專利名稱：測(cè)量照明系統(tǒng)性能的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種測(cè)量照明系統(tǒng)性能的方法，該系統(tǒng)包括輻射光源并且該系統(tǒng)用于成像裝置中，該方法包括以下步驟-提供包括至少一個(gè)菲涅耳帶透鏡的測(cè)試目標(biāo)；-將該測(cè)試目標(biāo)設(shè)置在成像裝置的物平面中；-利用照明系統(tǒng)提供的照明光束以及利用該裝置的成像系統(tǒng)將包括菲涅耳帶透鏡的測(cè)試目標(biāo)區(qū)域成像在像平面中，由此將局部有效光源成像到像平面中；-利用檢測(cè)設(shè)備以及相關(guān)的處理裝置來(lái)評(píng)估局部有效光源的圖像，以確定照明系統(tǒng)的性能。
本發(fā)明還涉及與本方法一起使用的測(cè)試目標(biāo)、制造包括該測(cè)量方法的設(shè)備的方法以及利用該制造方法所制造的設(shè)備。
將局部有效光源理解為表示波的分布，由此表示照明系統(tǒng)在測(cè)試目標(biāo)平面中形成的輻射的分布。
US-A6048651涉及這種用于測(cè)試集成電路光刻法中所使用的精確圖像投影裝置的照明系統(tǒng)的方法。光學(xué)成像系統(tǒng)可以包括折射元件、反射元件或者這些元件的組合。以投影系統(tǒng)形式的、具有大量的透鏡或反射鏡的光學(xué)成像系統(tǒng)用于光刻投影裝置中，該系統(tǒng)稱作晶片步進(jìn)器或者晶片步進(jìn)掃描器。在下文中，用于這種裝置的投影系統(tǒng)將被稱作投影透鏡，其可以是透鏡系統(tǒng)或者反射鏡系統(tǒng)或者包括透鏡和反射鏡的系統(tǒng)。光刻投影裝置尤其用于制造集成電路或者IC。在光刻投影裝置中，多次將存在于產(chǎn)品掩模中的產(chǎn)品掩模圖案成像到襯底或晶片頂部上的抗蝕劑層中，每次在不同的區(qū)域成像，這些區(qū)域還稱作IC區(qū)域、照射區(qū)域或者印模區(qū)域。利用投影(成像)系統(tǒng)和波長(zhǎng)在UV范圍內(nèi)(例如365nm)或者深UV范圍內(nèi)(例如248nm、193nm或157nm)的投影光束進(jìn)行投影。
IC制造的目的在于提供具有不斷提高的信號(hào)處理速度并且包括數(shù)量不斷增長(zhǎng)的電子組件的IC。為了實(shí)現(xiàn)這個(gè)目的，希望提高IC的表面積以及降低組件的尺寸。對(duì)于投影裝置而言，這表示必須提高其投影透鏡的像場(chǎng)和分辨率，從而可以以明確的方式將日益變小的零件或者線寬度成像到日益變大的像場(chǎng)中。這意味著需要滿足非常嚴(yán)格的質(zhì)量要求并且具有可忽略的像差(諸如彗形球差、彗差和像散)的投影透鏡。用于測(cè)量投影透鏡性能的有效方法和系統(tǒng)已經(jīng)在前面有所描述。
對(duì)于想成像所設(shè)想的更小細(xì)節(jié)而言，照明系統(tǒng)的質(zhì)量和其相對(duì)于投影系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)同樣變得更為重要。用于光刻投影裝置中的照明系統(tǒng)包括輻射光源、用于將光源提供的輻射集中為照明光束的透鏡或反射鏡聚光器系統(tǒng)，以及用于使光束橫截面上的輻射分布均勻的所謂的積分器。當(dāng)前的光刻投影裝置使用所謂的柯勒照明，即將輻射光源成像到投影透鏡的光瞳平面中。該照明系統(tǒng)在掩模圖案的平面中生成源輻射平面波的分布，該分布稱作局部有效光源。照明系統(tǒng)中的像差改變了所述的分布并且由此造成掩模圖案平面上有效光源形狀的變化，從而造成投影透鏡場(chǎng)上有效光源形狀的變化。
為了測(cè)試照明系統(tǒng)，US-A6048651使用了具有菲涅耳透鏡結(jié)構(gòu)的光掩模，其取代了具有IC圖案的光掩模，其在本專利中稱作菲涅耳帶靶(FZT)。由所要測(cè)試的照明系統(tǒng)照射該光掩模并且由投影透鏡將其成像到像平面中，以及評(píng)估像平面中的輻射分布以確定照明系統(tǒng)的調(diào)整，該分布稱作光瞳圖。為了進(jìn)行評(píng)估，在像平面中可以設(shè)置抗蝕劑涂敷的晶片、光敏膜或者電子圖像傳感器。
本發(fā)明的目的是提供一種如本說(shuō)明書開篇段落中所述的方法，其具有比US-A6048651的方法更多的能力，即可以測(cè)量更多的照明系統(tǒng)參數(shù)。這種方法的特征在于提供測(cè)試目標(biāo)的步驟，包括提供對(duì)于每個(gè)菲涅耳帶透鏡具有基準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)試目標(biāo)，以及在成像步驟中包括在檢測(cè)設(shè)備的視場(chǎng)內(nèi)成像菲涅耳帶透鏡和相應(yīng)基準(zhǔn)標(biāo)記區(qū)域。
將在檢測(cè)系統(tǒng)的視場(chǎng)中成像理解為彼此接近地成像菲涅耳帶透鏡和基準(zhǔn)標(biāo)記，使得檢測(cè)設(shè)備可以將它們作為一幅組合圖像進(jìn)行觀察，可以將該組合圖像作為一個(gè)圖像進(jìn)行評(píng)估。
在像平面中的明確位置處成像屬于菲涅耳帶透鏡的基準(zhǔn)標(biāo)記使得以簡(jiǎn)單的方式就可確定菲涅耳圖像的位置，該標(biāo)記具有相對(duì)于菲涅耳帶透鏡的明確位置?？梢詫⒒鶞?zhǔn)標(biāo)記圖像的中心用作二維坐標(biāo)系的原點(diǎn)并且利用該坐標(biāo)系的原點(diǎn)和軸確定有效光源圖像的形狀和尺寸。
菲涅耳帶透鏡和基準(zhǔn)標(biāo)記可以彼此相接地成像。然而，本方法的優(yōu)選實(shí)施例的特征在于重疊地成像菲涅耳帶透鏡區(qū)域和相應(yīng)的基準(zhǔn)標(biāo)記區(qū)域。
因?yàn)榫植坑行Ч庠吹膱D像位置不需要“平移”到基準(zhǔn)標(biāo)記的位置，所以可以更精確和更快地進(jìn)行測(cè)量。局部有效光源和基準(zhǔn)標(biāo)記的重疊成像可以測(cè)量遠(yuǎn)心誤差?？梢詫⑦h(yuǎn)心誤差理解為表示形成在投影透鏡光瞳中的輻射光源圖像的中心與該光瞳中心之間的偏差。遠(yuǎn)心誤差可以造成圖像失真，其隨著焦點(diǎn)的變化而變化并且可能會(huì)影響掩模圖案相對(duì)于襯底或晶片對(duì)準(zhǔn)的精度。
由相對(duì)于彼此以90°角設(shè)置的小線段形成基準(zhǔn)標(biāo)記，該線可以是不同的線或者共同形成方形的線。只要該基準(zhǔn)標(biāo)記具有清晰可辨的中心，其可以是任意的形狀。
優(yōu)選的是，該方法進(jìn)一步的特征在于該基準(zhǔn)標(biāo)記是環(huán)形標(biāo)記。
這可以將應(yīng)為圓形的局部有效光源的圖像形狀與環(huán)形基準(zhǔn)標(biāo)記(下文中基準(zhǔn)環(huán))的圖像的圓形輪廓線進(jìn)行比較。這樣，可以確定照明系統(tǒng)的不同類型的像差。
優(yōu)選的是，該方法的特征在于在等于菲涅耳帶透鏡的焦距的距離上散焦地成像該測(cè)試目標(biāo)，并且以最佳的聚焦條件成像該基準(zhǔn)掩模。
這樣在投影系統(tǒng)的像平面中就會(huì)形成局部有效光源的清晰圖像。
該方法的優(yōu)選實(shí)施例的特征在于為了成像菲涅耳帶透鏡，使用了基本大于用于成像基準(zhǔn)標(biāo)記的照明量的照明量。
這樣，同樣使得照明光源的圖像足夠亮，從而可以可靠地檢測(cè)該圖像。
為了局部有效光源的成像，使用成像系統(tǒng)，該成像系統(tǒng)的可能傳輸誤差會(huì)影響照明系統(tǒng)測(cè)量的結(jié)果。為了消除或充分減小這種傳輸誤差的影響，本方法的實(shí)施例使用了具有大量菲涅耳帶透鏡和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于設(shè)法將來(lái)自每個(gè)菲涅耳帶透鏡的輻射以不同角度引導(dǎo)通過(guò)成像系統(tǒng)的光瞳。
來(lái)自多個(gè)菲涅耳帶透鏡的大量子光束全部通過(guò)該成像系統(tǒng)的可能的傳輸誤差區(qū)域，使得這些誤差的影響分布在該組合圖像上，并且因此消除了影響。
可選擇的是，該方法的特征在于在測(cè)量照明系統(tǒng)之前，由漫射輻射照射該成像系統(tǒng)并且測(cè)量在其像平面中的輻射分布，以檢測(cè)照明系統(tǒng)的傳輸誤差，并且根據(jù)所述傳輸誤差校正照明系統(tǒng)測(cè)量的結(jié)果。
根據(jù)本方法的兩個(gè)主要實(shí)施例可以對(duì)測(cè)試目標(biāo)的圖像進(jìn)行評(píng)估。第一個(gè)主要實(shí)施例的特征在于評(píng)估該測(cè)試目標(biāo)圖像的步驟包括以下子步驟-將輻射光源成像到抗蝕劑層中并且使抗蝕劑顯影；-利用具有比成像系統(tǒng)的分辨率更高的檢測(cè)設(shè)備掃描抗蝕劑結(jié)構(gòu)，-分析檢測(cè)設(shè)備提供的數(shù)據(jù)，以便確定可能存在于源圖像中的不同像差的類型和量。
將更高的分辨率理解為可以對(duì)更小的細(xì)節(jié)進(jìn)行檢測(cè)。
第二個(gè)主要實(shí)施例的特征在于評(píng)估測(cè)試目標(biāo)圖像的步驟包括以下子步驟-在輻射敏感檢測(cè)器上形成虛像；-掃描該虛像，和-分析檢測(cè)器提供的數(shù)據(jù)，以便確定可能存在于源圖像中的不同像差的類型和量。
這個(gè)實(shí)施例進(jìn)一步的特征在于形成虛像的步驟包括在分離的檢測(cè)器區(qū)域上同時(shí)形成虛像。
這樣就可以測(cè)量局部有效光源在整個(gè)投影系統(tǒng)場(chǎng)上的變化。
這種新穎的方法特別適于測(cè)量光刻投影裝置的照明系統(tǒng)的性能。這種用途的方法的實(shí)施例的特征在于-提供測(cè)試目標(biāo)的步驟包括提供包括至少一個(gè)測(cè)試目標(biāo)的掩模，和-將測(cè)試目標(biāo)設(shè)置在物平面中的步驟包括將這個(gè)掩模設(shè)置在投影裝置的掩模保持器中。
本方法的實(shí)施例的特征在于利用了測(cè)試目標(biāo)，其構(gòu)成了部分測(cè)試掩模。
測(cè)試掩模，或者分劃板可以包括大量菲涅耳帶透鏡，并且可以進(jìn)行不同類型的測(cè)量。
一個(gè)可選實(shí)施例的特征在于利用了測(cè)試目標(biāo)，其構(gòu)成了部分產(chǎn)品掩模。
這樣不需要插入特殊測(cè)試掩模以及將其從投影裝置中除去，由此使得測(cè)量快速。
本發(fā)明還涉及一種用于實(shí)施這種方法的系統(tǒng)。該系統(tǒng)的特征在于其包括以下的組合-照明系統(tǒng)構(gòu)成了其一部分的裝置；-具有至少一個(gè)菲涅耳帶透鏡的測(cè)試目標(biāo)和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記；-用于檢測(cè)由菲涅耳透鏡形成的局部有效光源圖像的強(qiáng)度輪廓和基準(zhǔn)標(biāo)記圖像的強(qiáng)度輪廓的檢測(cè)裝置；-圖像處理器，連接于檢測(cè)裝置，用于存儲(chǔ)和分析所觀察到的圖像，并且包括用于處理關(guān)于該所觀察到的圖像的信息的分析裝置，以確定該照明系統(tǒng)可能表現(xiàn)出的不同種類的像差。
這種系統(tǒng)的第一實(shí)施例的特征在于該檢測(cè)裝置包括用于接收由至少一個(gè)菲涅耳透鏡形成的源圖像和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的圖像的抗蝕劑層，以及用于掃描該抗蝕劑層中形成并顯影的所述圖像的掃描檢測(cè)設(shè)備。
優(yōu)選的是，該掃描檢測(cè)設(shè)備是掃描電子顯微鏡。
這種系統(tǒng)的第二實(shí)施例的特征在于該檢測(cè)裝置包括用于接收由菲涅耳透鏡所形成的源虛像和基準(zhǔn)標(biāo)記的虛像的輻射敏感檢測(cè)器。
所述實(shí)施例的進(jìn)一步的特征在于該檢測(cè)器是掃描點(diǎn)檢測(cè)器。
該系統(tǒng)的另一實(shí)施例的特征在于該測(cè)試目標(biāo)包括大量菲涅耳帶透鏡和相關(guān)的基準(zhǔn)標(biāo)記，其中該檢測(cè)器是掃描組合檢測(cè)器，其包括輻射敏感部件以及大量透明點(diǎn)狀區(qū)域，其對(duì)應(yīng)于測(cè)試目標(biāo)中菲涅耳帶透鏡的數(shù)量。
這個(gè)實(shí)施例進(jìn)一步的特征在于該輻射敏感部件是覆蓋全部透明區(qū)域的單獨(dú)元件。
可選擇的是，這個(gè)實(shí)施例的特征在于該輻射敏感部件由大量子部件構(gòu)成，其數(shù)量對(duì)應(yīng)于透明區(qū)域的數(shù)量。
這個(gè)實(shí)施例進(jìn)一步的特征在于透明區(qū)域相對(duì)于相應(yīng)子部件中心的位置對(duì)于不同的透明區(qū)域/子部件對(duì)而言是不同的。
這種新穎的方法非常適于結(jié)合測(cè)量設(shè)備來(lái)使用，其特征在于其具有產(chǎn)品襯底的形狀和尺寸，并且包括電子信號(hào)處理裝置、電源裝置、接口裝置和至少一個(gè)用于檢測(cè)由菲涅耳透鏡形成的源虛像和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的虛像的強(qiáng)度輪廓的檢測(cè)器。
這種測(cè)量設(shè)備可以稱作檢測(cè)器晶片并且可以按照與普通晶片相同的方式通過(guò)光刻投影裝置進(jìn)行傳送。該傳感器晶片的至少一個(gè)檢測(cè)器可以具有如上所述的檢測(cè)器結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明還涉及與這種新穎的方法一起使用的測(cè)試目標(biāo)。這個(gè)測(cè)試目標(biāo)的特征在于其包括至少一個(gè)菲涅耳帶透鏡以及相關(guān)的基準(zhǔn)標(biāo)記。
該測(cè)試目標(biāo)的第一實(shí)施例的特征在于將其作為測(cè)試掩模來(lái)實(shí)施。
該測(cè)試目標(biāo)的第二實(shí)施例的特征在于其構(gòu)成了部分產(chǎn)品掩模。
該測(cè)試目標(biāo)進(jìn)一步的特征在于其具有振幅結(jié)構(gòu)。
可選擇的是，該測(cè)試目標(biāo)的特征在于其具有相位結(jié)構(gòu)。
該測(cè)試目標(biāo)進(jìn)一步的特征在于其為傳輸目標(biāo)。
可選擇的是，該測(cè)試目標(biāo)的特征在于其為反射目標(biāo)。
本發(fā)明還涉及一種制造設(shè)備的方法，該設(shè)備包括在設(shè)備襯底的至少一個(gè)襯底層中的設(shè)備特征，該方法包括以下連續(xù)步驟中的至少一組-提供產(chǎn)品掩模圖案，其包括對(duì)應(yīng)于將要配置在所述層中的設(shè)備特征的特征；-利用受控照明系統(tǒng)照射該產(chǎn)品掩模圖案；-利用投影系統(tǒng)將產(chǎn)品掩模圖案成像到涂敷在襯底上的抗蝕劑層中，并且顯影該層，由此形成對(duì)應(yīng)于產(chǎn)品掩模圖案的構(gòu)圖涂層；-從襯底層的區(qū)域去除材料，或者向該區(qū)域添加材料，該區(qū)域是由構(gòu)圖涂層的圖案所劃分的，所述照明系統(tǒng)的控制包括檢測(cè)照明系統(tǒng)的像差并且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果重新設(shè)定該系統(tǒng)。這種方法的特征在于利用上文中所述的測(cè)量方法來(lái)進(jìn)行檢測(cè)。
本發(fā)明進(jìn)一步涉及用于將掩模中存在的產(chǎn)品掩模圖案成像到襯底上的光刻投影裝置，該裝置包括用于提供投影光束的受控照明系統(tǒng)、用于容納掩模的掩模保持器、用于容納襯底的襯底保持器以及設(shè)置在掩模保持器與襯底保持器之間的投影系統(tǒng)，所述照明系統(tǒng)的控制包括檢測(cè)照明系統(tǒng)的像差并且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果重新設(shè)定該系統(tǒng)。這種裝置的特征在于利用上文中所述的測(cè)量方法進(jìn)行檢測(cè)。
同樣利用上述光刻方法和裝置中的本發(fā)明的測(cè)量方法，可以獲得更明確的設(shè)備，本發(fā)明也可以具體化為這種設(shè)備。
參照下文中所述的實(shí)施例，通過(guò)非限定性實(shí)例將解釋說(shuō)明本發(fā)明的這些以及其它方面，并使它們顯而易見。
在附圖中

圖1示意性示出了包括照明系統(tǒng)的光刻投影裝置的實(shí)施例，利用該方法可以測(cè)量其性能；圖2示出了僅包括理解本發(fā)明所需的元件的這種裝置的簡(jiǎn)化實(shí)施例；圖3示出了菲涅耳帶透鏡對(duì)于來(lái)自該裝置照明系統(tǒng)的平面波的影響；圖4示出了菲涅耳帶透鏡的原理；圖5a示出了包括一個(gè)菲涅耳帶透鏡和相關(guān)基準(zhǔn)環(huán)的測(cè)試目標(biāo)的一部分；圖5b示出了這個(gè)菲涅耳帶透鏡和形成在抗蝕劑層中的環(huán)的重疊圖像；圖6示出了包括大量菲涅耳帶透鏡和相關(guān)基準(zhǔn)環(huán)的測(cè)試分劃板形式的測(cè)試目標(biāo)；圖7a、7b和7c示出了不同類型的照明光源的圖像；圖8示出了具有楔的測(cè)試目標(biāo)；圖9示出了所述具有漫射表面的測(cè)試目標(biāo)，和圖10示出了與本方法一起使用的傳感器晶片。
在圖1的示意圖中，僅表示了光刻投影或曝光裝置的最重要的模塊。這種裝置包括投影列，其中容納了投影系統(tǒng)，例如透鏡投影系統(tǒng)PL。在這個(gè)系統(tǒng)之上，設(shè)置了用于支撐掩模MA的掩模保持器MH，該掩模包括所要成像的掩模圖案C。該掩模圖案是對(duì)應(yīng)于將要配置在襯底層或者晶片層W中的特征的特征圖案。該掩模保持器構(gòu)成了部分掩模臺(tái)MT。襯底臺(tái)WT設(shè)置在投影透鏡系統(tǒng)下方的投影列中。該襯底臺(tái)具有用于保持襯底(例如半導(dǎo)體晶片)W的襯底保持器WH。輻射敏感層PR，例如光抗蝕劑層涂敷在襯底上。掩模圖案C應(yīng)當(dāng)在抗蝕劑層中多次成像，每次都成像在另一IC區(qū)域或印模Wd中。該襯底臺(tái)可以在X和Y方向上移動(dòng)，由此在將掩模圖案成像在IC區(qū)域中之后，可以將下一IC區(qū)域放置在掩模圖案和投影系統(tǒng)下。
該裝置還包括照明系統(tǒng)IS，其包括輻射光源LA，例如汞燈或者受激準(zhǔn)分子激光器(如氪-氟化物受激準(zhǔn)分子激光器)，還包括透鏡系統(tǒng)LS、反射器RE和聚光透鏡CO。該照明系統(tǒng)可以包括所謂的積分器，即將來(lái)自光源的內(nèi)部和外部的光束部分混合使得該光束得到均勻的強(qiáng)度分布的元件。照明系統(tǒng)提供的照明或曝光光束PB照射掩模圖案C。該投影系統(tǒng)PL將該圖案成像到襯底W上的IC區(qū)域中。
該裝置還設(shè)有大量測(cè)量系統(tǒng)。第一測(cè)量系統(tǒng)是一種用于確定在XY平面中襯底相對(duì)于掩模圖案C的對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量系統(tǒng)。第二測(cè)量系統(tǒng)是一種用于測(cè)量襯底的X和Y位置以及方向的干涉計(jì)系統(tǒng)IF。還存在用于確定投影系統(tǒng)的聚焦或圖像場(chǎng)與襯底上的輻射敏感層PR之間的偏差的聚焦誤差檢測(cè)系統(tǒng)(未示出)。這些測(cè)量系統(tǒng)是伺服系統(tǒng)的部件，該伺服系統(tǒng)包括電子信號(hào)處理和控制電路以及致動(dòng)器，利用它們借助測(cè)量系統(tǒng)發(fā)出的信號(hào)來(lái)校正襯底和焦點(diǎn)的位置和方向。
對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)在掩模MA中使用了兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M1和M2，該標(biāo)記示于圖1右上部分中。這些標(biāo)記為例如衍射光柵，但是也可以由其它標(biāo)記構(gòu)成，如方形或者條紋(stroke)，它們?cè)诠鈱W(xué)上與其周圍不同。優(yōu)選的是，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記是二維的，即它們?cè)趦蓚€(gè)相互垂直的方向上延伸，即圖1中的X和Y方向。襯底W包括至少兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其中的兩個(gè)P1，P2在圖1中示出。這些標(biāo)記位于必須形成掩模圖案的圖像的襯底W的區(qū)域之外。優(yōu)選的是，光柵標(biāo)記P1和P2是相位光柵，光柵標(biāo)記M1和M2是振幅光柵。對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)可以是雙系統(tǒng)，其中兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)光束b和b’分別用于檢測(cè)襯底標(biāo)記P2相對(duì)于掩模標(biāo)記M2的對(duì)準(zhǔn)以及用于檢測(cè)襯底標(biāo)記P1相對(duì)于掩模標(biāo)記M1的對(duì)準(zhǔn)。在穿過(guò)對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)之后，每個(gè)對(duì)準(zhǔn)光束分別入射到輻射敏感檢測(cè)器3和3’上。每個(gè)檢測(cè)器將相關(guān)的光束轉(zhuǎn)變成電信號(hào)，其表示襯底標(biāo)記相對(duì)于掩模標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)程度，由此表示了襯底相對(duì)于掩模的對(duì)準(zhǔn)程度。US-A4778275中描述了雙對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)，參考該文獻(xiàn)以獲得關(guān)于該系統(tǒng)的更多詳細(xì)情況。
為了精確地確定襯底的X和Y位置，該光刻裝置包括多軸干涉計(jì)系統(tǒng)，其由圖1中的塊IF示意性表示。雙軸干涉計(jì)系統(tǒng)在US-A4251160中有描述并且在US-A4737823中還描述了三軸干涉計(jì)系統(tǒng)。在EP-A0498499中描述了五軸干涉計(jì)系統(tǒng)，利用所述系統(tǒng)可以非常精確地測(cè)量沿著X和Y軸的移動(dòng)以及圍繞Z軸的旋轉(zhuǎn)和關(guān)于X和Y軸的傾斜。
如圖1所示，將干涉計(jì)系統(tǒng)的輸出信號(hào)Si和對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)的信號(hào)S3和S3’提供給信號(hào)處理電路SPU，例如微型計(jì)算機(jī)，其將這些信號(hào)處理成致動(dòng)器AC的控制信號(hào)Sac。該致動(dòng)器通過(guò)襯底臺(tái)WT在XY平面上移動(dòng)襯底保持器WH。
采用上述聚焦誤差檢測(cè)系統(tǒng)的輸出信號(hào)來(lái)校正聚焦誤差，例如通過(guò)在Z方向上使投影透鏡系統(tǒng)與襯底彼此相對(duì)移動(dòng)，或者通過(guò)在Z方向上移動(dòng)投影系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)透鏡元件。在US-A4356392中描述了可以固定到投影透鏡系統(tǒng)上的聚焦誤差檢測(cè)系統(tǒng)。在US-A51911200中描述了一種檢測(cè)系統(tǒng)，利用該系統(tǒng)可檢測(cè)聚焦誤差和襯底的局部?jī)A斜。
為了提高設(shè)備的操作速度和/或提高該設(shè)備中的組件數(shù)目，要求不斷減少零件、減小設(shè)備特征或線的寬度以及相鄰設(shè)備特征之間的距離。光刻投影裝置(圖1表示了一個(gè)實(shí)例)能夠以令人滿意的方式成像的細(xì)節(jié)的微小程度是由投影系統(tǒng)的成像質(zhì)量和分辨能力來(lái)確定的。常規(guī)上，通過(guò)提高數(shù)值孔徑NA和/或減少投影輻射的波長(zhǎng)已經(jīng)提高了分辨能力或分辨率。實(shí)際上很難期望再提高數(shù)值孔徑，并且進(jìn)一步減少投影光束的波長(zhǎng)會(huì)帶來(lái)許多新的問題。
利用仍可制造的投影系統(tǒng)成像更小的圖案細(xì)節(jié)的最新發(fā)展是使用步進(jìn)掃描光刻裝置取代步進(jìn)光刻裝置。在步進(jìn)裝置中，使用了全場(chǎng)照明；即在一次操作中照射整個(gè)掩模圖案并且將其作為整體成像到襯底的IC區(qū)域上。在曝光了第一IC區(qū)域之后，向下一IC區(qū)域步進(jìn)，即按照將下一IC區(qū)域放置在掩模圖案之下的方式移動(dòng)襯底保持器。然后曝光這個(gè)IC區(qū)域等等，直到襯底的全部IC區(qū)域具有掩模圖案的圖像為止。在步進(jìn)掃描裝置中，僅照射掩模圖案的矩形或者圓形段狀區(qū)域部分，由此每次曝光襯底IC區(qū)域的相應(yīng)子區(qū)域。掩模圖案和襯底同步移動(dòng)通過(guò)投影光束，同時(shí)考慮投影系統(tǒng)的放大率。在連續(xù)過(guò)程中，每次將隨后的掩模圖案的子區(qū)域成像到相關(guān)IC區(qū)域的相應(yīng)子區(qū)域上。在按照這種方式將整個(gè)掩模圖案成像到IC襯底區(qū)域上之后，襯底保持器進(jìn)行步進(jìn)移動(dòng)，即下一IC區(qū)域開始在投影光束中移動(dòng)。然后，例如將掩模設(shè)置在其初始位置，隨后掃描曝光所述下一IC區(qū)域。如在步進(jìn)掃描方法中，僅使用像場(chǎng)的中心部分，由此僅需要校正這個(gè)部分的光學(xué)像差，可以采用較大的數(shù)值孔徑。這樣，可以在一定程度上降低根據(jù)所需質(zhì)量成像的設(shè)備特征及其間隙的寬度。
為了可以最佳地使用投影透鏡的功能，即將掩模圖案的非常精細(xì)的細(xì)節(jié)成像到抗蝕劑層中的功能，照明系統(tǒng)應(yīng)當(dāng)表現(xiàn)出高性能的質(zhì)量，并且該系統(tǒng)應(yīng)當(dāng)可以相對(duì)于投影透鏡的光軸精確對(duì)準(zhǔn)。投影透鏡所能成像的細(xì)節(jié)越小，對(duì)于投影系統(tǒng)的要求就越高。
圖2示出了光刻投影裝置的視圖，其中使用了所謂的柯勒照明，其為當(dāng)前的晶片步進(jìn)器和晶片步進(jìn)和掃描器中主要使用的照明類型?？吕照彰鞅硎緦⒄彰飨到y(tǒng)的輻射光源成像到投影透鏡的光瞳平面中。光瞳由圖2中的Pu表示。在這個(gè)實(shí)施例中，輻射光源提供環(huán)形光束，其由環(huán)形光源AC表示。利用環(huán)形光束的照明具有提高投影系統(tǒng)的分辨率的優(yōu)點(diǎn)，即可以成像更小的細(xì)節(jié)。
如圖3所示，提供了照明光束，其由平面波PW的分布組成。在掩模圖案或分劃板高度的分布稱作局部有效光源。這種分布是由照明系統(tǒng)的特性決定的。這種系統(tǒng)的像差造成分布的變化。因此，照明系統(tǒng)像差導(dǎo)致了在投影裝置的場(chǎng)上光源形狀的變化。由于印刷線，即由投影透鏡在抗蝕劑層中形成的線的寬度取決于在掩模圖案或分劃板中相關(guān)線的位置處有效光源的形狀，所以聚光器像差有助于投影透鏡場(chǎng)上印刷線寬度的變化。為了消除這種線寬度變化或?qū)⑵錅p小到可接受的水平，應(yīng)當(dāng)確定照明系統(tǒng)的像差，并且應(yīng)當(dāng)設(shè)法減少或消除這些像差。這些像差包括照明系統(tǒng)相對(duì)于成像系統(tǒng)的傾斜、遠(yuǎn)心誤差以及聚焦誤差，遠(yuǎn)心誤差在像場(chǎng)上是恒定的，聚焦誤差造成離軸圖像的缺陷。
通過(guò)確定投影透鏡光瞳平面中的輻射分布可以測(cè)量照明系統(tǒng)像差。然而，通常這個(gè)平面是不可達(dá)到的。已知的解決這個(gè)問題的方法是利用設(shè)置在分劃板平面中的附加透鏡來(lái)再次成像有效光源。用于再次成像的最簡(jiǎn)單的透鏡裝置是不透明分劃板中的透明孔。該孔的最佳直徑R由以下條件給出，利用該孔形成的輻射光點(diǎn)的尺寸等于衍射極限光點(diǎn)的尺寸R≈(λF)1/2(1)其中入是源輻射的波長(zhǎng)，F(xiàn)是孔與形成光點(diǎn)的平面之間的距離。
如果菲涅耳帶透鏡取代了單獨(dú)的孔，則透鏡性能得到了改進(jìn)，因此獲得了改進(jìn)的輻射光源圖像。菲涅耳帶板的振幅類型包括中央圓形區(qū)域和多個(gè)環(huán)形帶，這些環(huán)形帶交替地為透明和不透明的。在圖3中，這種菲涅耳透鏡由曲面透鏡元件30表示，其會(huì)聚與晶片WA上的一個(gè)平面波PW相關(guān)的輻射。晶片上方的曲面ID表示由菲涅耳帶透鏡與投影透鏡的組合形成的圖像的強(qiáng)度分布。為了清楚起見，從圖3中省略了后者。
圖4非常示意性地示出了帶透鏡30，其由板32構(gòu)成，該板包括中央圓形帶32和多個(gè)交替的透明和不透明的環(huán)形帶，其中僅表示了六個(gè)帶34-39。選擇帶的半徑Rm使得從(物)點(diǎn)S經(jīng)由帶數(shù)m傳播到(像)點(diǎn)P的平面波與沿著光軸傳播的波具有m.λ/2的相位差。因?yàn)橥该鲙烤哂衅鏀?shù)或偶數(shù)，所以通過(guò)透明帶的波全部在點(diǎn)P相加干涉。這些帶的半徑由以下表達(dá)式給出R2m＝m.λ.f+(m2λ2)/4≈m.λ.f(2)為了利用菲涅耳透鏡進(jìn)行成像，“薄透鏡等式”為1/ρ0+1/r0＝1/f，with f＝R2m/(m.λ) (3)因此平面波聚焦在與該透鏡距離為f處的平面中，即菲涅耳帶透鏡的焦距。
實(shí)際上，選擇焦距f使其在投影透鏡的散焦值范圍內(nèi)，投影裝置的聚焦系統(tǒng)可以補(bǔ)償該散焦值范圍。典型的范圍是從標(biāo)稱焦點(diǎn)-30μm延伸到+30μm。因此菲涅耳帶透鏡的焦距可以是15μm。菲涅耳透鏡帶的數(shù)量，在實(shí)際實(shí)施例中例如為5個(gè)，其為在該透鏡的分辨率與具有較大數(shù)量的帶和相應(yīng)較大NA的菲涅耳透鏡所具有的離軸像差之間的折中方案。
為了確定照明系統(tǒng)的像差，利用菲涅耳帶透鏡和投影透鏡在襯底頂部上的抗蝕劑層中使輻射光源成像。當(dāng)前用于投影光刻法中的參數(shù)是相干值σ，其為照明光束填充投影透鏡光瞳的程度的量度。如果光束填充了整個(gè)光瞳，則σ＝1，但是通常σ＜1。平面波PW入射到菲涅耳帶透鏡30(圖3)上的角度α可以由以下表達(dá)式表示
Sinα＝σ.NA.M (4)其中M是成像系統(tǒng)的放大率。該平面波在與光軸距離為r處聚焦r＝(f.σ.NA)/(1-σ2.NA2)1/2(5)對(duì)于具有數(shù)值孔徑NA＝0.63、相干值σ＝1的投影透鏡的投影裝置而言，輻射光源的圖像在晶片高度處具有24μm的直徑。注意與σ和NA的這些值相關(guān)的入射角α相當(dāng)大，并且實(shí)際上選擇較小的入射角來(lái)避免由菲涅耳帶透鏡引入的像差。這表示輻射光源圖像的直徑將小于所述的24μm。
根據(jù)本發(fā)明，除了局部有效光源之外，還成像存在于測(cè)試分劃板或測(cè)試目標(biāo)中以及與菲涅耳帶透鏡相關(guān)的基準(zhǔn)標(biāo)記。彼此接近地成像局部有效光源和基準(zhǔn)標(biāo)記，即在檢測(cè)設(shè)備的像場(chǎng)中成像，使得該設(shè)備可以將它們作為一個(gè)組合圖像觀察到。在像平面中明確的位置上成像屬于菲涅耳帶透鏡的基準(zhǔn)標(biāo)記可以以簡(jiǎn)單的方式確定菲涅耳的圖像位置，該標(biāo)記具有相對(duì)于菲涅耳帶透鏡的明確位置?；鶞?zhǔn)標(biāo)記圖像的中心可以用作二維坐標(biāo)系的原點(diǎn)，并且利用該坐標(biāo)系的原點(diǎn)和軸可以確定有效光源圖像的形狀和尺寸。
可以彼此相接地成像菲涅耳帶透鏡和基準(zhǔn)標(biāo)記。優(yōu)選的是，重疊地成像菲涅耳帶透鏡區(qū)域和相應(yīng)的基準(zhǔn)標(biāo)記區(qū)域。這樣就可以更精確、更快地測(cè)量，這是因?yàn)榫植坑行Ч庠吹膱D像位置不需要“平移”到基準(zhǔn)標(biāo)記的位置。局部有效光源和基準(zhǔn)標(biāo)記的重疊成像允許測(cè)量遠(yuǎn)心誤差。
可以由相對(duì)于彼此以90°角設(shè)置的小線段形成基準(zhǔn)標(biāo)記，該線可以是分離的線或者共同形成方形的線。如果該基準(zhǔn)標(biāo)記具有清晰可辨的中心，則其可以具有任意的形式。
然而，該基準(zhǔn)標(biāo)記優(yōu)選為環(huán)形標(biāo)記。
這就可以將應(yīng)為圓形的局部有效光源的圖像形狀與環(huán)形基準(zhǔn)標(biāo)記(下文中基準(zhǔn)環(huán))的圖像的圓形輪廓線進(jìn)行比較。這樣，可以確定照明系統(tǒng)的不同類型的像差。
圖5a示出了包括菲涅耳帶透鏡30和相關(guān)測(cè)試環(huán)40的一部分測(cè)試分劃板。如果λ＝248nm、f＝15μm，則菲涅耳帶透鏡的第一帶的半徑R為例如2μm的級(jí)別。由裝置的最大σ和NA值來(lái)確定測(cè)試環(huán)的直徑，該直徑大于菲涅耳帶區(qū)域的直徑，并且該裝置的照明系統(tǒng)即將被測(cè)量。測(cè)試環(huán)的中心與菲涅耳帶透鏡的中心之間的距離d為例如100μm。
圖5a所示的測(cè)試目標(biāo)可以由透明板構(gòu)成，例如玻璃或石英的透明板，其下側(cè)涂敷了不透明的層，例如鉻層。菲涅耳透鏡和基準(zhǔn)環(huán)包括透明區(qū)域和不透明層中的帶。取代這種透明/不透明結(jié)構(gòu)，即振幅結(jié)構(gòu)，還可以將相位結(jié)構(gòu)用作測(cè)試目標(biāo)。因此，整個(gè)測(cè)試目標(biāo)是透明的，并且菲涅耳帶透鏡和基準(zhǔn)環(huán)包括該板中的區(qū)域-和帶-凹進(jìn)。優(yōu)選的是，如果周圍的媒質(zhì)是折射率為1的空氣，則凹進(jìn)的深度為λ/4。取代凹進(jìn)，還可以使用凸起區(qū)域和帶，其與所述凹進(jìn)具有相同的面積和帶尺寸以及相同的相對(duì)于該板其它位置的高度差。
取代透射目標(biāo)，該測(cè)試目標(biāo)還可以是反射目標(biāo)。反射測(cè)試目標(biāo)將用于測(cè)量照明系統(tǒng)，該照明系統(tǒng)提供短波長(zhǎng)的輻射，以致于對(duì)于該波長(zhǎng)足夠透明的材料不可用。因此，照明系統(tǒng)和投影系統(tǒng)包括反射鏡，而不是透鏡。使用反射測(cè)試目標(biāo)來(lái)測(cè)量提供波長(zhǎng)為例如13nm的遠(yuǎn)紫外(EUV)輻射的照明系統(tǒng)。
為了實(shí)施測(cè)量，首先抗蝕劑層相對(duì)于投影透鏡在等于菲涅耳帶透鏡的焦距的距離(例如15μm)上散焦，這是通過(guò)將晶片臺(tái)從其標(biāo)稱位置沿著光軸移動(dòng)這段距離而實(shí)現(xiàn)的。通過(guò)菲涅耳帶透鏡在抗蝕劑層中形成了輻射光源的圖像。由于抗蝕劑層散焦的程度等于菲涅耳帶透鏡的焦距，因此這個(gè)圖像是清晰的圖像。然后，將晶片臺(tái)設(shè)到其標(biāo)稱Z位置，并且在X方向上移動(dòng)距離d。后一種移動(dòng)是由精確的X臺(tái)致動(dòng)器或電動(dòng)機(jī)以及X干涉計(jì)系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)的，這表示可以以納米精度實(shí)現(xiàn)這種移動(dòng)。目前基準(zhǔn)環(huán)的中心位于菲涅耳帶透鏡中心的前一位置。照射測(cè)試環(huán)導(dǎo)致了抗蝕劑中的第二圖像。
圖5b示出了基準(zhǔn)環(huán)的圖像45和由菲涅耳帶透鏡形成的局部有效光源的圖像50。源圖像的直徑例如為15μm的量級(jí)，環(huán)圖像的直徑為30μm的量級(jí)。利用掃描電子顯微鏡(SEM)可以評(píng)估組合圖像，該顯微鏡提供圖像處理和電子硬件和軟件的評(píng)估。這種SEM廣泛用于光刻法中，以用于評(píng)估由產(chǎn)品分劃板圖案或者部分圖案形成的測(cè)試圖像。為了實(shí)施照明系統(tǒng)測(cè)量方法，使用了適合并專用的軟件包。
在輻射光源的圖像上重疊成像基準(zhǔn)環(huán)提供了對(duì)于源圖像的位置具有標(biāo)記并且具有用于確定源圖像的偏移和變形的基準(zhǔn)的優(yōu)點(diǎn)。
由于清晰地成像了基準(zhǔn)環(huán)，所以對(duì)于這種成像可以使用標(biāo)稱照射量(投影光束PB的強(qiáng)度)。因?yàn)橥ㄟ^(guò)菲涅耳帶透鏡散焦地成像了光源，所以對(duì)于這種成像的照射量?jī)?yōu)選比標(biāo)稱照射量大得多，例如20倍。這是具有入射到抗蝕劑層中需要位置上的足夠輻射的安全極限。
除了在抗蝕劑層中成像，還可以利用菲涅耳帶透鏡形成的基準(zhǔn)環(huán)的虛像和輻射光源的虛像實(shí)施本方法。然后，排除抗蝕劑特性對(duì)于測(cè)量的可能影響。該虛像透射到輻射敏感檢測(cè)器上，該檢測(cè)器將該圖像轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘?hào)。將檢測(cè)器信號(hào)提供給與該檢測(cè)器相連的圖像處理和評(píng)估設(shè)備。這種檢測(cè)器的實(shí)例是圖像傳感器，其廣泛用于光刻投影裝置中，以評(píng)估該裝置的投影列的性能。以不同的時(shí)間間隔由檢測(cè)器掃描光源和基準(zhǔn)環(huán)的虛像，并且處理它們的數(shù)據(jù)，從而獲得了與圖5b所示的組合圖像相似的組合圖像。
在先前的WO專利申請(qǐng)No.02/01485(PHNL010996)中，其涉及利用測(cè)量測(cè)試特征圖像測(cè)量投影透鏡像差的方法，描述了幾種檢測(cè)器的實(shí)施例，該檢測(cè)器還可以與本發(fā)明的方法一起使用。
可以與用于測(cè)量照明系統(tǒng)的方法一起使用的第一種檢測(cè)器是掃描點(diǎn)檢測(cè)器。
如果測(cè)試目標(biāo)包括多個(gè)菲涅耳帶透鏡和相關(guān)的基準(zhǔn)環(huán)，則該檢測(cè)器可以是掃描組合檢測(cè)器，其包括輻射敏感部件和多個(gè)透明點(diǎn)狀區(qū)域，該區(qū)域?qū)?yīng)于測(cè)試目標(biāo)中菲涅耳帶透鏡的數(shù)量。
輻射敏感部件可以是覆蓋全部透明區(qū)域的單獨(dú)元件。
可選擇的是，該輻射敏感部件由多個(gè)子部件構(gòu)成，其數(shù)量對(duì)應(yīng)于透明區(qū)域的數(shù)量。
在同時(shí)形成局部有效光源的虛像的實(shí)施例中，如果使用了其中透明區(qū)域相對(duì)于相應(yīng)子部件中心的位置對(duì)于不同透明區(qū)域/子部件對(duì)各不相同的檢測(cè)器，則能夠同時(shí)接收這些圖像。
通過(guò)評(píng)估圖5b的組合圖像，新方法可以確定不同類型的可能的照明像差。如果基準(zhǔn)環(huán)圖像45和光源圖像50是共軸的，則照明系統(tǒng)和投影透鏡精確對(duì)準(zhǔn)。如果圖像50的中心相關(guān)于圖像45的中心發(fā)生偏移，則出現(xiàn)了所謂的遠(yuǎn)心誤差。這表示照明系統(tǒng)相對(duì)于該光軸發(fā)生傾斜。遠(yuǎn)心誤差造成取決于聚焦的圖像失真，其為特別是較大的圖案特征的偏移的形式，該偏移取決于聚焦，并且能夠影響在生產(chǎn)過(guò)程中的對(duì)準(zhǔn)或覆蓋精度。按照經(jīng)驗(yàn)法則較大(粗略)的特征會(huì)偏移大約Δσ.NA.ΔZ，其中ΔZ是焦點(diǎn)偏移。例如，如果NA＝0.6、ΔZ＝0.4μm，則1％的遠(yuǎn)心誤差造成粗略特征的線寬度變化。粗略特征例如為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。精細(xì)特征的偏移，即寬度接近投影透鏡分辨率的特征的偏移非常小，接近零。
可以利用本方法進(jìn)行測(cè)量的第二種像差是局部有效光源的尺寸在投影透鏡場(chǎng)上的變化。這種變化表示相干值的變化Δσ，并且造成成像特征或線寬度在投影透鏡場(chǎng)上的變化。例如，對(duì)于Δσ～1％，嚴(yán)格尺寸CD的線寬度變化ΔCD可以是ΔCD～1nm，該嚴(yán)格尺寸可以是最小尺寸的圖案。線寬度變化強(qiáng)烈取決于掩模圖案的間距或者周期性以及照明的類型，例如圓形、環(huán)形、偶極或四極照明。而且，隔離特征的線寬度變化以及密集特征的線寬度變化具有相反的符號(hào)。隔離特征是在線寬度的幾倍量級(jí)上的距離處不具有相鄰特征的掩模圖案特征。密集特征構(gòu)成了部分圖案，其中相鄰特征之間的距離是線寬度的幾倍，例如間距為310nm的圖案中寬度為130的線。
本發(fā)明還可以確定局部有效光源的輻射分布的偏差。這種偏差包括對(duì)于常規(guī)(圓形)光源或者環(huán)形光源而言，橢圓形取代了圓形，對(duì)于偶極或四極光源而言，極之間的不平衡，以及對(duì)于環(huán)形光源和多極光源而言，極的環(huán)面相對(duì)于幾何中心的偏心。這種偏差造成了IC圖案圖像的變形，以及H線(在X方向上延伸的水平線)和V線(在Y方向上延伸的垂直線)的線寬度的差。圖5b中源圖像的輪廓的變形表示照明系統(tǒng)自身中的缺陷，即該系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)元件中的缺陷或者位置或傾斜誤差。
為了測(cè)量由照明系統(tǒng)造成的場(chǎng)上變化，應(yīng)當(dāng)在抗蝕劑層中或者在圖像傳感器上形成如圖5b所示的多個(gè)組合圖像，每次在投影透鏡像場(chǎng)中的不同位置處形成圖像。優(yōu)選的是，利用包括相應(yīng)數(shù)量的菲涅耳帶透鏡和相關(guān)基準(zhǔn)環(huán)的分劃板獲得多個(gè)組合圖像。圖6顯示了這種分劃板的一個(gè)實(shí)施例。在該圖中，由封閉的(黑色)小圈表示菲涅耳帶透鏡30，并且由開放的小圈表示基準(zhǔn)環(huán)。通過(guò)照射菲涅耳帶透鏡和基準(zhǔn)環(huán)對(duì)的整個(gè)圖案，在一個(gè)步驟中獲得了所需的組合圖像，這表示可以減少測(cè)量所需的時(shí)間。為了對(duì)全部菲涅耳帶透鏡進(jìn)行同步成像，使用了相同的、優(yōu)選為高的照射量，以及為了對(duì)于全部基準(zhǔn)環(huán)進(jìn)行同步成像，使用了相同的標(biāo)稱照射量。
還可以多次成像相同的菲涅耳帶透鏡和相關(guān)基準(zhǔn)環(huán)，每次在抗蝕劑層中的不同位置處成像。然后，應(yīng)當(dāng)在連續(xù)照射之間步進(jìn)該測(cè)試目標(biāo)，這可能需要附加的裝置。在步進(jìn)掃描光刻裝置中，可以在一個(gè)方向上步進(jìn)分劃板。這個(gè)方法實(shí)施例可以每次以不同的量照射菲涅耳帶透鏡，同時(shí)為了連續(xù)照射基準(zhǔn)環(huán)，使用了相同的量。這樣可以增強(qiáng)該方法的測(cè)量能力。通過(guò)比較屬于不同量的強(qiáng)度輪廓，經(jīng)過(guò)比較抗蝕劑層中形成的組合圖像，可以確定照明系統(tǒng)在整個(gè)照射量范圍上的性能。
如已經(jīng)談到的，本方法可以用于測(cè)量不同類型的照明系統(tǒng)，如常規(guī)的、環(huán)形的、偶極或四極的系統(tǒng)。
圖7a示出了通過(guò)測(cè)量常規(guī)照明系統(tǒng)而獲得的組合圖像70的實(shí)例，該系統(tǒng)即提供具有圓形橫截面的照明光束的系統(tǒng)。如圖5a中一樣，利用菲涅耳帶透鏡形成的光源圖像由附圖標(biāo)記50表示，基準(zhǔn)環(huán)的圖像由附圖標(biāo)記45表示。圓52表示圖像源的最優(yōu)擬合輪廓。
圖7b示出了通過(guò)測(cè)量環(huán)形照明系統(tǒng)而獲得的組合圖像72的實(shí)例，該系統(tǒng)即提供具有環(huán)形橫截面的照明光束的系統(tǒng)。利用菲涅耳帶透鏡形成的源圖像具有環(huán)形形狀，其由附圖標(biāo)記74表示。
圖7c示出了通過(guò)測(cè)量四極照明系統(tǒng)而獲得的組合圖像75的實(shí)例，該系統(tǒng)即提供由四個(gè)子光束構(gòu)成的照明光束的系統(tǒng)，其設(shè)置在幾何中心周圍的四個(gè)象限中。該中心應(yīng)位于投影透鏡的光軸上。由子光束和菲涅耳帶透鏡形成的四個(gè)照明區(qū)域由附圖標(biāo)記76、77、78和79表示。
利用本方法獲得的與照明系統(tǒng)的傾斜和散焦有關(guān)的數(shù)據(jù)可以用于校正照明系統(tǒng)，以便去除測(cè)得的像差或?qū)⑵錅p少到可接受的水平。所要進(jìn)行的校正的種類取決于像差的種類并且可以包括相對(duì)于投影透鏡的光軸使系統(tǒng)偏移或傾斜、使成像系統(tǒng)的輻射光源偏移或傾斜以及相對(duì)彼此或輻射光源使該系統(tǒng)的光學(xué)組件偏移或傾斜。
在安裝了幾個(gè)光刻投影裝置的制造場(chǎng)所，這些裝置的照明系統(tǒng)可以全部利用相同的測(cè)試分劃板來(lái)進(jìn)行測(cè)量并校正，該分劃板包括一個(gè)或多個(gè)菲涅耳帶透鏡以及相關(guān)的基準(zhǔn)環(huán)。這樣，投影裝置的照明系統(tǒng)可以相互匹配。
由于菲涅耳帶透鏡和基準(zhǔn)環(huán)僅占據(jù)了分劃板的小面積，因此還可以將一個(gè)或多個(gè)菲涅耳透鏡和相關(guān)的基準(zhǔn)環(huán)(下文中的測(cè)量元件)設(shè)置在所生產(chǎn)的分劃板或掩模中，即具有帶有對(duì)應(yīng)于將要在設(shè)備制造過(guò)程中配置在襯底層中的特征的特征掩模圖案的掩模。這樣就可以在不使用特殊測(cè)試分劃板的情況下以及例如在開始對(duì)一批晶片進(jìn)行曝光處理時(shí)實(shí)施該方法。測(cè)量元件可以設(shè)置在不存在掩模圖案的特征的產(chǎn)品分劃板的邊界處。
關(guān)于成像局部有效光源和基準(zhǔn)環(huán)，使用了投影透鏡，該透鏡的像差會(huì)造成測(cè)量元件的圖像中的失真。為了可靠測(cè)量成像系統(tǒng)，應(yīng)當(dāng)測(cè)量投影透鏡像差，并且應(yīng)當(dāng)相應(yīng)地在測(cè)量成像系統(tǒng)之前校正該透鏡，使得僅測(cè)量后一種系統(tǒng)的像差。在US-A6248486中描述了一種用于測(cè)量投影透鏡像差的精確而可靠的方法。在SPIE Vol.3679，1999，第99-107頁(yè)中出版的標(biāo)題為“Measurement of effective source shiftusing a grating-pinhole mask”的論文中描述了一種直接測(cè)量有效光源的方法，不必首先測(cè)量投影透鏡的像差。這種方法使用了包括多個(gè)透明區(qū)域的掩模，在該透明區(qū)域中設(shè)置了光柵。這些區(qū)域具有兩個(gè)功能它們可用作針孔透鏡以及衍射光柵，將入射光束分成多個(gè)具有不同衍射級(jí)的子光束。在該論文的測(cè)量系統(tǒng)中，零級(jí)子光束通過(guò)投影透鏡光瞳的中心，四個(gè)第一級(jí)光束通過(guò)光瞳邊界處的不同區(qū)域。每個(gè)子光束具有低強(qiáng)度并且測(cè)量結(jié)果強(qiáng)烈取決于光柵的間距。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，因此還可以進(jìn)一步修改新方法，使得測(cè)量不會(huì)受到投影透鏡透射缺陷的影響，并且這種修改可以在不使用嚴(yán)格的測(cè)量元件和沒有輻射能量損失的情況下實(shí)現(xiàn)。為此，使用了包括用于每個(gè)菲涅耳帶透鏡的楔的測(cè)試分劃板。該楔具有不同的楔角，因此以不同的角度偏折通過(guò)了它們和相關(guān)菲涅耳帶透鏡的全部子光束。通過(guò)照射該測(cè)試分劃板，形成有效光源圖像的每個(gè)子光束通過(guò)與其它子光束不同的投影透鏡光瞳的另一區(qū)域。因此，這些圖像的集合包括關(guān)于投影透鏡透射缺陷的信息，這樣就可以用照明系統(tǒng)測(cè)量結(jié)果校正這些缺陷和/或使這些缺陷可見。
圖8示出了包括楔的分劃板的實(shí)施例的橫截面。該分劃板80包括襯底82和多個(gè)菲涅耳帶透鏡30以及相關(guān)的基準(zhǔn)環(huán)40。帶透鏡與環(huán)之間的表面區(qū)域84是不透明的，并且可以由鉻層形成。這種結(jié)構(gòu)還可以用于不具有楔的分劃板。圖8示出了分劃板的中央部分，因此楔90、94、98在左側(cè)的傾斜與楔92、96、100在右側(cè)的傾斜相反。在這個(gè)實(shí)施例中，楔的楔角Y在從中心到邊界的方向上增長(zhǎng)。每個(gè)楔屬于一個(gè)不同的菲涅耳帶透鏡，因此通過(guò)菲涅耳帶透鏡的輻射具有由相關(guān)楔的楔角確定的方向。為了清楚起見，圖8所示的楔角γ1、γ3和γ5與楔角γ2、γ4和γ6之差大于實(shí)際情況。所示的楔之間的距離以及因此透鏡之間的距離也比實(shí)際情況大。
可選擇的是，利用在測(cè)量照明系統(tǒng)之前的測(cè)量投影透鏡透射缺陷的附加步驟，可以擴(kuò)大該方法。通過(guò)利用具有均勻輻射分布的光束照射投影透鏡可以測(cè)量透射缺陷。如果投影透鏡不具有透射缺陷，則像平面中的輻射分布也將是均勻的。如果存在這種缺陷，則像平面中對(duì)應(yīng)于缺陷位置的區(qū)域處的輻射強(qiáng)度將小于像平面其余區(qū)域處的輻射強(qiáng)度。為了獲得漫射輻射，可以將獨(dú)立的漫射元件設(shè)置在分劃板的上面，或者可以使分劃板的上表面成為漫射的，例如通過(guò)使其變粗糙。圖9示出了包括透明基板92和粗糙上表面94的測(cè)試分劃板90，其可以用于測(cè)量投影透鏡。
當(dāng)用于測(cè)量光刻投影裝置的照明系統(tǒng)的性能時(shí)，利用特殊的光學(xué)測(cè)量設(shè)備可以實(shí)施該新穎的方法。圖10示出了這種設(shè)備100的實(shí)施例。其包括襯底102，該襯底具有所要在該裝置中處理的產(chǎn)品晶片的形狀和尺寸，所要測(cè)量的照明系統(tǒng)構(gòu)成了該裝置的一部分。該設(shè)備，可以是所謂的光學(xué)測(cè)量晶片或者傳感器晶片，包括至少一個(gè)檢測(cè)器或傳感器。圖10的實(shí)施例包括五個(gè)傳感器104-108。傳感器中的至少一個(gè)可以是單獨(dú)的或者組合的檢測(cè)器并且可以用于測(cè)量照明系統(tǒng)。該傳感器可以分布在整個(gè)晶片表面上，并且可以設(shè)置在不同高度上。該傳感器可以具有放大器以在將傳感器信號(hào)提供給微處理器110之前放大該信號(hào)，該放大器也設(shè)置在晶片上。微處理器的功能尤其在于處理傳感器信號(hào)和/或控制該傳感器。傳感器晶片還可以包括用于臨時(shí)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)器112，該數(shù)據(jù)例如信號(hào)數(shù)據(jù)。塊114是輸入/輸出界面，其與微處理器相連并且提供與外界的有線或無(wú)線接觸。無(wú)線接觸可以由例如光學(xué)裝置或者FM發(fā)射提供。該界面用于向外界提供數(shù)據(jù)和/或?qū)y(cè)量程序加載到微處理器中。傳感器晶片由電源116供電，其可以是電池或者用于從外界無(wú)線接收電能的感應(yīng)設(shè)備。該傳感器晶片還包括兩個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，以在開始測(cè)量之前在光刻投影裝置中對(duì)準(zhǔn)該晶片。傳感器晶片的優(yōu)點(diǎn)在于其可以作為普通晶片放置在裝置中或者從該裝置中去除。
盡管已經(jīng)借助具有投影透鏡系統(tǒng)的光刻投影裝置描述了本發(fā)明，但是本發(fā)明還可以用于其中的投影系統(tǒng)是一個(gè)反射鏡系統(tǒng)或者是一個(gè)包括反射鏡和透鏡的系統(tǒng)的裝置中，該投影系統(tǒng)即用于將產(chǎn)品掩模圖案成像到襯底頂部上的抗蝕劑層中的系統(tǒng)。
照明系統(tǒng)的制造商可以使用本發(fā)明的方法在發(fā)售所制造的照明系統(tǒng)之前來(lái)測(cè)量和校正該系統(tǒng)。還可以由光刻投影裝置的制造商來(lái)使用該方法以測(cè)量照明并將其與投影系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)。這就產(chǎn)生了改進(jìn)的投影裝置，使得本發(fā)明具體化為這種裝置。而且，本發(fā)明可以由設(shè)備的制造商所使用，所述設(shè)備例如IC和光閥設(shè)備(如液晶顯示板和數(shù)字反射鏡設(shè)備(DMD))，或者集成和平面光學(xué)系統(tǒng)等，以便規(guī)則地測(cè)量投影裝置的照明系統(tǒng)。這種應(yīng)用可以更精確地制造這種設(shè)備，并由此使得設(shè)備更好地限定。因此本發(fā)明還具體化為這種設(shè)備。
借助測(cè)量用于投影裝置的照明系統(tǒng)已經(jīng)描述了本發(fā)明的情況，但不意味著其用途限于這種應(yīng)用。本發(fā)明可以用在必須相互獨(dú)立地以及以高精度和可靠性地測(cè)量照明系統(tǒng)的像差的地方。然而，當(dāng)在光刻投影裝置中使用這種新穎的方法時(shí)，最佳的應(yīng)用是這種裝置擬用于精細(xì)的成像圖案，這種裝置的成像和伺服系統(tǒng)也可以用于實(shí)現(xiàn)該新穎的方法。
權(quán)利要求
1.一種測(cè)量照明系統(tǒng)性能的方法，所述照明系統(tǒng)包括輻射光源并且用于成像裝置中，該方法包括以下步驟-提供包括至少一個(gè)菲涅耳帶透鏡的測(cè)試目標(biāo)；-將該測(cè)試目標(biāo)設(shè)置在成像裝置的物平面中；-利用由照明系統(tǒng)提供的照明光束以及利用該裝置的成像系統(tǒng)將包括菲涅耳帶透鏡的測(cè)試目標(biāo)區(qū)域成像在像平面中，由此將局部有效光源成像到像平面中；-利用檢測(cè)設(shè)備以及相關(guān)的處理裝置來(lái)評(píng)估局部有效光源的圖像，以確定照明系統(tǒng)的性能，其特征在于提供測(cè)試目標(biāo)的步驟包括提供對(duì)于每個(gè)菲涅耳帶透鏡具有基準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)試目標(biāo)，以及其中成像的步驟包括在檢測(cè)設(shè)備的視場(chǎng)內(nèi)成像菲涅耳帶透鏡區(qū)域和相應(yīng)基準(zhǔn)標(biāo)記區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于重疊地成像菲涅耳帶透鏡區(qū)域和相應(yīng)的基準(zhǔn)標(biāo)記區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于該基準(zhǔn)標(biāo)記是環(huán)形標(biāo)記。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其特征在于在等于菲涅耳帶透鏡的焦距的距離上散焦地成像該測(cè)試目標(biāo)，并且以最佳的聚焦條件成像該基準(zhǔn)掩模。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的方法，其特征在于為了成像菲涅耳帶透鏡，使用了基本大于用于成像基準(zhǔn)標(biāo)記的照明量的照明量。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的方法，使用了具有多個(gè)菲涅耳帶透鏡和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于設(shè)法將來(lái)自每個(gè)菲涅耳帶透鏡的輻射以不同的角度引導(dǎo)通過(guò)成像系統(tǒng)的光瞳。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的方法，其特征在于在測(cè)量照明系統(tǒng)之前，由漫射輻射照射該成像系統(tǒng)并且測(cè)量在其像平面中的輻射分布，以檢測(cè)照明系統(tǒng)的傳輸誤差，并且針對(duì)所述傳輸誤差校正該照明系統(tǒng)測(cè)量的結(jié)果。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于評(píng)估測(cè)試目標(biāo)圖像的步驟包括以下子步驟-將輻射光源成像到抗蝕劑層中并且使抗蝕劑顯影；-利用具有比成像系統(tǒng)更高的分辨率的檢測(cè)設(shè)備掃描該抗蝕劑結(jié)構(gòu)，-分析檢測(cè)設(shè)備所提供的數(shù)據(jù)，以便確定可能存在于源圖像中的不同像差的類型和量。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于評(píng)估測(cè)試目標(biāo)圖像的步驟包括以下子步驟-在輻射敏感檢測(cè)器上形成虛像；-掃描該虛像，和-分析圖像傳感器提供的數(shù)據(jù)，以便確定可能存在于源圖像中的不同像差的類型和量。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于形成虛像的步驟包括在分離的檢測(cè)器區(qū)域上同時(shí)形成虛像。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的方法，用于測(cè)量光刻投影裝置中照明系統(tǒng)的性能，其特征在于-提供測(cè)試目標(biāo)的步驟包括提供包括至少一個(gè)測(cè)試目標(biāo)的掩模，和-將測(cè)試目標(biāo)設(shè)置在物平面中的步驟包括將這個(gè)掩模設(shè)置在投影裝置的掩模保持器中。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于使用了構(gòu)成部分測(cè)試掩模的測(cè)試目標(biāo)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于使用了構(gòu)成部分產(chǎn)品掩模的測(cè)試目標(biāo)。
14.一種用于實(shí)施根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法的系統(tǒng)，其特征在于其包括以下組合-照明系統(tǒng)構(gòu)成了其一部分的裝置；-具有至少一個(gè)菲涅耳帶透鏡和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)試目標(biāo)；-用于檢測(cè)由菲涅耳透鏡形成的局部有效光源圖像的強(qiáng)度輪廓和基準(zhǔn)環(huán)圖像的強(qiáng)度輪廓的檢測(cè)裝置；-圖像處理器，連接于檢測(cè)裝置，用于存儲(chǔ)和分析觀察到的圖像，并且包括用于處理關(guān)于該觀察到的圖像的信息的分析裝置，以確定該照明系統(tǒng)可能表現(xiàn)出的不同種類的像差。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其特征在于該檢測(cè)裝置包括用于接收由至少一個(gè)菲涅耳透鏡形成的局部有效源圖像和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的圖像的抗蝕劑層，以及用于掃描該抗蝕劑層中形成并顯影的所述圖像的掃描檢測(cè)設(shè)備。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的系統(tǒng)，其特征在于該掃描檢測(cè)設(shè)備是掃描電子顯微鏡。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其特征在于該檢測(cè)裝置包括用于接收由菲涅耳帶透鏡形成的源虛像和基準(zhǔn)標(biāo)記的虛像的輻射敏感檢測(cè)器。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其特征在于該檢測(cè)器是掃描點(diǎn)檢測(cè)器。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其特征在于該測(cè)試目標(biāo)包括多個(gè)菲涅耳帶透鏡和相關(guān)的基準(zhǔn)標(biāo)記，其中該檢測(cè)器是掃描組合檢測(cè)器，其包括輻射敏感部件以及多個(gè)透明點(diǎn)狀區(qū)域，其對(duì)應(yīng)于測(cè)試目標(biāo)中菲涅耳帶透鏡的數(shù)量。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其特征在于該輻射敏感部件是覆蓋了所有透明區(qū)域的單獨(dú)元件。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其特征在于該輻射敏感部件由多個(gè)子部件構(gòu)成，其數(shù)量對(duì)應(yīng)于透明區(qū)域的數(shù)量。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的系統(tǒng)，其特征在于透明區(qū)域相對(duì)于相應(yīng)子部件中心的位置對(duì)于不同的透明區(qū)域/子部件對(duì)而言是不同的。
23.一種與權(quán)利要求1所述的方法一起使用的測(cè)量設(shè)備，其特征在于其具有產(chǎn)品襯底的形狀和尺寸，并且包括電子信號(hào)處理裝置、電源裝置、接口裝置和至少一個(gè)用于檢測(cè)由菲涅耳透鏡形成的源虛像和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的虛像的強(qiáng)度輪廓的檢測(cè)器。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的測(cè)量設(shè)備，其特征在于該檢測(cè)器是掃描點(diǎn)檢測(cè)器。
25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的測(cè)量設(shè)備，其特征在于該檢測(cè)器是包括輻射敏感部件和多個(gè)透明點(diǎn)狀區(qū)域的組合檢測(cè)器。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的測(cè)量設(shè)備，其特征在于該輻射敏感部件是覆蓋了所有透明區(qū)域的單獨(dú)元件。
27.根據(jù)權(quán)利要求25所述的測(cè)量設(shè)備，其特征在于該輻射敏感部件由多個(gè)子部件構(gòu)成，其數(shù)量對(duì)應(yīng)于透明區(qū)域的數(shù)量。
28.根據(jù)權(quán)利要求25所述的測(cè)量設(shè)備，其特征在于透明區(qū)域相對(duì)于相應(yīng)子部件中心的位置對(duì)于不同的透明區(qū)域/子部件對(duì)而言是不同的。
29.一種與權(quán)利要求1所述的方法一起使用的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于其包括至少一個(gè)菲涅耳帶透鏡和相關(guān)的基準(zhǔn)標(biāo)記。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于該基準(zhǔn)標(biāo)記是環(huán)形標(biāo)記。
31.根據(jù)權(quán)利要求29或30所述的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于其將其作為測(cè)試掩模來(lái)實(shí)施。
32.根據(jù)權(quán)利要求29或30所述的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于其構(gòu)成了部分產(chǎn)品掩模。
33.根據(jù)權(quán)利要求29、30、31或32所述的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于其具有振幅結(jié)構(gòu)。
34.根據(jù)權(quán)利要求29、30、31或32所述的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于其具有相位結(jié)構(gòu)。
35.根據(jù)權(quán)利要求29-34中任一項(xiàng)所述的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于其為透射目標(biāo)。
36.根據(jù)權(quán)利要求29-34中任一項(xiàng)所述的測(cè)試目標(biāo)，其特征在于其為反射目標(biāo)。
37.一種制造設(shè)備的方法，該設(shè)備包括在設(shè)備襯底的至少一個(gè)襯底層中的設(shè)備特征，該方法包括以下連續(xù)步驟中的至少一組-提供產(chǎn)品掩模圖案，其包括對(duì)應(yīng)于將要配置在所述層中的設(shè)備特征的特征；-利用受控照明系統(tǒng)照射該產(chǎn)品掩模圖案；-利用投影系統(tǒng)將產(chǎn)品掩模圖案成像到涂敷在襯底上的抗蝕劑層中，并且顯影該層，由此形成對(duì)應(yīng)于產(chǎn)品掩模圖案的構(gòu)圖涂層；-從襯底層的區(qū)域去除材料，或者向該區(qū)域添加材料，該區(qū)域是由構(gòu)圖涂層的圖案劃分的，所述照明系統(tǒng)的控制包括檢測(cè)照明系統(tǒng)的像差并且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果重新設(shè)定該系統(tǒng)，其特征在于利用根據(jù)權(quán)利要求1-13中任一項(xiàng)所述的方法進(jìn)行檢測(cè)。
38.一種用于將掩模中存在的產(chǎn)品掩模圖案成像到襯底上的光刻投影裝置，該裝置包括用于提供投影光束的受控照明系統(tǒng)、用于容納掩模的掩模保持器、用于容納襯底的襯底保持器以及設(shè)置在掩模保持器與襯底保持器之間的投影系統(tǒng)，所述照明系統(tǒng)的控制包括檢測(cè)照明系統(tǒng)的像差并且根據(jù)檢測(cè)結(jié)果重新設(shè)定該系統(tǒng)，其特征在于利用根據(jù)權(quán)利要求1-13中任一項(xiàng)所述的方法進(jìn)行檢測(cè)。
39.一種利用根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法和/或權(quán)利要求38所述的裝置制造的設(shè)備。
全文摘要
利用包括至少一個(gè)菲涅耳帶透鏡(30)和相關(guān)基準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)試目標(biāo)(55)可以精確和可靠地測(cè)量例如光刻投影裝置中的照明系統(tǒng)的性能，該基準(zhǔn)標(biāo)記優(yōu)選為環(huán)(40)。通過(guò)將其重疊成像并且檢測(cè)和評(píng)估所組合的圖像(56)，可以測(cè)量照明的遠(yuǎn)心誤差和像差。
文檔編號(hào)G01M11/02GK1732411SQ200380107907
公開日2006年2月8日 申請(qǐng)日期2003年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月30日
發(fā)明者P·迪克森, C·A·H·朱弗曼斯 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司