一種單向離合器內(nèi)環(huán)的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種單向離合器內(nèi)環(huán)，屬于離合器【技術(shù)領域】。它解決了現(xiàn)有離合器內(nèi)環(huán)加工定位不夠精準、影響了產(chǎn)品的使用質(zhì)量等問題。本單向離合器內(nèi)環(huán)，包括內(nèi)環(huán)本體，內(nèi)環(huán)外表面的一側(cè)設置有滾動軸承滾道，另一側(cè)設置有單向滾子離合槽，滾子離合槽結(jié)構(gòu)是：內(nèi)環(huán)的外側(cè)面上均勻分布有多個單向滾子工作嚙合的偏心斜弧面，相鄰的兩個偏心斜弧面之間均布設有定位用凹槽，定位用凹槽的槽底是與內(nèi)徑軸線同心的圓弧。本實用新型具有設置了加工基準，提高了內(nèi)環(huán)的加工精準度、提高了最終產(chǎn)品的工作精度和質(zhì)量等優(yōu)點。
【專利說明】一種單向離合器內(nèi)環(huán)
【技術(shù)領域】
[0001]本實用新型屬于離合器【技術(shù)領域】，特指一種單向離合器內(nèi)環(huán)。
【背景技術(shù)】
[0002]在滾子式單向離合器中，結(jié)構(gòu)簡單分為以下部件:單向離合器外環(huán)、單向離合器內(nèi)環(huán)、滾子，彈簧和保持架，內(nèi)環(huán)的外徑或外環(huán)內(nèi)徑上設置滾子離合槽。在現(xiàn)有結(jié)構(gòu)中，單向離合器是獨立的單件結(jié)構(gòu)，內(nèi)外環(huán)的同心度需要另加滾動軸承來保證，結(jié)構(gòu)不緊湊；在現(xiàn)有的內(nèi)環(huán)外徑上設置滾子離合槽結(jié)構(gòu)上，內(nèi)環(huán)外徑?jīng)]有或僅有圓弧形保持器定位槽，只能以外徑加工定位，精準度不高，影響了產(chǎn)品的使用質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型的目的是解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提出了一種單向離合器內(nèi)環(huán)，它在單向離合器一側(cè)設置有滾動軸承滾道，結(jié)構(gòu)緊湊，并且在內(nèi)環(huán)外徑設置有可用作加工基準的定位凹槽，提高了加工精度及產(chǎn)品最后工作精度。
[0004]本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的:
[0005]一種單向離合器內(nèi)環(huán)，包括內(nèi)環(huán)本體，其特征在于:內(nèi)環(huán)外表面的一側(cè)設置有滾動軸承滾道，另一側(cè)設置有單向滾子離合槽，滾子離合槽結(jié)構(gòu)是:內(nèi)環(huán)的外側(cè)面上均勻分布有多個單向滾子工作嚙合的偏心斜弧面，相鄰的兩個偏心斜弧面之間均布設有定位用凹槽，定位用凹槽的槽底是與內(nèi)徑軸線同心的圓弧。
[0006]在上述的一種單向離合器內(nèi)環(huán)中，所述的定位用凹槽的槽底為內(nèi)環(huán)本體的外側(cè)面。
[0007]在上述的一種單向離合器內(nèi)環(huán)中，多個定位凹槽相對內(nèi)環(huán)軸心同心均布設置。
[0008]本實用新型相比現(xiàn)有技術(shù)突出且有益的技術(shù)效果是:
[0009]1、本實用新型中定位凹槽的槽底即內(nèi)環(huán)的外徑，可做為內(nèi)環(huán)加工基準。
[0010]2、本實用新型的結(jié)構(gòu)簡單，提供了內(nèi)環(huán)后續(xù)加工的定位，提高了精度，提升了產(chǎn)品的工作效果和使用質(zhì)量。
[0011]3.本實用新型的結(jié)構(gòu)在滾子離合槽一側(cè)設置了滾動軸承滾道，提高了內(nèi)外環(huán)工作精度，并且結(jié)構(gòu)緊湊。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的側(cè)剖視圖。
[0013]圖2是本實用新型的橫截面圖。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖以具體實施例對本實用新型作進一步描述，參見圖1-2:
[0015]一種單向離合器內(nèi)環(huán)，包括內(nèi)環(huán)本體1，其特征在于:內(nèi)環(huán)外表面10的一側(cè)設置有滾動軸承滾道2，另一側(cè)設置有單向滾子離合槽，滾子離合槽結(jié)構(gòu)是:內(nèi)環(huán)的外側(cè)面上均勻分布有多個單向滾子工作嚙合的偏心斜弧面4，相鄰的兩個偏心斜弧面之間均布設有定位用凹槽3，定位用凹槽的槽底是與內(nèi)徑軸線同心的圓弧。
[0016]在本實用新型中，上述的定位凹槽3即為兩個偏心斜弧面之間的間隙。
[0017]所述的定位用凹槽的槽底為內(nèi)環(huán)本體的外側(cè)邊5。定位凹槽作為內(nèi)環(huán)的主要加工基準之一。
[0018]多個定位凹槽相對內(nèi)環(huán)軸心同心均布設置。
[0019]上述實施例僅為本實用新型的較佳實施例，并非依此限制本實用新型的保護范圍，故:凡依本實用新型的結(jié)構(gòu)、形狀、原理所做的等效變化，均應涵蓋于本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種單向離合器內(nèi)環(huán)，包括內(nèi)環(huán)本體(1)，其特征在于:內(nèi)環(huán)外表面(10)的一側(cè)設置有滾動軸承滾道(2)，另一側(cè)設置有單向滾子離合槽，滾子離合槽結(jié)構(gòu)是:內(nèi)環(huán)的外側(cè)面上均勻分布有多個單向滾子工作嚙合的偏心斜弧面(4)，相鄰的兩個偏心斜弧面之間均布設有定位用凹槽(3)，定位用凹槽的槽底是與內(nèi)徑軸線同心的圓弧。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單向離合器內(nèi)環(huán)，其特征在于:所述的定位用凹槽的槽底為內(nèi)環(huán)本體的外側(cè)面(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單向離合器內(nèi)環(huán)，其特征在于:多個定位凹槽相對內(nèi)環(huán)軸心同心均布設置。
【文檔編號】F16C33/58GK203670545SQ201320894591
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2013年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月31日
【發(fā)明者】閔樂寧 申請人:閔樂寧