專利名稱：液態(tài)氯化氫處理設備的制作方法
技術領域：
液態(tài)氯化氫處理設備技術領域[0001]本實用新型涉及多晶硅尾氣回收系統(tǒng)氯化氫的儲存技術，特別是一種液態(tài)氯化氫處理設備。
背景技術：
[0002]目前，多晶硅生產(chǎn)的合成工序運行不穩(wěn)定，時開時停，因而經(jīng)常有大量的HCl排往淋洗，導致合成工序設備處于超負荷運轉(zhuǎn)。加之合成工序下游的三廢處理能力有限，所以時常出現(xiàn)合成淋洗廢液大量滯留的情況。[0003]在多晶硅尾氣回收系統(tǒng)中，HCl來源有三氯氫硅還原、四氯化硅氫化、合成工序 HCl合成(作補充用)。其中的合成工序，一旦合成爐停運，便有大量的HCl滯留于系統(tǒng)中。 因此一般都會設置⑶I工序的HCl液體儲槽和合成工序的2個HCl氣體緩沖罐，正常情況只使用一個HCl氣體緩沖罐，另一個HCl氣體緩沖罐在緊急情況時備用。當合成工序停車時，如果氫化、還原仍正常運行，則整個系統(tǒng)緩沖能力較差。[0004]而且在緊急情況下，一旦合成HCl排放量劇增，導致三廢處理壓力加大，甚至超過其現(xiàn)有處理能力。那么就會出現(xiàn)以下問題[0005](1)合成排放的廢水量大，酸性強，燒堿需求量大大超過設計值，因而經(jīng)常出現(xiàn)燒堿斷料的現(xiàn)象，從而導致處理流程中斷。[0006](2)工況較惡劣，設備損壞嚴重；例如，降膜蒸發(fā)器的給液泵的葉輪經(jīng)常損壞。[0007](3)當廢水處理量加大時，需要大量人力處理。[0008]另一種情況是，當整個工廠滿負荷運轉(zhuǎn)時，生產(chǎn)過程中副產(chǎn)的HCl量將大大增加， 合成工序則必須保證兩套合成爐系統(tǒng)同時正常運行才能夠?qū)⑸a(chǎn)過程中產(chǎn)生的HCl完全平衡。此時，若合成爐系統(tǒng)一套停運，另一套滿負荷運轉(zhuǎn)，而三廢處理也能夠滿負荷運行，則整改生產(chǎn)過程可以在基本不受影響的情況下繼續(xù)進行，但這會消耗大量的NaOH溶液，導致嚴重的浪費；若合成兩套系統(tǒng)均停運，則僅中和HCl所產(chǎn)生的廢水將遠遠超過三廢的設計處理能力。這將迫使氫化、還原降量或停止運行。[0009]因此需要在合成工序設計可以有效增加HCl緩沖能力的設備，避免出現(xiàn)各種問題導致合成工序不能穩(wěn)定工作。實用新型內(nèi)容[0010]本實用新型為解決上述技術問題，提供了新型的液態(tài)氯化氫處理設備，可以有效增加HCl系統(tǒng)的緩沖能力，將氯化氫從氣相改為液相儲藏，提高了整個系統(tǒng)的穩(wěn)定性。[0011]液態(tài)氯化氫處理設備，包括三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐，三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐分別與合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器連接，其特征在于還包括至少兩臺并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲罐，每臺低位液態(tài)氯化氫儲罐的入口均與各個加熱器的出口匯總管線連通，每臺低位液態(tài)氯化氫儲罐的出口均連接至同一個汽化器的入口上， 所述汽化器出口連接至合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器與HCl緩沖罐的連接管線上。[0012]所述高位液態(tài)氯化氫儲罐和低位液態(tài)氯化氫儲罐的入口和出口處都分別設置有閥門，閥門需考慮所使用工況是否為低溫，需采用相相應低溫閥門。[0013]本實用新型采用低溫絕熱容器對液態(tài)氯化氫進行儲藏，儲藏的氯化氫的液態(tài)體積約為同等氣態(tài)氣體積的1/600。[0014]本實用新型的有益效果如下[0015](1)可以保持合成系統(tǒng)穩(wěn)定運行，消耗氫化、還原過程中產(chǎn)生的HCl ；[0016](2)增加了 HCl系統(tǒng)的緩沖能力，生產(chǎn)負荷波動較小，生產(chǎn)進行正常，降低了 HCl的浪費率，使生產(chǎn)成本大大降低。


[0017]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖[0018]其中，附圖標記為D-107_合成⑶I高位液態(tài)氯化氫儲罐，D-207-還原⑶I高位液態(tài)氯化氫儲罐，D-307-氫化⑶I高位液態(tài)氯化氫儲罐，1-合成⑶I電加熱器，2-還原⑶I 電加熱器，3-氫化CDI電加熱器，4-低位液態(tài)氯化氫儲罐，5-汽化器，6-HC1緩沖罐。
具體實施方式
[0019]如圖1所示，合成工序的液態(tài)氯化氫處理設備，包括三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐合成CDI高位液態(tài)氯化氫儲罐D(zhuǎn)-107、還原CDI高位液態(tài)氯化氫儲罐D(zhuǎn)-207，氫化CDI高位液態(tài)氯化氫儲罐D(zhuǎn)-307，三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐分別與合成CDI電加熱器1、氫化CDI電加熱器3和還原⑶I電加熱器2連接。[0020]為了增加HCl系統(tǒng)的緩沖能力，在合成車間新增液態(tài)氯化氫處理設備，即二臺HCl 液體儲罐及配套設施，利用回收車間高位液態(tài)氯化氫儲罐D(zhuǎn)-107、D-207及D-307自流到合成車間新增加二臺HCl液體儲罐內(nèi)儲存。利用新增的液體儲罐采用真空儲罐的方式達到長期儲存液體HC1，使用汽化器汽化后供合成氣體HCl儲罐。該兩臺并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲罐4，每臺低位液態(tài)氯化氫儲罐4的入口均與各個加熱器的出口匯總管線連通，每臺低位液態(tài)氯化氫儲罐4的出口均連接至同一個汽化器5的入口上，所述汽化器5的出口連接至合成⑶I電加熱器1、氫化⑶I電加熱器3和還原⑶I電加熱器2與HCl緩沖罐6的連接管線上。[0021]所述高位液態(tài)氯化氫儲罐和低位液態(tài)氯化氫儲罐的入口和出口處都分別設置有閥門，閥門需考慮所使用工況是否為低溫，需采用相相應低溫閥門。[0022]所述液態(tài)氯化氫儲罐的容積總計為200m3。[0023]本實用新型采用低溫絕熱容器對液態(tài)氯化氫進行儲藏，儲藏的氯化氫的液態(tài)體積約為同等氣態(tài)氣體積的1/600。這一設計可以為生產(chǎn)系統(tǒng)帶來一周左右的緩沖時間，減小合成系統(tǒng)波動對整個系統(tǒng)的影響。
權(quán)利要求1.液態(tài)氯化氫處理設備，包括三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐，三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐分別與合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器連接，其特征在于還包括至少兩臺并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲罐，每臺低位液態(tài)氯化氫儲罐的入口均與各個加熱器的出口匯總管線連通，每臺低位液態(tài)氯化氫儲罐的出口均連接至同一個汽化器的入口上，所述汽化器出口連接至合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器與HCl緩沖罐的連接管線上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液態(tài)氯化氫處理設備，其特征在于所述高位液態(tài)氯化氫儲罐和低位液態(tài)氯化氫儲罐的入口和出口處都分別設置有閥門，所述閥門根據(jù)使用工況確定采用相應低溫閥門。
專利摘要本實用新型涉及多晶硅尾氣回收系統(tǒng)氯化氫的儲存技術，特別是一種液態(tài)氯化氫處理設備，包括三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐，三臺高位液態(tài)氯化氫儲罐分別與合成CDI電加熱器、氫化CDI電加熱器和還原CDI電加熱器連接，還包括至少兩臺并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲罐，低位液態(tài)氯化氫儲罐的入口均與各個加熱器的出口匯總管線連通，低位液態(tài)氯化氫儲罐的出口均連接至同一個汽化器入口上，汽化器出口連接至各個電加熱器與HCl緩沖罐的連接管線上；本實用新型利用高位液態(tài)HCl儲罐自流到低位HCl液體儲罐內(nèi)，達到長期儲存液體HCl的目的；可有效增加HCl系統(tǒng)的緩沖能力，將氯化氫從氣相改為液相儲藏，提高了整個系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
文檔編號F17C7/04GK202252824SQ20112038355
公開日2012年5月30日 申請日期2011年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月11日
發(fā)明者徐軍, 羅聰, 陳紹林 申請人:天威四川硅業(yè)有限責任公司