專利名稱：一種高位容器液面穩(wěn)定裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種容器液面穩(wěn)定裝置，尤其涉及一種高位容器液面穩(wěn)定裝置。
背景技術(shù)：
在電磁流量計(jì)的校驗(yàn)工作中，具有穩(wěn)定水壓的穩(wěn)壓水流對(duì)精確校測電磁流量計(jì)是十分重要的?，F(xiàn)今，采用在高位容器中保持一定水位高度來獲得穩(wěn)壓水流的方法有如下兩種其中，一種稱作管子溢流法，即，在高位容器的側(cè)壁上開若干個(gè)孔，當(dāng)進(jìn)水量超過出水量時(shí)，水就會(huì)從側(cè)壁上的若干個(gè)孔中溢出，以而使容器中的水位保持在一定高度。還有一種方法就是利用浮球閥。當(dāng)水位達(dá)到設(shè)定值時(shí)，浮球閥自行關(guān)閉，停止進(jìn)水；當(dāng)出水量大，水位下降時(shí)，浮球閥自行打開，繼續(xù)進(jìn)水，以此保持水位高度。
上述兩種方法在穩(wěn)定水壓方面都有一定的作用。但應(yīng)該看到，在進(jìn)水、出水的過程中，容器內(nèi)的液面都在上下變化，其波動(dòng)值高達(dá)±20cm。且水從進(jìn)水管進(jìn)入容器時(shí)會(huì)產(chǎn)生一定的沖擊，使容器內(nèi)的水面擾動(dòng)，從而造成水壓的波動(dòng)。這些都會(huì)影響電磁流量計(jì)的校測精度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種高位容器液面穩(wěn)定裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。
本發(fā)明所提供的一種高位容器液面穩(wěn)定裝置包括筒體、筒體頂部的高位容器、進(jìn)水管，溢流管以及一個(gè)可盛一定量水的托盤，在托盤底面的中央開有一圓孔，托盤安裝在筒體上并與筒體連通，在托盤底面中央圓孔的四周垂直固定有若干根支撐，在這些支撐上固定一個(gè)離托盤較近的淋水器，一根進(jìn)水槍呈水平切線方向與淋水器相連通，所述的淋水器是一個(gè)由上下底面及側(cè)面組成的圓柱形容器，在其下底面上開設(shè)有大量小孔，為了使水均勻平穩(wěn)地流入托盤，這些小孔以正三角形形式分布，且相鄰兩小孔的中心距離與小孔直徑之比為3.5～6.5，所述的進(jìn)水槍與進(jìn)水管相連通，所述的溢流管位于高位容器的底部。
因高位容器中的托盤與高位容器下面的筒體是相連通的，其中充滿著水，所以托盤水平面離筒體底部的高度就是設(shè)定的水壓，托盤中的水面越平穩(wěn)，位于筒體底部檢測處的壓力波動(dòng)就越小。
本發(fā)明所述的一種高位容器液面穩(wěn)定裝置能使托盤中的水面盡量少受擾動(dòng)，當(dāng)水沿切線方向從進(jìn)水槍進(jìn)入淋水器時(shí)，水在淋水器中作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，并向淋水器中心區(qū)域漫延，然后再經(jīng)小孔流到托盤內(nèi)。由于是沿切線方向旋轉(zhuǎn)漫延到整個(gè)淋水器的，所以水從小孔流出基本上只是一種自由落體，因此不會(huì)因進(jìn)水壓力的沖擊而造成托盤中液面的不穩(wěn)定性。由于淋水器離托盤較近，故水從小孔落到托盤中，對(duì)水面的擾動(dòng)很小。此時(shí)托盤中的水面基本上可以看作是一個(gè)平面，因此對(duì)筒體底部檢測處的壓力波動(dòng)很小，使液面波動(dòng)維持在+0.2cm左右，多余的水可以從托盤邊緣溢出，再從溢流管回收。


圖1為高位容器液面穩(wěn)定裝置的結(jié)構(gòu)示意圖(縱剖面)；圖2為高位容器液面穩(wěn)定裝置的結(jié)構(gòu)示意圖(揭去容器蓋后水平視圖)；圖3為高位容器液面穩(wěn)定裝置的淋水器的結(jié)構(gòu)示意圖(正視圖與仰視圖)；圖4為高位容器液面穩(wěn)定裝置的淋水器上的小孔的剖視圖；圖5為高位容器液面穩(wěn)定裝置的淋水器上的小孔的分布示意圖；圖6為高位容器液面穩(wěn)定裝置的溢水槽的橫剖面圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)請(qǐng)參閱圖1～圖6。該高位容器液面穩(wěn)定裝置包括置于高位容器4中的一個(gè)可盛一定量水的托盤1，靠近托盤1的淋水器2，與淋水器2呈水平切線方向連通的進(jìn)水槍3。所述托盤1的底面中央設(shè)有一圓孔，托盤1安裝在位于其下的筒體6上且與筒體6相連通。所述的淋水器2為一圓柱形容器，它安裝固定在托盤1底部中央圓孔四周的若干根支撐11上。淋水器2的底面上設(shè)有很多小孔21。為使水均勻、平穩(wěn)地流入托盤1，這些小孔以正三角形形式分布，且相鄰兩小孔的中心距離與小孔直徑之比為3.5～6.5。所述的進(jìn)水槍3與淋水器2以水平切線方向相連通，而它的進(jìn)水端與進(jìn)水管7相連通。在高位容器的底部設(shè)有一根溢流管5。為使水流平穩(wěn)、流暢地通過小孔21流到托盤1，要將小孔21的邊緣倒角。最好，與淋水器2呈水平切線方向連通的進(jìn)水槍3可制成口徑一大一小兩根，以節(jié)約能源。在作大出水量檢測時(shí)，可使用較大口徑的進(jìn)水槍供水，在作小出水量檢測時(shí)，可使用較小口徑的進(jìn)水槍供水。
在實(shí)際設(shè)計(jì)時(shí)，如在22.3m高位容器液面穩(wěn)定裝置的設(shè)計(jì)中，托盤1的直徑為4.6m，盤高0.3m，其底面中心開孔的孔徑為2.6m，在其環(huán)行底面部分上均勻垂直固定6根由角鋼制成的支撐11。在支撐11上安裝一個(gè)直徑為3.6m，高為0.2m的圓柱形淋水器2，其底面上開有5208個(gè)直徑為8mm的小孔21。小孔中心間距為40mm。與淋水器2呈水平切線方向連通的進(jìn)水槍3有口徑一大一小兩根，一根的流量為150m3/h，另一根的流量為125m3/h。這樣在22.3m高的水柱上，控制的液面誤差為+2mm，其精度為2/22300，用此精度水壓的水源來校測電磁流量計(jì)基本上可以保證校測數(shù)據(jù)的重復(fù)再現(xiàn)，可以校測出標(biāo)準(zhǔn)表。在實(shí)際操作中，調(diào)控進(jìn)水量約為出水量的1.05倍。眾所周知，只有托盤1有水溢出才能獲得穩(wěn)定的水壓。
為使托盤1中央部分的水也能快速流出，在托盤1的上邊緣上平行的嵌設(shè)兩條溢水槽8，溢水槽8由槽鋼81與位于其上的人字形罩帽83組成。罩帽83與槽鋼81之間用中心加強(qiáng)板82支撐。在托盤1外的溢水槽8的兩端部分，罩帽83的邊緣與槽鋼81的兩翼板之間用側(cè)加強(qiáng)板84支撐。槽鋼翼板的邊緣與托盤1的上邊緣在同一水平面上。溢水槽8兩端伸出托盤1外，且與高位容器4的內(nèi)壁間留有一定間距。這樣，當(dāng)托盤1中的水面涌起而超過其邊緣時(shí)，處于托盤1周邊部分的水可以從托盤1的邊緣溢出，而處于托盤1中央部分的水可以流入槽鋼中，再由槽鋼兩端流入高位容器中，經(jīng)溢流管流出。此結(jié)構(gòu)在實(shí)際操作中更有利于水面的平穩(wěn)。
權(quán)利要求
1.一種高位容器液面穩(wěn)定裝置，包括筒體、筒體頂部的高位容器、進(jìn)水管和溢水管，其特征在于，所述液面穩(wěn)定裝置包括一可盛一定量水的托盤，該托盤的底部設(shè)有一中央開孔，并在其環(huán)形底部上設(shè)有若干垂直向上的支撐，所述托盤安裝固定在筒體上且與筒體連通；一淋水器，該淋水器是一圓柱形容器，在其底面上設(shè)有很多個(gè)小孔，所述淋水器安裝在托盤環(huán)形底面的支撐上；一個(gè)或一個(gè)以上進(jìn)水槍，所述進(jìn)水槍呈水平切線方向與淋水器相連通。
2.如權(quán)利要求1所述的高位容器液面穩(wěn)定裝置，其特征在于，所述淋水器的小孔彼此是呈正三角形分布，且相鄰兩個(gè)小孔之間的中心距離與小孔的直徑之比為3.5～6.5。
3.如權(quán)利要求1所述的高位容器液面穩(wěn)定裝置，其特征在于，所述的與淋水器呈水平切線方向連通的進(jìn)水槍為兩根，它們具有不同的內(nèi)徑。
4.如權(quán)利要求1所述的高位容器液面穩(wěn)定裝置，其特征在于，所述的淋水器小孔上部具有倒角。
5.如權(quán)利要求1所述的高位容器液面穩(wěn)定裝置，其特征在于，所述托盤的上邊緣上平行嵌設(shè)有兩條溢水槽，所述溢水槽由槽鋼、位于槽鋼上的人字形罩帽組成，罩帽與槽鋼之間用中心加強(qiáng)板支撐，處于托盤外的溢水槽兩端部分在罩帽的邊緣與槽鋼的兩翼板之間用側(cè)加強(qiáng)板支撐，溢水槽的兩端伸出托盤外，與高位容器的內(nèi)壁間留有一定的間距，槽鋼翼板的邊緣與托盤的上邊緣在同一水平面上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種高位容器液面穩(wěn)定裝置，它包括一個(gè)可盛一定量水的托盤及支撐在托盤上且靠近托盤的淋水器，一進(jìn)水槍呈水平切線方向與淋水器相連通，淋水器的底面上開有很多小孔，水從進(jìn)水槍進(jìn)入淋水器，并經(jīng)淋水器底面的小孔流入托盤。由于沒有進(jìn)水壓力的沖擊，托盤中的液面是平穩(wěn)的，從而可以獲得穩(wěn)定的水壓。
文檔編號(hào)G01F1/56GK1743816SQ20041005416
公開日2006年3月8日 申請(qǐng)日期2004年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月31日
發(fā)明者徐仁鋒, 姜渝 申請(qǐng)人:徐仁鋒, 姜渝