真空吸盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空吸盤，尤指使用以真空吸引預(yù)設(shè)物件的吸盤，其于座體下方底座的入氣通道設(shè)有往復(fù)位移的加壓閥片，憑借加壓閥片中央穿孔來縮小面積以增大真空吸力及減少因未能吸附到預(yù)設(shè)物件時(shí)的真空損失。
【背景技術(shù)】
[0002]按，在現(xiàn)今產(chǎn)業(yè)的加工或運(yùn)送上越來越頻繁的運(yùn)用真空吸盤，真空吸盤的技術(shù)主要可分為兩種，一種為接觸式真空吸盤，另一種為非接觸式真空吸盤，普遍而言，較為常見且應(yīng)用層面較廣泛的為接觸式真空吸盤技術(shù)。
[0003]以接觸式真空吸盤而言，其原理是直接在吸盤進(jìn)氣口處直接施加負(fù)壓，在吸盤出氣口產(chǎn)生吸力以達(dá)到吸附工件的作用，但吸盤的吸附面必須覆蓋在實(shí)體范圍內(nèi)否則將導(dǎo)致真空流失無法吸取工件。
[0004]再者，吸盤的固定方式一般是以吸盤的吸附面大小為基礎(chǔ)而制作一個(gè)固定框架，其吸盤的數(shù)量有限，且無法隨機(jī)自動(dòng)調(diào)整，須以人工調(diào)整，徒增操作上的不方便性。
[0005]以非接觸式吸盤而言，其吸附工件時(shí)吸附面與工件表面仍有一段微小的距離，所以無法將工件緊密吸住，當(dāng)吸盤高速移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)時(shí)會(huì)因加速度而產(chǎn)生的慣性力將工件甩出，且非接觸式吸盤的吸附面一般以硬性的材料制作，如工程塑膠或鋁合金，又因其與吸附工件存在一段距離，為了加強(qiáng)吸力而無法設(shè)置一個(gè)較柔軟的緩沖墊，倘若吸盤的吸附面與工件接觸時(shí)容易造成工件的刮傷。
[0006]上述現(xiàn)有的兩種真空吸盤，仍存在缺失有待改善，所以如何解決上述問題讓接觸式真空吸盤應(yīng)用層面較廣泛，此即為本實(shí)用新型人與從事此行業(yè)者所亟欲改善的目標(biāo)所在。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0007]故，發(fā)明人有鑒于上述缺失，乃搜集相關(guān)資料，經(jīng)由多方評(píng)估及考量，并以從事于此行業(yè)累積的多年經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)由不斷試作及修改，始設(shè)計(jì)出此種真空吸盤的發(fā)明專利。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:
[0009]—種真空吸盤，其特征在于:包括座體、底座及接觸軟墊，其中:
[0010]該座體底部凹設(shè)有氣槽，座體頂面設(shè)有連通到氣槽的復(fù)數(shù)穿槽，再在復(fù)數(shù)穿槽處裝設(shè)有真空吸引裝置；
[0011]該底座裝設(shè)覆蓋于座體底部，底座的底面凹設(shè)有復(fù)數(shù)入氣通道，入氣通道上方凹設(shè)有升降空間，升降空間頂部設(shè)有內(nèi)縮的止擋面，止擋面內(nèi)側(cè)再朝上凹設(shè)有連通至氣槽的銜接通道，升降空間內(nèi)設(shè)有外徑小于升降空間內(nèi)徑且大于銜接通道內(nèi)徑且能夠上下往復(fù)位移的加壓閥片，加壓閥片中央再設(shè)有外徑小于銜接通道內(nèi)徑的穿孔，真空吸盤未使用時(shí)，加壓閥片抵靠于濾網(wǎng)上表面，真空吸盤使用時(shí)，加壓閥片抵持于止擋面，升降空間與銜接通道之間僅有穿孔連通；
[0012]該接觸軟墊對(duì)應(yīng)設(shè)置于底座底面，且接觸軟墊下方具有接觸預(yù)設(shè)物件的吸附底面，吸附底面朝上貫穿設(shè)有對(duì)正連通各入氣通道的復(fù)數(shù)吸引孔道。
[0013]所述的真空吸盤，其中:該座體的真空吸引裝置為外接式的真空產(chǎn)生器或真空馬達(dá)。
[0014]所述的真空吸盤，其中:該座體的真空吸引裝置具有位于氣槽內(nèi)的至少一個(gè)U型流道，該U型流道具有連通到氣槽的復(fù)數(shù)通孔，且U型流道二端分別連接于座體的穿槽及預(yù)設(shè)空壓機(jī)。
[0015]所述的真空吸盤，其中:該U型流道具有水平排列的至少一個(gè)漸擴(kuò)流道，且漸擴(kuò)流道二端分別設(shè)有對(duì)應(yīng)連接各穿槽的進(jìn)氣流道及排氣流道，再在穿槽裝設(shè)有伸出到座體上方外部的對(duì)接組件，進(jìn)氣流道對(duì)應(yīng)的對(duì)接組件連接于預(yù)設(shè)空壓機(jī)。
[0016]所述的真空吸盤，其中:該座體頂面設(shè)有連通到氣槽的清潔槽口，清潔槽口鎖設(shè)有清潔螺絲。
[0017]所述的真空吸盤，其中:該座體頂面中央設(shè)有固定部，固定部周圍設(shè)有至少四個(gè)固定孑L。
[0018]所述的真空吸盤，其中:該底座的各入氣通道頂部設(shè)有內(nèi)縮的階部，且入氣通道內(nèi)設(shè)有外徑大于升降空間內(nèi)徑且抵持于階部的濾網(wǎng)，入氣通道內(nèi)再緊配設(shè)有抵持濾網(wǎng)形成定位的定位環(huán)。
[0019]所述的真空吸盤，其中:該接觸軟墊利用橡膠或硅膠等軟性發(fā)泡材質(zhì)所制成。
[0020]本實(shí)用新型的主要優(yōu)點(diǎn)乃在于該真空吸盤使用時(shí)，加壓閥片便會(huì)受到空氣推動(dòng)而位移，則入氣通道連通處便會(huì)縮小到僅剩加壓閥片中央穿孔的面積，如此讓氣流穿透處的面積縮小，以增大真空吸力，便可讓預(yù)設(shè)物件被真空吸盤穩(wěn)固吸引，高速移動(dòng)時(shí)預(yù)設(shè)物件也不會(huì)甩落。
[0021]本實(shí)用新型的次要優(yōu)點(diǎn)乃在于，利用加壓閥片抵持于升降空間與銜接通道之間的止擋面，讓升降空間與銜接通道之間的連通處縮小到僅剩加壓閥片的穿孔，便可減少進(jìn)入氣槽的空氣，當(dāng)真空吸盤吸引具多個(gè)鏤空處或呈不規(guī)則狀的預(yù)設(shè)物件時(shí)，真空吸引裝置排除空氣的速度為大于空氣經(jīng)過穿孔進(jìn)入氣槽的速度，所以氣槽的真空度就可減少損失，進(jìn)而可讓真空吸盤增大使用范疇，及提升真空吸引的穩(wěn)定性。
[0022]本實(shí)用新型的另一優(yōu)點(diǎn)乃在于該底座底面設(shè)置接觸軟墊，接觸軟墊為利用橡膠或硅膠等軟性發(fā)泡材質(zhì)所制成，作為底座及預(yù)設(shè)物件之間的隔離，以防止兩者之間因摩擦而造成刮傷，且其各吸引孔道之間均不連通，使得各吸引孔道形成獨(dú)立吸盤的效果，又可避免產(chǎn)生破真空的情況，進(jìn)而可提升加工或運(yùn)輸?shù)姆€(wěn)定性。
[0023]本實(shí)用新型的又一優(yōu)點(diǎn)乃在于該，底座的入氣通道內(nèi)裝設(shè)有濾網(wǎng)來濾除微小異物，以避免異物進(jìn)入升降空間、銜接通道或氣槽產(chǎn)生阻塞，且座體頂面具有清潔槽口及其鎖固的清潔螺絲，可拆除清潔螺絲并由清潔槽口施以正壓吹氣，便可將阻塞的異物吹出真空吸盤，進(jìn)而達(dá)到提升使用的穩(wěn)定性、減少維修次數(shù)及快速排除阻塞的效果。
[0024]本實(shí)用新型的再一優(yōu)點(diǎn)乃在于該座體頂面具有固定部及其周圍設(shè)有至少四個(gè)固定孔，讓預(yù)設(shè)載具可對(duì)正真空吸盤的中心并形成穩(wěn)固定位，進(jìn)而達(dá)到精準(zhǔn)定位的目的。
【附圖說明】
[0025]圖1是本實(shí)用新型的立體外觀圖；
[0026]圖2是本實(shí)用新型的另一立體外觀圖；
[0027]圖3是本實(shí)用新型未使用時(shí)的側(cè)視剖面圖；
[0028]圖4是本實(shí)用新型圖3的A部分的局部放大圖；
[0029]圖5是本實(shí)用新型使用時(shí)的側(cè)視剖面圖；
[0030]圖6是本實(shí)用新型圖5的B部分的局部放大圖；
[0031]圖7是本實(shí)用新型的另一剖面圖。
[0032]附圖標(biāo)記說明:1-座體；10_氣槽；11_穿槽；12_真空吸引裝置；121_流道；1210-通孔；1211-漸擴(kuò)流道；1212-進(jìn)氣流道；1213-排氣流道；122-對(duì)接組件；13-清潔槽口 ；131_清潔螺絲；14_固定部；15_固定孔；2-底座；21_入氣通道；211_階部；212_升降空間；213_止擋面；214_銜接通道；22_濾網(wǎng)；23_加壓閥片；231_穿孔；24_定位環(huán)；25_固定元件；26_密封墊圈；3_接觸軟墊；31_吸附底面；32_吸引孔道；4_預(yù)設(shè)物件。
【具體實(shí)施方式】
[0033]為達(dá)成上述目的及功效，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)手段及其構(gòu)造，茲繪圖就本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例詳加說明其特征與功能如下，俾利完全了解。
[0034]請(qǐng)參閱圖1、圖2、圖3、圖4、圖7所示，由圖中可以清楚看出，其包括座體1、底座2及接觸軟墊3，其中:
[0035]該座體I底部凹設(shè)有氣槽10，座體I頂面設(shè)有連通到氣槽10的復(fù)數(shù)穿槽11，再在復(fù)數(shù)穿槽11處裝設(shè)有真空吸引裝置12，且座體I頂面又設(shè)有連通到氣槽10的清潔槽口 13，并于清潔槽口 13鎖設(shè)有清潔螺絲131，座體I頂面中央再設(shè)有固定部14，固定部14周圍設(shè)有至少四個(gè)固定孔15。
[0036]該底座2裝設(shè)覆蓋于座體I底部，底座2的底面凹設(shè)有連通氣槽10的復(fù)數(shù)入氣通道21，各入氣通道21內(nèi)頂部設(shè)有內(nèi)縮的階部211，再以階部211內(nèi)側(cè)朝上凹設(shè)有升降空間212，升降空間212頂部設(shè)有內(nèi)縮的止擋面213，止擋面213內(nèi)側(cè)再朝上凹設(shè)有連通至氣槽10的銜接通道214，且入氣通道21內(nèi)設(shè)有外徑大于升降空間212內(nèi)徑且抵持于階部211的濾網(wǎng)22，升降空間212內(nèi)設(shè)有外徑小于升降空間212內(nèi)徑且大于銜接通道214內(nèi)徑且可上下往復(fù)位移的加壓閥片23，加壓閥片23中央再設(shè)有外徑小于銜接通道214內(nèi)徑的穿孔231，入氣通道21內(nèi)再緊配設(shè)有抵持濾網(wǎng)22形成定位的定位環(huán)24。
[0037]該接觸軟墊3對(duì)應(yīng)設(shè)置于底座2底面，且接觸軟墊3下方具有接觸預(yù)設(shè)物件4的吸附底面31，吸附底面31則朝上貫穿設(shè)有對(duì)正連通各入氣通道21的復(fù)數(shù)吸引孔道32。
[0038]上述的底座2對(duì)正座體I氣槽10以外處設(shè)有復(fù)數(shù)固定元件25，如此將底座2以鎖固到座體1，且底座2于復(fù)數(shù)入氣通道21外側(cè)接觸座體I的壁面處設(shè)有密封墊圈26，利用座體I或底座2凹設(shè)有凹槽容納并擠壓密封墊圈26形成密閉狀態(tài)，也可于座體I與真空吸引裝置12連接處設(shè)置密封墊圈26，然而有關(guān)固定及密封的技術(shù)是現(xiàn)有的技術(shù)，且該細(xì)部構(gòu)成非本案發(fā)明要點(diǎn)，茲不再贅述。
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