專利名稱：一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及渦旋壓縮機(jī)中的零部件領(lǐng)域，更具體的說，改進(jìn)涉及的是一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有的渦旋壓縮機(jī)中，傳統(tǒng)的防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，
如附圖l至3所示，包括多個(gè)鋼^求230,和位于多個(gè)鋼J求230上方的一上墊圈210，和位于多個(gè)鋼球230下方的一下墊圏120，以及在所述上墊圏210與鋼球230之間設(shè)置的一帶若干通孔的上支撐盤111,和在所述下墊圈120與鋼球230之間對(duì)應(yīng)設(shè)置的一帶同樣若干通孔的下支撐盤121;所述上支撐盤111設(shè)置在渦旋壓縮機(jī)的前蓋上，所述下支撐盤121設(shè)置在動(dòng)渦旋盤上；所述上支撐盤111上的通孔與所述下支撐盤121上的通孔一一對(duì)應(yīng)，每一對(duì)通孔內(nèi)適配一個(gè)鋼J求230在通孔內(nèi)活動(dòng)以防止動(dòng)渦^走盤自轉(zhuǎn)；與所述鋼球230相接觸的所述上支撐盤111通孔孔口倒角處理，與所述鋼球230相接觸的所述下支撐盤121通孔孔口倒角處理，從而可增大所述鋼球230的活動(dòng)范圍。
但是，傳統(tǒng)的防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，裝配零件較多，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，才幾力口工時(shí)通孔及其倒角的質(zhì)量難以保證，生產(chǎn)效率因通孔的數(shù)量
增加而降低；另外，所述上支撐盤的大小制約了通孔的大小，由此限制了
鋼球的活動(dòng)范圍；而且鋼球在活動(dòng)的過程中會(huì)同時(shí)接觸前迷四個(gè)零件，使
得鋼球的受力狀況較差，縮短了鋼球的使用壽命。因此，現(xiàn)有才支術(shù)尚有待改進(jìn)和發(fā)展。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是，在于提供一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，
裝配零件少，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，利于加工和生產(chǎn)；并可改善滾珠體的受力狀況， 延長(zhǎng)滾珠體的使用壽命。 本發(fā)明的技術(shù)方案如下
一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，用于裝配在渦旋壓縮機(jī)的前 蓋與動(dòng)渦旋盤之間；其中，所述的滾珠體式裝置包括一靜止環(huán)、 一公轉(zhuǎn)環(huán)、 和位于所述靜止環(huán)與公轉(zhuǎn)環(huán)之間的多個(gè)滾珠體；所述靜止環(huán)設(shè)置在所述前 蓋上，在接觸所述滾珠體的靜止環(huán)表面上設(shè)置有平底的上凹槽；所述公轉(zhuǎn) 環(huán)設(shè)置在所述動(dòng)渦旋盤上，在接觸所述滾珠體的公轉(zhuǎn)環(huán)表面上設(shè)置有平底 的下凹槽；所述上凹槽和下凹槽用于夾持所述滾珠體活動(dòng)，以消除所述動(dòng) 渦旋盤圍繞靜渦旋盤回轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的自轉(zhuǎn)。
所述的滾珠體式裝置，其中，所述滾珠體在所述上凹槽內(nèi)的活動(dòng)距離， 以及所述滾珠體在所述下凹槽內(nèi)的活動(dòng)距離，均超過所述動(dòng)渦旋盤的回轉(zhuǎn) 直徑。
所述的滾珠體式裝置，其中，所述上凹槽和下凹槽的形狀設(shè)置為圓形。
所述的滾珠體式裝置，其中，所述上凹槽在所述靜止環(huán)上均勻等間隔 設(shè)置，所述下凹槽在所述公轉(zhuǎn)環(huán)上均勻等間隔設(shè)置；所述上凹槽的數(shù)量等 于所述下凹槽的數(shù)量。
所述的滾珠體式裝置，其中，在每一所述上凹槽和與其對(duì)應(yīng)的下凹槽 之間適配一個(gè)所述滾珠體。
所述的滾珠體式裝置，其中，所述上凹槽和下凹槽的內(nèi)工藝圓角半徑
均小于等于所述滾珠體的半徑設(shè)置。
本發(fā)明所提供的一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，由于采用了 帶平底凹槽的靜止環(huán)和帶平底凹槽的公轉(zhuǎn)環(huán)，減少了裝配零件的數(shù)量，簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)，通過模具即可完成對(duì)凹槽的加工，保證了加工的質(zhì)量，大大提
高了生產(chǎn)效率；并充分利用了靜止環(huán)的大小來增加滾動(dòng)體的活動(dòng)范圍；并 改善了滾動(dòng)體的受力狀況，延長(zhǎng)了滾動(dòng)體的使用壽命。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置俯視圖2為現(xiàn)有技術(shù)圖1中滾珠體式裝置的B-B剖視圖3為現(xiàn)有技術(shù)圖2中滾珠體式裝置的局部放大圖4為本發(fā)明中防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置俯視圖5為本發(fā)明圖4中滾珠體式裝置的B-B剖視圖6為本發(fā)明圖5中滾珠體式裝置的局部放大圖。
具體實(shí)施例方式
以下將結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明的裝置具體實(shí)施方式
和實(shí)施例加以詳細(xì)說明。
本發(fā)明的一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，其具體實(shí)施方式
之 一，如附圖4至6所示，用于軸向裝配在渦旋壓縮機(jī)的前蓋與動(dòng)渦旋盤之 間，以平衡動(dòng)渦旋盤的軸向作用力；所述的滾珠體式裝置包括一靜止環(huán)410、 一公轉(zhuǎn)環(huán)420、和位于所述靜止環(huán)410與公轉(zhuǎn)環(huán)420之間的多個(gè)滾珠體530; 所述靜止環(huán)410設(shè)置在所述前蓋上，在接觸所述滾珠體530的靜止環(huán)410 表面上設(shè)置有平底的上凹槽511;所述公轉(zhuǎn)環(huán)420設(shè)置在所述動(dòng)渦旋盤上， 在接觸所述滾珠體530的公轉(zhuǎn)環(huán)420表面上設(shè)置有平底的下凹槽521;所述 上凹槽和下凹槽用于夾持所述滾珠體530，并通過所述滾珠體530的活動(dòng)以 消除所述動(dòng)渦旋盤圍繞靜渦旋盤回轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的自轉(zhuǎn)。至于所述靜止環(huán)410 如何設(shè)置在所述前蓋上，以及所述公轉(zhuǎn)環(huán)420如何設(shè)置在動(dòng)渦旋盤上，因 并非本發(fā)明的改進(jìn)點(diǎn)，或者類同傳統(tǒng)的防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體530式裝置，故在此不再贅述。
作為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，如附圖6所示，所述滾珠體530在所述上 凹槽5U內(nèi)的活動(dòng)距離Ll，和所述滾珠體530在所述下凹槽521內(nèi)的活動(dòng) 距離Ll,均超過所述動(dòng)渦旋盤的回轉(zhuǎn)直徑2r，即Ll〉2r。在每一所述上凹 槽511和與其對(duì)應(yīng)的下凹槽521之間可適配一個(gè)所述滾珠體530，也就是說， 每一所述上凹槽511及其對(duì)應(yīng)的下凹槽521之間設(shè)置一個(gè)所述滾珠體530; 從而，可將所述動(dòng)渦旋盤產(chǎn)生的自轉(zhuǎn)作用力，由所述公轉(zhuǎn)盤施加到所述滾 動(dòng)體上，并通過滾動(dòng)體的滾動(dòng)來消除掉使所述動(dòng)渦旋盤產(chǎn)生自轉(zhuǎn)的作用力。
較好的是，所述上凹槽511和下凹槽521的形狀設(shè)置為圓形， 一方面 可利用五金模具進(jìn)行加工，能提高生產(chǎn)效率，另一方面，在批量生產(chǎn)的情 況下有利于凹槽的尺寸精度的穩(wěn)定，能保證裝配質(zhì)量。
較好的是，所述上凹槽511在所述靜止環(huán)410上均勻等間隔設(shè)置，所 述下凹槽521在所述公轉(zhuǎn)環(huán)420上均勻等間隔設(shè)置；所述上凹槽511的數(shù) 量等于所述下凹槽521的數(shù)量。從而可以將所述動(dòng)渦旋盤的軸向作用力均 勾施加到渦旋壓縮才幾的前蓋上。
需要說明的是，與傳統(tǒng)的滾珠體530式防動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)裝置相比，由 于與所述滾動(dòng)體相^^妄觸的零件減少為兩件，大大改善了所述滾珠體530的 受力狀況，減少了與所述滾珠體530的接觸面積，延長(zhǎng)了所述滾珠體530 的使用壽命。
進(jìn)一步地，如附圖6所示，所述上凹槽511和下凹槽521的內(nèi)工藝圓 角半徑R2均小于等于所述滾珠體530的半徑d/2設(shè)置，即R2《d/2;在所 述凹槽上與所述滾珠體530相接觸的位置處半徑R1，可大于等于所述滾珠 體530的半徑d/2設(shè)置，即Rl》d/2;另外，所述上凹槽511和下凹槽521 的外工藝圓角半徑R3均小于等于所述滾珠體530的半徑i殳置d/2,即R3 < d/2。從而，進(jìn)一步改善了所述滾珠體530的受力狀況，進(jìn)一步減少了與所 述滾珠體530的接觸面積，進(jìn)一步延長(zhǎng)了所述滾珠體530的使用壽命。應(yīng)當(dāng)理解的是，對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，采用平底凹槽的靜止環(huán) 和公轉(zhuǎn)環(huán)技術(shù)，可以根據(jù)上述說明加以改進(jìn)或變換，例如加工的手段不同， 使用的材料不同，以及表面處理工藝不同等，而所有這些改進(jìn)和變換都本 應(yīng)屬于本發(fā)明所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1、一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，用于裝配在渦旋壓縮機(jī)的前蓋與動(dòng)渦旋盤之間；其特征在于，所述的滾珠體式裝置包括一靜止環(huán)、一公轉(zhuǎn)環(huán)、和位于所述靜止環(huán)與公轉(zhuǎn)環(huán)之間的多個(gè)滾珠體；所述靜止環(huán)設(shè)置在所述前蓋上，在接觸所述滾珠體的靜止環(huán)表面上設(shè)置有平底的上凹槽；所述公轉(zhuǎn)環(huán)設(shè)置在所述動(dòng)渦旋盤上，在接觸所述滾珠體的公轉(zhuǎn)環(huán)表面上設(shè)置有平底的下凹槽；所述上凹槽和下凹槽用于夾持所述滾珠體活動(dòng)，以消除所述動(dòng)渦旋盤圍繞靜渦旋盤回轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的自轉(zhuǎn)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的滾珠體式裝置，其特征在于，所述滾珠體在 所述上凹槽內(nèi)的活動(dòng)距離，以及所述滾珠體在所述下凹槽內(nèi)的活動(dòng)距離， 均超過所述動(dòng)渦旋盤的回轉(zhuǎn)直徑。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的滾珠體式裝置，其特征在于，所述上凹槽和 下凹槽的形狀設(shè)置為圓形。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的滾珠體式裝置，其特征在于，所述上凹槽在 所述靜止環(huán)上均勻等間隔設(shè)置，所述下凹槽在所述公轉(zhuǎn)環(huán)上均勻等間隔設(shè) 置；所述上凹槽的數(shù)量等于所述下凹槽的數(shù)量。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的滾珠體式裝置，其特征在于，在每一所述上 凹槽和與其對(duì)應(yīng)的下凹槽之間適配一個(gè)所述滾珠體。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一所述的滾珠體式裝置，其特征在于，所 述上凹槽和下凹槽的內(nèi)工藝圓角半徑均小于等于所述滾珠體的半徑設(shè)置。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種防止動(dòng)渦旋盤自轉(zhuǎn)的滾珠體式裝置，裝配在渦旋壓縮機(jī)的前蓋與動(dòng)渦旋盤之間；該裝置包括一靜止環(huán)、一公轉(zhuǎn)環(huán)、和位于靜止環(huán)與公轉(zhuǎn)環(huán)之間的滾珠體；靜止環(huán)設(shè)置在前蓋上，在接觸滾珠體的靜止環(huán)表面上設(shè)置有平底的上凹槽，公轉(zhuǎn)環(huán)設(shè)置在動(dòng)渦旋盤上，在接觸滾珠體的公轉(zhuǎn)環(huán)表面上設(shè)置有平底的下凹槽，用于夾持滾珠體活動(dòng)，以消除動(dòng)渦旋盤圍繞靜渦旋盤回轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的自轉(zhuǎn)。由于采用了帶平底凹槽的靜止環(huán)和帶平底凹槽的公轉(zhuǎn)環(huán)，減少了裝配零件的數(shù)量，簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)，通過模具即可完成對(duì)凹槽的加工，保證了加工的質(zhì)量，大大提高了生產(chǎn)效率；并充分利用了靜止環(huán)的大小來增加滾動(dòng)體的活動(dòng)范圍；并改善了滾動(dòng)體的受力狀況，延長(zhǎng)了滾動(dòng)體的使用壽命。
文檔編號(hào)F04C29/00GK101672282SQ20091019023
公開日2010年3月17日 申請(qǐng)日期2009年9月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月19日
發(fā)明者孫尚傳, 童恩東 申請(qǐng)人:大富(深圳)科技有限公司;配天(安徽)機(jī)電技術(shù)有限公司