)行拍攝。
即，從光源63射出的光線通過(guò)一對(duì)透鏡64，并由半透鏡65反射之后，經(jīng)由物鏡66照射到吸附保持在載物臺(tái)部14表面上的基板100上。然后，由基板100的表面反射的光線通過(guò)物鏡66以及半透鏡65之后，由反射鏡67反射，并入射到半透鏡68。入射到半透鏡68的光線中的一半光線通過(guò)半透鏡68，并通過(guò)放大光學(xué)系統(tǒng)69之后，入射到CCD攝像機(jī)61中。另一方面，入射到半透鏡68的光線中的剩下一半光線由半透鏡68反射，進(jìn)而被反射鏡71反射之后，入射到CCD攝像機(jī)62中。
當(dāng)通過(guò)具有這種結(jié)構(gòu)的測(cè)長(zhǎng)儀對(duì)基板100的圖案進(jìn)行測(cè)長(zhǎng)時(shí)，在將基板吸附保持在載物臺(tái)部14上的狀態(tài)下，通過(guò)拍攝單元16對(duì)基板100上的兩點(diǎn)進(jìn)行拍攝。然后，通過(guò)線形標(biāo)尺46測(cè)定拍攝部18在X方向的移動(dòng)量，另外通過(guò)設(shè)置在架臺(tái)15上的線形標(biāo)尺測(cè)定拍攝部18在Y方向的移動(dòng)量，由此計(jì)算出兩點(diǎn)間的距離。
此時(shí)，載物臺(tái)部14不會(huì)從基座10受到應(yīng)力，而以其表面相對(duì)鉛垂方向傾斜了微小角度的狀態(tài)而被基座10支撐，并且架臺(tái)15由沒(méi)有受到應(yīng)力的載物臺(tái)部14向左右方向引導(dǎo)，進(jìn)而，拍攝部18在架臺(tái)15上沿上下方向移動(dòng)，由此，即使在大型的基板100的情況下，也能夠在使裝置的占地面積變小的同時(shí)，正確地執(zhí)行對(duì)基板100的測(cè)定。
此外，在上述的實(shí)施方式中采用這樣的結(jié)構(gòu)，即，由拍攝單元16的光源63來(lái)照明基板100，并拍攝基板100表面的反射光。然而也可以采用這樣的結(jié)構(gòu)，即，通過(guò)由透光性的材料構(gòu)成載物臺(tái)部14，或者在載物臺(tái)部14的中央形成開口部，從而來(lái)拍攝透過(guò)基板100的光線。
還有，在上述實(shí)施方式中，本發(fā)明適用于測(cè)定基板100上的兩點(diǎn)間距離等的測(cè)長(zhǎng)儀，但本發(fā)明也可適用于基板的檢查裝置等的其他的基板測(cè)定裝置。
權(quán)利要求
1.一種基板測(cè)定裝置，其特征在于，具有基座；載物臺(tái)部，其不會(huì)受到來(lái)自上述基座的應(yīng)力，而以其表面相對(duì)于鉛垂方向傾斜了微小角度的狀態(tài)被上述基座支撐著；基板支撐構(gòu)件，其用于支撐應(yīng)進(jìn)行測(cè)定的基板的下端部，并且設(shè)置在上述載物臺(tái)部的下方；架臺(tái)，其由設(shè)置在上述載物臺(tái)部的上部與下部的引導(dǎo)構(gòu)件引導(dǎo)，從而能夠沿著上述載物臺(tái)部的表面向左右方向移動(dòng)；拍攝部，其由設(shè)置在上述架臺(tái)上的引導(dǎo)構(gòu)件引導(dǎo)，從而能夠沿著上述架臺(tái)向上下方向移動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，當(dāng)設(shè)定了使上述載物臺(tái)部的表面為X、Y方向的三維坐標(biāo)系時(shí)，上述基座具有第一支撐部，其以相對(duì)于上述基座而限制上述載物臺(tái)部在X、Y、Z方向上移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐上述載物臺(tái)部；第二支撐部，其以相對(duì)于上述基座而限制上述載物臺(tái)部在Y、Z方向上移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐上述載物臺(tái)部；第三支撐部，其以相對(duì)于上述基座而限制上述載物臺(tái)部在Z方向上移動(dòng)的狀態(tài)來(lái)支撐上述載物臺(tái)部。
3.如權(quán)利要求1或2所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，具有配設(shè)在上述載物臺(tái)部上、并測(cè)定上述架臺(tái)的位置的線形標(biāo)尺；配設(shè)在上述架臺(tái)上、并測(cè)定上述拍攝部的位置的線形標(biāo)尺。
4.一種基板測(cè)定裝置，其拍攝形成在基板上的圖案，并基于所拍攝的圖像來(lái)進(jìn)行上述圖案的測(cè)定，其特征在于，具有基座；載物臺(tái)部，其相對(duì)于上述基座，以其表面相對(duì)于鉛垂方向傾斜了微小角度的狀態(tài)被支撐著；支撐機(jī)構(gòu)，其設(shè)置在上述載物臺(tái)部上，并相對(duì)于上述載物臺(tái)部而支撐上述基板；拍攝部，其設(shè)置在上述載物臺(tái)部上，并相對(duì)于保持在上述載物臺(tái)部上的基板表面進(jìn)行平行移動(dòng)，上述載物臺(tái)部以能夠相對(duì)于上述基座進(jìn)行微小移動(dòng)的狀態(tài)被支撐著，從而允許該載物臺(tái)部的變動(dòng)。
5.如權(quán)利要求4所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述支撐構(gòu)件是導(dǎo)輥，該導(dǎo)輥為了支撐基板的下端部而能夠轉(zhuǎn)動(dòng)地配設(shè)在上述載物臺(tái)部的下端側(cè)，且在其圓周面上具有用于引導(dǎo)基板的凹部。
6.如權(quán)利要求5所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，還具有升降輥，該升降輥升降于待機(jī)位置與支撐位置之間，該待機(jī)位置為升降輥的上端被配置在上述導(dǎo)輥上端的下方的位置，而該支撐位置為升降輥的上端被配置在上述導(dǎo)輥上端的上方的位置，該升降輥能夠?qū)⒂缮鲜鰧?dǎo)輥支撐的基板提升到與上述導(dǎo)輥抵接的位置的上方。
7.如權(quán)利要求4所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述支撐機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)導(dǎo)輥，該多個(gè)導(dǎo)輥在上述載物臺(tái)部上的對(duì)上述基板進(jìn)行支撐的面內(nèi)，支撐上述基板的背面?zhèn)取?br> 8.如權(quán)利要求7所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述支撐機(jī)構(gòu)還具有通過(guò)吸附保持上述基板而將該基板吸附保持在上述載物臺(tái)部上的吸附保持機(jī)構(gòu)，并且，當(dāng)通過(guò)上述吸附保持機(jī)構(gòu)進(jìn)行吸附動(dòng)作時(shí)，支撐上述基板的背面?zhèn)鹊膶?dǎo)輥退避到載物臺(tái)部?jī)?nèi)。
9.如權(quán)利要求4所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，上述基座具有支撐上述載物臺(tái)部的下端部的下端部支撐部、以及支撐向上方遠(yuǎn)離該下端部的上方部的上方支撐部，上述下端部支撐部以使上述載物臺(tái)部在上述載物臺(tái)部表面的面內(nèi)能夠向水平方向進(jìn)行微小移動(dòng)的方式來(lái)支撐上述載物臺(tái)部，上述上方支撐部以使上述被支撐的載物臺(tái)部不會(huì)傾斜至上述微小角度以上的方式進(jìn)行支撐，同時(shí)以能夠在上述載物臺(tái)部表面的面內(nèi)進(jìn)行微小移動(dòng)的方式進(jìn)行支撐。
10.如權(quán)利要求9所述的基板測(cè)定裝置，其特征在于，在上述上方支撐部中還設(shè)置有連接機(jī)構(gòu)，該連接機(jī)構(gòu)以不阻礙上述微小移動(dòng)的方式連接上述基座與上述載物臺(tái)部，從而使上述載物臺(tái)部不向與上述傾斜方向相反的方向傾倒。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種即使在基板大型化的情況下也能夠正確地測(cè)定基板的基板測(cè)定裝置。測(cè)長(zhǎng)儀具有基座(10)；載物臺(tái)部(14)，其不會(huì)從該基座(10)受到應(yīng)力，而以其表面相對(duì)與鉛垂方向傾斜了微小角度的狀態(tài)被基座(10)支撐；導(dǎo)輥(42)以及升降輥(43)，其用于支撐應(yīng)進(jìn)行測(cè)定的基板(100)的下端部；架臺(tái)(15)，其通過(guò)由設(shè)置在載物臺(tái)部的上部與下部的導(dǎo)軌(45)引導(dǎo)，能夠沿著載物臺(tái)部(14)的表面向左右方向移動(dòng)；拍攝部(18)，其通過(guò)由設(shè)置在該架臺(tái)(15)上的導(dǎo)軌(53)引導(dǎo)，能夠沿著架臺(tái)(15)向上下方向移動(dòng)。
文檔編號(hào)G01B21/00GK1873373SQ20061007724
公開日2006年12月6日 申請(qǐng)日期2006年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月30日
發(fā)明者山下浩, 山下典良 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社