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中子相襯層析成像裝置的制作方法

文檔序號(hào):5877465閱讀:355來源:國(guó)知局
專利名稱:中子相襯層析成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及中子相襯成像技術(shù),特別是一種中子相襯層析成像裝置。
1.中子相襯成像技術(shù)或許是在X射線相襯成像技術(shù)的啟迪下,美國(guó)和歐洲的一個(gè)聯(lián)合小組,發(fā)展了一種同軸中子相襯成像方法,他們采用冷中子、相應(yīng)的de Brogile、波長(zhǎng)為0.433nm,成功地觀察到黃蜂的腿關(guān)節(jié)和翅膀的某些細(xì)節(jié)。
我們知道,無論是光波或者物質(zhì)波,當(dāng)通過物體時(shí),要產(chǎn)生散射和吸收,在離樣品適當(dāng)距離將獲得清晰的樣品吸收襯度像,這是常規(guī)顯微和層析的成像基礎(chǔ)。
從X射線光學(xué)中我們已經(jīng)知道X射線的折射率nx=1-δ,δ=r0λ2Natf/2π,式中,λ為X射線波長(zhǎng),r0經(jīng)典電子半徑,Nat單位體積內(nèi)原子數(shù)密度,f為原子散射因子。從中子光學(xué)可知,中子的折射率具有和X射線相同的形式,即nn=1-λn2N(b±p)/2π,式中,N也是單位體積內(nèi)的質(zhì)子數(shù),λ是中子波長(zhǎng),b是原子核散射系數(shù),p是由于電子自旋引起的磁散射系數(shù)。從上面可以看出,折射率n兩種形式幾乎一致,對(duì)于同樣的波長(zhǎng),中子δ(λn2N(b±p)/2π)比X射線的δ值小一個(gè)量級(jí)。盡管1-δ和1的差值只有10-6,但當(dāng)使用非常小的λ值時(shí),即使是不太大的厚度或密度的變化,也可能產(chǎn)生相當(dāng)大的位相畸變。如果采用相干光或部分相干光通過物體時(shí),除了吸收以外,還要產(chǎn)生位相變化,即發(fā)生波前的畸變。這種波面畸變導(dǎo)致部分波面的傳播方向發(fā)生變化,使波面重疊而形成干涉,這樣,位相變化轉(zhuǎn)化成強(qiáng)度變化,這是相襯成像的物理基礎(chǔ),也是相襯層析的物理基礎(chǔ),更為重要的是,這種圖像不經(jīng)任何重構(gòu)技術(shù),可直接獲得位相變化圖像。
中子相襯的實(shí)驗(yàn)裝置如

圖1所示。
從中子源1發(fā)出的中子束經(jīng)針孔2以后,變成一個(gè)球面波入射到樣品3上,在距樣品31.8米處,放置一探測(cè)器4,就可獲得樣品3的位相襯度像(見在先技術(shù)B.E.Allman,P.J,McMahon等,Nature,2000,Vol408,9Nov.)上述方法的缺點(diǎn)是不能給出樣品中位相信息的三維分布。
2.中子層析成像當(dāng)中子束通過衰減系數(shù)μ、厚度為l的介質(zhì)時(shí),其衰減遵循比爾(Beer)定律I=I0exp(-μl)當(dāng)物體在投影方向衰減系數(shù)不均勻時(shí),應(yīng)有線積分I=I0exp[-∫-∞+∞μ(l)dl]]]>當(dāng)介質(zhì)不但在投影方向,而且,在投影的垂直方向也不均勻時(shí),上式成為Iφ(xr)=I0exp[-∫-∞+∞μ(xr,yr)dyr]]]>對(duì)上式兩邊取對(duì)數(shù),使方程線性化,得到新函數(shù)λφ=-lnIφ(xr)I0=∫μ(xr,yr)dyr]]>層析任務(wù)就是用所測(cè)得的λφ(xr)去得到μ(xr,yr)的分布。經(jīng)過幾代數(shù)學(xué)家的努力,發(fā)展了各種各樣的方法。通常用以下兩種方法進(jìn)行圖像復(fù)原Δ代數(shù)法包括迭代法、回投影法Δ解析法包括拉冬法、傅里葉濾波法、卷積法、濾波回投影法等。
一個(gè)有趣的現(xiàn)象是,硬X射線的吸收系數(shù)隨著原子序數(shù)的增加而不斷增加,中子束卻不能,除幾個(gè)元素以外,如氫、鋰、硼、鎘以外,中子的吸收系數(shù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于硬X射線。
對(duì)于大部分重金屬,X射線穿透深度受到了限制,而中子確大有作為,從某種意義說,中子層析和X射線層析是相互補(bǔ)充的。特別要提出的是,氫元素對(duì)中子有較大的吸收。因此,中子層析對(duì)一些含氫有機(jī)材料的檢測(cè),如潤(rùn)滑油、塑料、金屬外殼內(nèi)的密封圈等很靈敏,對(duì)某些復(fù)雜的、要求非??量痰?、運(yùn)用在汽車行業(yè)上和宇航工業(yè)的大型重金屬元件,中子層析也非常有價(jià)值。
中子層析實(shí)驗(yàn)裝置實(shí)驗(yàn)裝置示意圖如圖2所示,平行中子束1入射到樣品3上,樣品3置于轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9上,中子經(jīng)樣品吸收以后,用閃爍體4[Zns(Ag)-6ZiF]記錄接收不同角度下的投影值。每入射一個(gè)中子,閃爍體4將轉(zhuǎn)換為級(jí)聯(lián)光子,然后經(jīng)鋁鏡5反射到CCD相機(jī)6上,輸入到計(jì)算機(jī)7上去,當(dāng)計(jì)算機(jī)讀到來自于CCD相機(jī)6上的信號(hào)以后,控制轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9轉(zhuǎn)動(dòng)一個(gè)角度,進(jìn)行下一輪中子束曝光。為了避免散射光對(duì)CCD的影響,閃爍體4,鋁鏡5和CCD相機(jī)6都放置在暗箱8中。
在取得足夠的投影數(shù)據(jù)以后,計(jì)算機(jī)將給出整個(gè)樣品圖像(參見在先技術(shù)S.Koerner,B.Schillinger,et al.,“A neutron to mography facility at alow power researcu reactor”,Nuclear Instruments & Methods in PhysicsResearch,2001,A471,69-74.)這種層析的最大缺點(diǎn)是(1)不能給出樣品中位相的三維空間分布;(2)如果兩個(gè)吸收系數(shù)相近的元素,這個(gè)方法難以分辨,例如對(duì)于生物組織的測(cè)試,對(duì)比度差,分辨率低。
所述的CCD相機(jī)被置于液氮中。
所述單晶鋁的曲率半徑選擇范圍一般在50~100米。
所述鋁鏡是在2毫米玻璃基片上的鋁膜上,鍍有一層保護(hù)膜構(gòu)成的。
所述中子束(1)是從裂變反應(yīng)堆中子源輻射,并經(jīng)準(zhǔn)直器出射的中子束,該準(zhǔn)直器實(shí)際上是一具有矩形或圓形截面的鋼盒或鋼筒構(gòu)成的,所述的準(zhǔn)直器是長(zhǎng)度L和口徑D之比為L(zhǎng)/D≈100。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是(1)本中子相襯層析成像裝置兼?zhèn)淞讼嘁r和層析的各自優(yōu)點(diǎn),能高分辨率地重構(gòu)待測(cè)樣品的三維空間位相分布。
(2)能測(cè)試和分辨吸收系數(shù)非常相近的樣品的空間結(jié)構(gòu),這一點(diǎn)是非常難能可貴的。這對(duì)于生物組織而言非常有利。
(3)不采用干涉術(shù)能測(cè)到樣品的三維位相空間分布。
平行中子束1經(jīng)一對(duì)單晶鋁10、11形成的單色聚焦器單色化以后,入射到放置在轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9上的樣品3上,中子被樣品衍射以后,衍射信號(hào)被放在暗箱8中的閃爍體4接收,并轉(zhuǎn)化成含有樣品信息的可見光,被鋁鏡5反射到CCD相機(jī)6上,數(shù)字化以后輸入到計(jì)算機(jī)7,由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)字重構(gòu)。
所說的中子束1是從裂變反應(yīng)堆中子源輻射,并經(jīng)準(zhǔn)直器出射的中子。該裂變反應(yīng)堆中子源是把鈾和钚等裂變材料作燃料,以中子為媒介,維持可控鏈?zhǔn)搅炎兎磻?yīng)的裝置,稱為裂變反應(yīng)堆,這種裝置可獲得高通量的中子輻射,可達(dá)1013~1020中子數(shù)/秒,可以長(zhǎng)期運(yùn)行,并由一個(gè)具有矩形或圓形截面的鋼盒或鋼筒準(zhǔn)直,從準(zhǔn)直器中出射的中子,其發(fā)散度等于孔徑和長(zhǎng)度的比值,顯然只要縮小孔徑和增加長(zhǎng)度即可大大改善發(fā)散度,獲得準(zhǔn)平行中子束。
所說的單晶鋁10和單晶鋁11,互相垂直放置共同組成單色聚焦器,由于具有一定的曲率,其R=100m,因此既具有色散作用,又有聚焦功能。平行入射中子束1和單晶鋁10成掠入射角θ時(shí),產(chǎn)生布喇格反射,當(dāng)單晶鋁11和單晶鋁10垂直放置時(shí),它能將單晶鋁10聚焦的一條線變成一個(gè)焦點(diǎn),即用單晶鋁11校正單晶鋁10的像散。單色中子束1進(jìn)入到待測(cè)樣品3中以后,只有特定的入射角θ才滿足布喇格公式的衍射加強(qiáng)。因此,通過入射角θ的選擇,可以選擇樣品中不同元素進(jìn)行層析成像。
所說的轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9受一步進(jìn)馬達(dá)(圖中未示)的驅(qū)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),待測(cè)樣品3放在該轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9上亦同時(shí)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。
所說的閃爍體4為ZnS(Ag)-LiF。由于中子在物質(zhì)中不能直接引起原子的電離,沒有電流輸出,所以本發(fā)明中采用ZnS(Ag)-LiF。樣品3中產(chǎn)生的衍射中子束,垂直入射到閃爍體4的屏上,每一個(gè)中子產(chǎn)生級(jí)聯(lián)可見光子。
所說的鋁鏡5用于將閃爍體4產(chǎn)生的可見光反射到CCD相機(jī)6上,CCD相機(jī)6為商業(yè)用CCD。
本發(fā)明裝置的工作過程大致如下一準(zhǔn)平行中子束1經(jīng)單晶鋁10、11聚焦和單色化以后,入射到放在轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9上的樣品3上,出射的中子被閃爍體4接收,并轉(zhuǎn)化成含有樣品信息的可見光,經(jīng)鋁鏡5反射到放在液氮中冷卻的CCD相機(jī)6上,數(shù)字化后輸入到計(jì)算機(jī)7上。計(jì)算機(jī)7收到信號(hào)的同時(shí),驅(qū)動(dòng)步進(jìn)馬達(dá),帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9自動(dòng)進(jìn)行下一次曝光,直到完成一個(gè)周期,即在一個(gè)斷面上完成0~180°內(nèi)的取樣,之后將轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9帶動(dòng)樣品3作向上或向下運(yùn)動(dòng),進(jìn)入另一個(gè)斷面,重復(fù)上述測(cè)試,最后進(jìn)行數(shù)字重構(gòu),獲得樣品3的三維位相分布圖。
樣品3出射的中子束,垂直入射到閃爍體4的屏上,閃爍體為ZnS(Ag)-6LiF。每一個(gè)中子產(chǎn)生級(jí)聯(lián)可見光子,經(jīng)鋁鏡5反射到CCD相機(jī)6上,鋁鏡5是選擇厚為2mm的玻璃板作片基,在鋁膜上鍍有一層保護(hù)膜,選擇鋁鏡的目的在于,不讓中子束直接入射到CCD相機(jī)6的芯片上,以免芯片被損壞。為了減小CCD相機(jī)6的暗電流,將其放入到液氮中進(jìn)行冷卻,這對(duì)于使用較低中子通量、長(zhǎng)時(shí)間曝光的實(shí)驗(yàn)非常重要,閃爍體4,鋁鏡5和CCD相機(jī)6要放在暗盒8中,以免雜散的可見光影響測(cè)試數(shù)據(jù)。轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)9,測(cè)得各樣品的不同斷面的位相以后,就可用計(jì)算機(jī)進(jìn)行重構(gòu)。
本發(fā)明中,中子相襯層析成像系統(tǒng)也可以用來進(jìn)行中子相襯和中子層析成像研究,該系統(tǒng)在生物醫(yī)學(xué)、材料結(jié)構(gòu)、考古學(xué)、航天航空、宇宙化學(xué)和兵器工業(yè)等方面有著極為廣泛的應(yīng)用前景,這一新的技術(shù)、新的方法,為人們探索新的自然規(guī)律提供了一個(gè)強(qiáng)有力的工具。
權(quán)利要求
1.一種中子相襯層析成像裝置,包括轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)(9)、閃爍體(4)、鋁鏡(5)、CCD相機(jī)(6)、計(jì)算機(jī)(7)和暗箱(8),所說的閃爍體(4)、鋁鏡(5)和CCD相機(jī)(6)放在暗箱(8)中,中子束(1)入射到放置在轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)(9)上的樣品(3)上,中子被樣品(3)產(chǎn)生的衍射中子垂直入射,被閃爍體(4)接收,轉(zhuǎn)化為含有樣品信息的可見光,被鋁鏡(5)反射進(jìn)入到CCD相機(jī)(6)上,數(shù)字化后轉(zhuǎn)入到計(jì)算機(jī)(7),其特征是①在轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)(9)之前還設(shè)有互相垂直放置的、具有一定曲率的單晶鋁(10)和單晶鋁(11)構(gòu)成的單色聚焦器;②所述轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)(9)的步進(jìn)馬達(dá)受到計(jì)算機(jī)(7)的指令而轉(zhuǎn)動(dòng),驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)(9)旋轉(zhuǎn)或上、下運(yùn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中子相襯層析成像裝置,其特征在于所述的CCD相機(jī)被置于液氮中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中子相襯層析成像裝置,其特征在于所述單晶鋁(10、11)的曲率半徑選擇范圍一般在50~100米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中子相襯層析成像裝置,其特征在于所述鋁鏡(5)是在2毫米玻璃基片上的鋁膜上,鍍有一層保護(hù)膜構(gòu)成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中子相襯層析成像裝置,其特征在于所述中子束(1)是從裂變反應(yīng)堆中子源輻射,并經(jīng)準(zhǔn)直器出射的中子束,該準(zhǔn)直器實(shí)際上是一具有矩形或圓形截面的鋼盒或鋼筒構(gòu)成的,所述的準(zhǔn)直器是長(zhǎng)度L和口徑D之比為L(zhǎng)/D≈100。
全文摘要
一種中子相襯層析成像裝置,包括轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)、閃爍體、鋁鏡、CCD相機(jī)、計(jì)算機(jī)和暗箱,所說的閃爍體、鋁鏡和CCD相機(jī)放在暗箱中,中子束入射到放置在轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)上的樣品上,中子被樣品產(chǎn)生的衍射中子垂直入射,被閃爍體接收,轉(zhuǎn)化為含有樣品信息的可見光,被鋁鏡反射進(jìn)入到CCD相機(jī)上,數(shù)字化后轉(zhuǎn)入到計(jì)算機(jī),其特征是①在轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)之前還設(shè)有互相垂直放置的、具有一定曲率的單晶鋁和單晶鋁構(gòu)成的單色聚焦器;②所述轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)的步進(jìn)馬達(dá)受到計(jì)算機(jī)的指令而轉(zhuǎn)動(dòng),驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)平臺(tái)旋轉(zhuǎn)或上、下運(yùn)動(dòng)。本中子相襯層析成像裝置兼?zhèn)淞讼嘁r和層析的各自優(yōu)點(diǎn),能高分辨率地重構(gòu)待測(cè)樣品的三維空間位相分布。
文檔編號(hào)G01N23/20GK1434291SQ0311558
公開日2003年8月6日 申請(qǐng)日期2003年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2003年2月28日
發(fā)明者陳建文, 高鴻奕, 謝紅蘭, 李儒新, 徐至展, 熊詩(shī)圣 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所
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