專(zhuān)利名稱(chēng)：用于檢測(cè)透明基片中的缺陷的檢測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于基片的檢測(cè)以確定缺陷的系統(tǒng)、方法和裝置，尤其涉及玻璃板中一維光程長(zhǎng)度變化的測(cè)量。
背景技術(shù)：
像玻璃板這樣的透明基片中的缺陷通常是利用檢測(cè)人員和人工方法檢測(cè)的。例如，在用于液晶顯示器(LCD)的玻璃基片中檢測(cè)像條紋和條痕這樣的缺陷時(shí)，使用一種陰影方法來(lái)檢測(cè)缺陷。根據(jù)這種方法，將一塊玻璃板(一般大約為寬1米×長(zhǎng)2米)安裝在一自由旋轉(zhuǎn)的L型支架上，并用氙燈光源照射它。該光源發(fā)出發(fā)散的光以照亮整個(gè)玻璃板。該玻璃的陰影投射在一白色屏幕上，由檢測(cè)人員來(lái)觀察。在屏幕上，缺陷是以一維的襯比線(xiàn)條出現(xiàn)的。線(xiàn)條的方向平行于玻璃板被拉伸的方向，例如在玻璃板制造時(shí)所用的下拉裝置中玻璃板被拉伸的方向。條痕缺陷通常以單個(gè)分離的線(xiàn)條出現(xiàn)，而條紋缺陷則由間隔幾個(gè)毫米的多線(xiàn)條組成。
條紋缺陷一般由具有幾個(gè)毫米的周期的小至幾個(gè)納米的光程長(zhǎng)度(OPL)變化組成。這些起因于厚度或反射率變化的微小變化通過(guò)一種常被稱(chēng)為透鏡作用的效應(yīng)來(lái)調(diào)制屏幕上的光強(qiáng)。對(duì)條紋和條痕缺陷的可重復(fù)且可靠的視覺(jué)檢測(cè)已證明是極為困難的，尤其是使用人工方法。因此，需要提供能夠在透明基片中測(cè)量一維光程長(zhǎng)度變化的裝置、系統(tǒng)和方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及用于在諸如玻璃板的透明基片中測(cè)量光程長(zhǎng)度變化的裝置、方法和系統(tǒng)。本發(fā)明可用于測(cè)量透明基片中厚度的變化。與現(xiàn)存方法相比，本發(fā)明更容易將條痕缺陷和灰塵與條紋缺陷相區(qū)分。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，通過(guò)用高度空間相干的光束照亮玻璃來(lái)間接地觀察光程長(zhǎng)度變化。通過(guò)使用非時(shí)間相干的光束，即具有非常短的相干長(zhǎng)度的光束，來(lái)減小可使襯比圖案的解釋復(fù)雜化的干涉效應(yīng)。根據(jù)某些實(shí)施例，若OPL變化周期小于或等于光束的大小，則光程長(zhǎng)度變化引起在光束中可被測(cè)量的相位失真，從而提供一種與光程長(zhǎng)度變化(大約10納米的范圍)相關(guān)的物理效應(yīng)。
在某些較佳的實(shí)施例中，相位失真的測(cè)量是通過(guò)在空間過(guò)濾光線(xiàn)而完成的，例如，通過(guò)使用一種耦合到單模光纖的強(qiáng)發(fā)光二極管(SLD)光源。SLD最好具有足夠?qū)挼牟ㄩL(zhǎng)譜以提供比穿過(guò)該玻璃的光程長(zhǎng)度要短的相干長(zhǎng)度，以減小干涉效應(yīng)。通過(guò)使用單模光纖可提供高空間相干性。光束最好從光纖發(fā)出，并且放在距光纖末端一個(gè)焦距處的透鏡產(chǎn)生準(zhǔn)直光束。若不使用光纖，也可通過(guò)經(jīng)一小孔發(fā)射光線(xiàn)來(lái)完成空間濾光，其中小孔的直徑最好小于50微米，并且最好小于大約20微米。
根據(jù)某些實(shí)施例，引導(dǎo)光源以正入射穿過(guò)感興趣的樣品，并使用正透鏡將光束部分地聚焦到狹縫上。該狹縫最好放在透鏡的焦平面之前。根據(jù)一個(gè)方面，基片中的缺陷所產(chǎn)生的相位失真導(dǎo)致了狹縫位置處光束的強(qiáng)度分布中有微小的變化。放在狹縫后面的傳感器檢測(cè)穿過(guò)狹縫的光線(xiàn)強(qiáng)度。在一些實(shí)施例中，通過(guò)對(duì)著該玻璃平移整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)，光束中相位失真的變化被測(cè)量為“光強(qiáng)襯比對(duì)位置數(shù)據(jù)”。然后可從該數(shù)據(jù)推斷出該玻璃的光程長(zhǎng)度中的局部變化。根據(jù)一些實(shí)施例，使用兩個(gè)分隔開(kāi)的光源可使因一維缺陷(即條紋或條痕)而導(dǎo)致的信號(hào)中的襯比可與其它更局部化的缺陷相區(qū)分，其中其它更局部化的缺陷包括灰塵、夾雜物等等。一旦獲得作為玻璃位置的函數(shù)的光線(xiàn)強(qiáng)度，一種算法就處理該數(shù)據(jù)以將信號(hào)中的襯比量化。
本發(fā)明具有較寬的空間頻率響應(yīng)范圍，這導(dǎo)致與現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)相比對(duì)玻璃表面上的缺陷具有更高分辨率。本發(fā)明提供一種對(duì)低量級(jí)缺陷(例如，小于大約100納米，最好小于大約50納米以及小到大約1納米的OPL變化)很靈敏的可重復(fù)性測(cè)量。該系統(tǒng)和裝置是緊湊的并且能迅速測(cè)量缺陷。
本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)將在下面的詳細(xì)描述中顯而易見(jiàn)。應(yīng)該理解，前面的一般性描述和后面的詳細(xì)描述都是示例性的，并且旨在提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步的理解。


圖1示出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例用于測(cè)量透明基片中的缺陷的裝置的示意圖；圖2是具有條紋缺陷的玻璃板的圖樣；圖3示出了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例用于測(cè)量透明基片中的缺陷的一裝置的示意圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例示出光源的輸出光譜的曲線(xiàn)圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例示出實(shí)測(cè)條紋襯比百分比對(duì)透鏡到狹縫的距離”的曲線(xiàn)圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例在掃描了包含條紋和條痕缺陷的玻璃板之后從系統(tǒng)中獲得的線(xiàn)條掃描數(shù)據(jù)的二維投影圖；以及圖7示出了根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例用于測(cè)量透明基片中的缺陷的一裝置的透視圖。
具體實(shí)施例方式
在描述本發(fā)明的若干示例性實(shí)施例之前，應(yīng)該理解，本發(fā)明并不限于在下面的描述中所闡明的結(jié)構(gòu)或方法步驟的細(xì)節(jié)。本發(fā)明能夠用于其它實(shí)施例并且能夠以各種方式加以實(shí)踐或?qū)嵤?br> 本發(fā)明涉及用于檢測(cè)諸如玻璃板的透明基片的裝置、系統(tǒng)和方法。本發(fā)明尤其可用于檢測(cè)液晶顯示器基片上大約100納米或更小量級(jí)的一維OPL變化，例如，小于大約50納米或10納米，并且小到像大約1納米。
參照?qǐng)D1并根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例，提供一種用于測(cè)量透明基片12內(nèi)或其上缺陷的裝置10。該裝置尤其可用于測(cè)量在液晶顯示器所使用的玻璃基片中的條紋缺陷。如圖1和2所示，沿z方向測(cè)得的穿過(guò)玻璃板的光程長(zhǎng)度隨著沿x軸的位置而變化，導(dǎo)致平行于拉伸方向或圖2所示“y”軸的通常稱(chēng)為條紋和條痕的特征圖案。光程長(zhǎng)度沿“x”的調(diào)制是周期性的，其周期范圍大約幾個(gè)毫米并且其幅度范圍大約幾個(gè)納米。仍然參照?qǐng)D1和2，裝置10包括用于引導(dǎo)第一光束15對(duì)準(zhǔn)基片12的第一光源14。第一光源14最好對(duì)準(zhǔn)基片12使得第一光束15基本正入射到該薄板上，平行于圖1中“z”軸。最好配置光源14使得它可將光線(xiàn)對(duì)準(zhǔn)基片12的平面上多個(gè)不同的位置。因而，在較佳的實(shí)施例中，光源可在“x”或“y”方向移動(dòng)，或者，在光源保持不動(dòng)時(shí)可移動(dòng)基片12，使得光線(xiàn)朝著基片12的表面上多個(gè)不同的位置發(fā)射。在一較佳的實(shí)施例中，安裝基片使條紋缺陷的方向平行于圖1和2所示的“y”方向，并且移動(dòng)基片12或光源14使得光束對(duì)著基片沿“x”方向平移。
仍然參照?qǐng)D1，裝置10還包括一光學(xué)系統(tǒng)16，它至少包括用于檢測(cè)光線(xiàn)的相位失真的第一傳感器，其中該光線(xiàn)穿過(guò)薄板12的不同位置或從薄板12的不同位置處反射。光線(xiàn)的相位失真與基片12的平面上不同位置處的光強(qiáng)襯比相關(guān)。該光學(xué)系統(tǒng)最好包括在光源12和傳感器18之間的第一透鏡20，第一透鏡20提供可選擇性地增強(qiáng)在傳感器18處接收到的相位失真襯比的能力。根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，傳感器18在傳感器18上或傳感器18之外成像一虛平面22a或22b。在此使用時(shí)，傳感器之外意思是該平面處于遠(yuǎn)離z平面中第一光源14的方向。因而，如圖1所示，光源14在左面，傳感器18在右面，位于第一傳感器18之外的虛平面22b將位于第一傳感器18的右面。
現(xiàn)在參照?qǐng)D3，示出了用于檢測(cè)透明基片32中的缺陷的裝置的另一個(gè)實(shí)施例30。該裝置包括一對(duì)分隔開(kāi)的光源34a和34b。光源可隔開(kāi)大約20毫米到120毫米。在較佳的實(shí)施例中，每個(gè)光源34a或34b都耦合到一空間濾波器。在本實(shí)施例中，空間濾波器是由一對(duì)光纖35a和35b所提供的。光線(xiàn)離開(kāi)光纖35a和35b，兩者的間隔至少有光束直徑那樣大小，最好應(yīng)間隔大約30毫米，然后光線(xiàn)穿過(guò)基片32。在較佳的實(shí)施例中，來(lái)自光源34a和34b的光束要穿過(guò)放在光纖35a、35b的末端與基片32之間的一對(duì)準(zhǔn)直透鏡36a和36b。在光線(xiàn)穿過(guò)基片32之后，包括一對(duì)透鏡38a、38b的光學(xué)系統(tǒng)引導(dǎo)光線(xiàn)穿過(guò)一對(duì)狹縫40a、40b并到達(dá)傳感器42a、42b，其中透鏡38a、38b此后可稱(chēng)為襯比增強(qiáng)透鏡或襯比透鏡。該光學(xué)系統(tǒng)可選擇性地增強(qiáng)在傳感器處接收到的相位失真的襯比。如上所述，傳感器42a、42b成像一虛平面，該虛平面在傳感器42a、42b之上或之外。下面將描述該光源和光學(xué)系統(tǒng)的其它細(xì)節(jié)。
在較佳的實(shí)施例中，光源的相干長(zhǎng)度小于基片的光學(xué)厚度，測(cè)量該厚度是為了避免由平面基片的兩個(gè)主平面的反射所產(chǎn)生的干擾效應(yīng)。光源最好也是空間相干的?？臻g相干意味著垂直于光束傳播方向(圖1中為“z”平面)的波陣面在該光束上是相同的?？臻g相干可由在空間上過(guò)濾光源來(lái)實(shí)現(xiàn)?？赏ㄟ^(guò)經(jīng)一小孔發(fā)射光線(xiàn)來(lái)實(shí)現(xiàn)空間濾波，該小孔至少比所感興趣的事物的最小橫向缺陷尺寸小大約10倍并且最好小40倍；或可通過(guò)使用已耦合到單模光纖中的光源來(lái)實(shí)現(xiàn)空間濾波。
一種更佳的光源是強(qiáng)發(fā)光二極管(SLD)。這種器件提供時(shí)間非相干的(相對(duì)較寬的波長(zhǎng)譜)光線(xiàn)。圖4根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例用任意功率單位示出了強(qiáng)發(fā)光二極管的輸出光譜，它與小于大約50納米的相干長(zhǎng)度相對(duì)應(yīng)。盡管許多類(lèi)型的寬帶光源都可提供短的相干長(zhǎng)度(鎢-鹵素，氙，LED等等)，但是SLD可非常有效地耦合到單模光纖中。這使得在保持合理的功率水平(出自光纖的約1毫瓦)的同時(shí)還顧及了光源的有效空間濾波。更多典型光源的空間濾波導(dǎo)致了不可接受的低功率。條紋和條痕缺陷的襯比特征水平在1％的量級(jí)或更小。因此，SLD光源優(yōu)越的功率穩(wěn)定性(例如，在大約10秒期間小于0.05％)是較佳的。
出自空間濾波器的光線(xiàn)在入射到基片之前最好先準(zhǔn)直。光束的準(zhǔn)直會(huì)減少系統(tǒng)對(duì)薄板位置和沿光束傳播方向移動(dòng)的敏感度，并且也簡(jiǎn)化了對(duì)傳感器所收集的數(shù)據(jù)的解釋。在一較佳實(shí)施例中，入射光束被準(zhǔn)直為直徑大約5-20毫米(1/e2直徑)。光束大小對(duì)系統(tǒng)所敏感的光程長(zhǎng)度變化周期設(shè)置了上限。相對(duì)較大的光束大小導(dǎo)致系統(tǒng)對(duì)條痕(其典型寬度小于5毫米)很靈敏，而同時(shí)對(duì)在基片光程長(zhǎng)度變化中的較長(zhǎng)的周期變化不夠靈敏。
在較佳的實(shí)施例中，使用兩個(gè)光源并如圖3所示分開(kāi)放置。在系統(tǒng)中兩個(gè)光束通道減小了測(cè)量中的誤差，這些誤差源自基片表面上的灰塵和其它污染物。在較佳的實(shí)施例中，兩光束在垂直方向上偏移(沿基片的y軸或平行于條紋/條痕方向)以對(duì)玻璃表面的不同區(qū)域采樣，使得兩光束共同的襯比僅歸因于條紋或條痕。僅由一條光束所測(cè)的襯比可被灰塵、鋼筆標(biāo)記、夾雜物或玻璃內(nèi)部的缺陷所影響。兩光束的偏移應(yīng)該足夠地小以保證在兩光束所采樣的條紋/條痕特征中的差別是最小的。這將由條紋或條痕特征沿y軸多快地變化所限制。兩束光線(xiàn)可由單個(gè)光源、光分束器和鏡子所產(chǎn)生。光纖光學(xué)耦合器就是光分束器件的一個(gè)例子。但是，為了更好的長(zhǎng)期穩(wěn)定性，兩個(gè)分立的光源(一個(gè)光源發(fā)射一束光)是較佳的。
如上所述，包含在系統(tǒng)之中并置于基片和傳感器之間的透鏡增強(qiáng)了由條紋和條痕所導(dǎo)致的襯比，同時(shí)也導(dǎo)致了通道較短的光學(xué)系統(tǒng)。但是，諸如振動(dòng)和排列靈敏性的因素限制了焦距較短的透鏡的使用。例如，50毫米到400毫米焦距的透鏡在保持對(duì)振動(dòng)的不敏感性的同時(shí)還提供了對(duì)襯比增強(qiáng)的較好結(jié)合。
通過(guò)調(diào)節(jié)在透鏡和測(cè)量強(qiáng)度襯比的平面之間的距離，可使系統(tǒng)或裝置的空間頻率靈敏度最優(yōu)化到一特定范圍，其中該距離根據(jù)在某些較佳實(shí)施例中置于透鏡和傳感器之間的狹縫的位置所定義。圖5示出了在不同配置下測(cè)得的光學(xué)系統(tǒng)頻率依賴(lài)性的示例。對(duì)于具有不同周期的兩個(gè)條紋缺陷，圖5顯示了通過(guò)使用焦距為f的透鏡和十微米的狹縫測(cè)得的襯比。隨著狹縫被移到離透鏡越來(lái)越遠(yuǎn)(離透鏡的焦點(diǎn)越來(lái)越近)，每個(gè)圖案的襯比都在增加，達(dá)到一峰值后，隨著狹縫位置接近焦點(diǎn)而迅速減小。較高頻率條紋圖案(較短周期)的襯比峰值發(fā)生在離透鏡較近的平面處。
圖5中標(biāo)記為A、B和C的圓圈顯示了對(duì)最優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的若干可能選擇。圓圈A所代表的點(diǎn)具有最少襯比增強(qiáng)但最廣頻率響應(yīng)。圓圈B在較低的頻率峰值處具有最高的襯比增強(qiáng)，但在高頻峰值處具有減少的襯比增強(qiáng)。圓圈C是較佳的運(yùn)行點(diǎn)。這一點(diǎn)代表一種折衷，其中產(chǎn)生了襯比增強(qiáng)而沒(méi)有減少所觀察到的最高頻率條紋的相關(guān)響應(yīng)。
置于透鏡和傳感器之間的狹縫的寬度最好要足夠窄以完全分辨最高的頻率襯比特征，但又要足夠?qū)捯韵騻鞲衅鱾鬟f足夠的光功率從而保持信噪比。為防止測(cè)量中的誤差，最好調(diào)整狹縫使其充分平行于條紋缺陷的方向。通過(guò)充分調(diào)準(zhǔn)，狹縫應(yīng)該調(diào)準(zhǔn)到偏離條紋方向約0.5度以?xún)?nèi)。
較佳的傳感器是最小面積大約為4毫米×1毫米的硅光電二極管。每個(gè)狹縫最好都直接耦合到傳感器的表面。光電二極管產(chǎn)生與通過(guò)狹縫的光功率直接成正比的電流。這個(gè)電流大約在10納安的量級(jí)，并最好由低噪聲跨導(dǎo)倒數(shù)放大器來(lái)放大該電流。但是，本發(fā)明并不限于任何特定的傳感器。其它合適的傳感器包括但不限于電荷耦合器件(CCD)或其它類(lèi)型的光敏傳感器。
使用例如計(jì)算機(jī)的傳統(tǒng)電子和數(shù)據(jù)處理設(shè)備來(lái)獲得并分析來(lái)自傳感器的數(shù)據(jù)。最好使用模數(shù)轉(zhuǎn)換器將傳感器所產(chǎn)生的電壓數(shù)字化。處理器會(huì)將缺陷(例如，條痕對(duì)條紋和灰塵)分類(lèi)并且將缺陷的幅度量化。然后聯(lián)系并分析該數(shù)據(jù)以通過(guò)樣品量化OPL變化。
圖6示出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例從裝置中獲得的數(shù)據(jù)的示例，它顯示了以約每秒100毫米的掃描速度橫掃樣本所測(cè)得的襯比。圖6是線(xiàn)條掃描數(shù)據(jù)的2維表示，其中襯比已經(jīng)得到增強(qiáng)，并且條痕以周期性的襯比線(xiàn)條出現(xiàn)。圖6中的y和x軸分別與圖3中所描述的玻璃板的y和x軸相對(duì)應(yīng)。在圖6中，條痕因圖象上強(qiáng)度的周期變化而顯然，條痕缺陷因接近圖象中間的明亮、分離的線(xiàn)條而顯然。
本發(fā)明的系統(tǒng)的整體可重復(fù)性是極好的。對(duì)于包含條紋和條痕并由本發(fā)明的系統(tǒng)所測(cè)量的樣品進(jìn)行可重復(fù)和可復(fù)制研究，所得的結(jié)果顯示了它與分級(jí)的缺陷嚴(yán)重程度(如人工檢測(cè)所判斷的那樣)具有良好的相關(guān)性。通過(guò)固定傳感器相對(duì)于光源的位置并在玻璃上平移整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)，可使系統(tǒng)的位置依賴(lài)性最小。通過(guò)產(chǎn)生雙光束系統(tǒng)條痕的檢測(cè)成為可能。通過(guò)光源的最優(yōu)化和透鏡的使用，該系統(tǒng)己足夠靈敏來(lái)在正入射時(shí)檢測(cè)所有已知的條痕缺陷。特別地，高頻缺陷的檢測(cè)是可能的。
本發(fā)明的系統(tǒng)可以在工廠(chǎng)環(huán)境中進(jìn)行離線(xiàn)檢測(cè)?；镜募夹g(shù)也能夠支持在線(xiàn)檢測(cè)所需的數(shù)據(jù)速率。圖7顯示了可用于測(cè)量基片112的系統(tǒng)100的示例。該系統(tǒng)包括既相互分離又相對(duì)于彼此固定的一對(duì)光源114和一對(duì)傳感器116。每個(gè)光源和傳感器一般彼此間隔大約小于1米，小于0.5米則更好，而小于30厘米則為最好?？梢韵鄬?duì)于光源和傳感器移動(dòng)基片112，或者，可將光源和傳感器安裝在可移動(dòng)的平臺(tái)上并在薄板上沿箭頭115所示的方向平移。傳感器116所獲得的數(shù)據(jù)傳遞給與數(shù)據(jù)處理器122通信的電子包。數(shù)據(jù)處理器可以是諸如個(gè)人計(jì)算機(jī)或大型計(jì)算機(jī)的任何常規(guī)數(shù)據(jù)處理器。測(cè)量系統(tǒng)對(duì)玻璃振動(dòng)相對(duì)不敏感，并不要求非常嚴(yán)格的玻璃定位，并且可容忍灰塵效應(yīng)。
對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員而言很明顯的是，可對(duì)本發(fā)明作出各種修改和變化而不背離本發(fā)明的精神和范圍。例如，通過(guò)除去透鏡或?qū)ⅹM縫移動(dòng)到更接近于透鏡，可獲得對(duì)較高空間頻率的響應(yīng)。通過(guò)將狹縫移動(dòng)到更接近于襯比透鏡的焦點(diǎn)，可獲得由于缺陷而產(chǎn)生的較高的襯比。通過(guò)在檢測(cè)方使用焦距較短的透鏡，可獲得較短的(更緊湊的)整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)，這可導(dǎo)致對(duì)振動(dòng)效應(yīng)有較高的敏感性。盡管較佳的實(shí)施例顯示了從穿過(guò)樣品的光束中來(lái)收集數(shù)據(jù)，但是該系統(tǒng)、方法和裝置可利用從樣品表面所反射的光束中收集到的數(shù)據(jù)。通過(guò)第二個(gè)傳感器組件的使用，反射和透射信號(hào)的收集允許對(duì)兩個(gè)表面的表面高度偏差進(jìn)行獨(dú)立的測(cè)量。假如本發(fā)明的修改和變化落在所附的權(quán)利要求書(shū)和其等效方案之內(nèi)，則本發(fā)明旨在包括這些修改和變化。
權(quán)利要求
1.一種用于測(cè)量透明平面基片中的缺陷的裝置，其特征在于第一空間相干且光譜單一的光源，它用于將光線(xiàn)對(duì)準(zhǔn)所述基片的主平面上的不同位置；以及包括透鏡和第一傳感器的光學(xué)系統(tǒng)，所述傳感器適合于檢測(cè)穿越薄板不同位置的或從薄板不同位置反射的光線(xiàn)的相位失真，所述相位失真與“光強(qiáng)襯比對(duì)不同地點(diǎn)的位置”相關(guān)聯(lián)，所述透鏡沿所述光程置于所述光源和所述傳感器之間，所述透鏡可選擇性地增強(qiáng)所述光強(qiáng)的襯比。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一傳感器可在所述傳感器之上或之外的虛平面處測(cè)量所述光強(qiáng)。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述裝置能夠測(cè)量大約10納米的一維光程長(zhǎng)度變化。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述空間相干光源包括光源和空間濾波器，其中所述空間濾波器包括單模光纖。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述光源的相干長(zhǎng)度小于穿過(guò)所述基片的光程長(zhǎng)度。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述光源包括強(qiáng)發(fā)光的二極管。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光源和傳感器相對(duì)所述基片的平面平移。
8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括與所述第一光源分隔開(kāi)的第二光源以及與所述第二傳感器分隔開(kāi)的第二傳感器。
9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括耦合到所述光源的光纖，用于在空間上過(guò)濾對(duì)準(zhǔn)所述基片的光線(xiàn)；置于所述光纖和所述薄板之間的準(zhǔn)直透鏡，用于準(zhǔn)直穿過(guò)所述薄板的光束的；以及置于所述襯比透鏡和所述傳感器之間的狹縫，其中所述襯比透鏡置于所述薄板和所述傳感器之間。
10.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，還包括與所述第一光源分隔開(kāi)的第二光源以及與所述第一傳感器分隔開(kāi)的第二傳感器。
全文摘要
揭示了用于在像玻璃板這樣的透明基片中檢測(cè)缺陷的方法、裝置和系統(tǒng)。該方法、裝置和系統(tǒng)能夠在透明基片中檢測(cè)小于100納米的光程長(zhǎng)度變化。
文檔編號(hào)G01N21/95GK1756949SQ200480005759
公開(kāi)日2006年4月5日 申請(qǐng)日期2004年3月4日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月5日
發(fā)明者K·加哈干, J·希爾特納 申請(qǐng)人:康寧股份有限公司