專利名稱：一種可控源隨鉆核測(cè)井儀器刻度裝置及刻度方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種核測(cè)井儀器刻度裝置及其刻度方法。
背景技術(shù)：
隨鉆測(cè)井是一種非電纜測(cè)井，它是將傳感器置于特殊的鉆鋌內(nèi)，在鉆井過(guò)程中測(cè)量各種物理參數(shù)并將相關(guān)數(shù)據(jù)發(fā)送到地面，以此指導(dǎo)鉆頭的鉆進(jìn)方向、了解地層信息、進(jìn)行地層評(píng)價(jià)的測(cè)井方法。隨鉆測(cè)井與傳統(tǒng)的電纜測(cè)井區(qū)別很大，常規(guī)核測(cè)井儀器的刻度方法與裝置在隨鉆測(cè)井中已不適用。由于采用可控源，就為發(fā)明隨鉆核測(cè)井儀器新的刻度方法和裝置的安全性能提供了保障。由于鉆鋌比裸眼井測(cè)井儀器的直徑大得多，無(wú)法在現(xiàn)有的傳統(tǒng)豎式刻度井群對(duì)隨鉆核測(cè)井儀器進(jìn)行刻度，研究一種新型的、簡(jiǎn)單易行的刻度方法與裝置勢(shì)在必行。目前，現(xiàn)有的核測(cè)井儀器刻度裝置在實(shí)驗(yàn)?zāi)M條件下實(shí)驗(yàn)成功的較少，而實(shí)地模擬刻度裝置費(fèi)力費(fèi)錢，并且模擬環(huán)境單一，不能夠方便的更換巖性介質(zhì)模塊，只能對(duì)某一特定巖性條件進(jìn)行模擬，對(duì)核測(cè)井儀器刻度裝置的要求較高。同時(shí)，刻度標(biāo)準(zhǔn)的巖性模擬井獲取困難，圍巖尺寸大，施工難度大，即使建成后刻度裝置維修費(fèi)用大。雖然現(xiàn)有技術(shù)公開各種中空的臥式圓柱體，在中空的圓柱體內(nèi)充入淡水和可用來(lái)調(diào)節(jié)視孔隙度的物質(zhì)，可取得不同的刻度值，但是，通過(guò)聚四氟乙烯材料做成的調(diào)節(jié)塊移動(dòng)位置來(lái)變換孔隙度，測(cè)量精度不高，影響儀器刻度準(zhǔn)確性。另外，對(duì)于開天窗更換孔隙度材料的方式，孔隙度材料厚度為 1CM，通過(guò)調(diào)節(jié)放置在凹槽內(nèi)的襯墊的高度來(lái)調(diào)節(jié)固體巖性介質(zhì)在屏蔽刻度桶內(nèi)的高度，讓儀器在刻度時(shí)標(biāo)定出探測(cè)深度，同時(shí)可以通過(guò)更換介質(zhì)探測(cè)核磁共振測(cè)井儀對(duì)各種孔隙度在不同高度位置的響應(yīng)，刻度過(guò)程復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種簡(jiǎn)單易行、安全有效的核測(cè)井儀器刻度裝置及其方法。具體技術(shù)方案由如下步驟實(shí)現(xiàn)—種可控源隨鉆核測(cè)井儀器刻度裝置，包括一種刻度槽，所述刻度槽內(nèi)襯核防護(hù)材料，所述刻度槽內(nèi)注入流體，所述刻度槽內(nèi)放置有上端面為凹槽的固體巖性介質(zhì)模塊。優(yōu)選地，所述刻度槽為水平臥式刻度槽。優(yōu)選地，所述刻度槽外體為水泥長(zhǎng)方形。優(yōu)選地，所述固體巖性介質(zhì)模塊為天然整體巖塊或人工澆鑄模塊。優(yōu)選地，所述流體為淡水。一種可控源隨鉆核測(cè)井儀器刻度的刻度方法，包括如下步驟采用一種刻度槽，刻度槽內(nèi)襯核防護(hù)材料，其內(nèi)放置有上端面有凹槽的固體巖性介質(zhì)模塊，該刻度槽內(nèi)注入流體，將帶鉆鋌的可控源隨鉆核測(cè)井儀器探測(cè)部分吊裝并平放于固體巖性介質(zhì)模塊上，刻度儀器全部沉入流體中，然后刻度。優(yōu)選地，所述的固體巖性介質(zhì)模塊覆蓋于刻度儀器上方。優(yōu)選地，所述刻度槽為水平臥式刻度槽。優(yōu)選地，所述刻度槽外體為水泥長(zhǎng)方形。優(yōu)選地，所述固體巖性介質(zhì)模塊為天然整體巖塊或人工澆鑄模塊。優(yōu)選地，所述流體為淡水。在科研、生產(chǎn)和服務(wù)實(shí)踐中，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了對(duì)隨鉆核測(cè)井儀器的刻度方法中不同模塊的轉(zhuǎn)換，同時(shí)其裝置簡(jiǎn)單易行，安全可靠環(huán)保，與傳統(tǒng)的核儀器刻度方法及裝置相比， 較先進(jìn)優(yōu)越。特別是將不同孔隙度的巖性材料分別制成大小一致的模塊，刻度時(shí)通過(guò)儀器位置的變化對(duì)水池內(nèi)不同模塊孔隙度產(chǎn)生響應(yīng)。由于不需要調(diào)節(jié)塊，也不需要被測(cè)模塊移動(dòng)位置，因而刻度效果更為準(zhǔn)確。本發(fā)明既適用于可控源隨鉆核測(cè)井儀器的刻度，還可用于化學(xué)源核測(cè)井儀器，具有良好的使用效果、普遍的推廣價(jià)值和廣闊的應(yīng)用前景。


圖1 是本發(fā)明實(shí)施例提供的可控源隨鉆核測(cè)井儀器刻度裝置。1、固體巖性介質(zhì)模塊，2、刻度槽。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明采用放射性刻度模擬法，提供一個(gè)等效于某一地層參數(shù)的環(huán)境，以對(duì)儀器刻度，或者說(shuō)，提供一個(gè)等效于某一刻度值的輻射場(chǎng)，以實(shí)現(xiàn)對(duì)儀器的刻度。如圖1所示的可控源隨鉆核測(cè)井儀器刻度裝置，采用一種水平臥式刻度槽2，刻度槽2外體為水泥長(zhǎng)方形，其內(nèi)放置上端面中間有凹槽的長(zhǎng)方體模塊1，模塊材質(zhì)根據(jù)不同孔隙度特性建立。模塊有天然整體巖塊和人工澆鑄模塊，模塊大小由可控源中子的能量決定。本裝置依據(jù)行業(yè)的建井標(biāo)準(zhǔn)，中子孔隙度和密度值校驗(yàn)共用一套模塊，由三塊模塊組成。其中第一模塊為天然整體巖塊，第二模塊和第二模塊為人工澆鑄模塊。三個(gè)模塊的密度值以及孔隙度值都為物理值，分別為(1)中子孔隙度校驗(yàn)值第一模塊為灰?guī)r低孔高密0. lp. u左右，第二模塊混凝土高孔低密40p. u左右，第三模塊混凝土中孔中密20p. u左右。(2)密度校驗(yàn)值第一模塊為灰?guī)r低孔高密2. 70g/cm3左右，第二模塊混凝土高孔低密1. 70g/cm3左右，第三模塊混凝土中孔中密2. 38g/cm3左右，必要時(shí)也可添加砂巖模塊2. 64g/cm3左右。本裝置所有模塊放置在一個(gè)充滿淡水的水池中，一是對(duì)放射源起到一定的屏蔽和防護(hù)的作用，二是依據(jù)所有模塊制作的工藝要求，需要所有模塊完全被淡水飽和。三是使得模塊的環(huán)境與現(xiàn)有刻度井群環(huán)境一致，保證模塊的真實(shí)性。根據(jù)儀器刻度需要可更換不同參數(shù)的模塊?？潭葧r(shí)用吊裝設(shè)備將帶鉆鋌的可控源隨鉆核測(cè)井儀器平放于模塊之上，待刻度的儀器完全沉入水中，(根據(jù)需要也可將相同孔隙度的同形狀模塊覆蓋于儀器上方)。中子發(fā)生器不加靶壓時(shí)不會(huì)發(fā)射中子。一旦發(fā)射中子時(shí)，儀器外殼及鉆鋌由于被中子射線活化，會(huì)有一定的Y輻射強(qiáng)度。此時(shí)操作人員應(yīng)遠(yuǎn)離刻度槽。等待人員撤離后，給儀器供電，進(jìn)行刻度。在儀器斷電后至少須等待10分鐘后穿戴防護(hù)服再接近儀器，以避免不必要的輻射損傷。
權(quán)利要求
1.一種可控源隨鉆核測(cè)井儀器刻度裝置，包括一種刻度槽，所述刻度槽內(nèi)襯核防護(hù)材料，所述刻度槽內(nèi)注入流體，所述刻度槽內(nèi)放置有上端面為凹槽的固體巖性介質(zhì)模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻度裝置，其特征在于，所述刻度槽為水平臥式刻度槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻度裝置，其特征在于，所述刻度槽外體為水泥長(zhǎng)方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻度裝置，其特征在于，所述固體巖性介質(zhì)模塊為天然整體巖塊和/或人工澆鑄模塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻度裝置，其特征在于，所述流體為淡水。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的刻度裝置的刻度方法，其特征在于，包括如下步驟 采用一種刻度槽，所述刻度槽內(nèi)襯核防護(hù)材料，所述刻度槽內(nèi)放置有上端面有凹槽的固體巖性介質(zhì)模塊，所述刻度槽內(nèi)注入流體，將帶鉆鋌的可控源隨鉆核測(cè)井儀器探測(cè)部分吊裝并平放于所述固體巖性介質(zhì)模塊上，然后將刻度儀器全部沉入流體中，然后刻度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述固體巖性介質(zhì)模塊覆蓋于所述刻度儀器的上方。
全文摘要
本發(fā)明公開一種核測(cè)井儀器刻度裝置及其方法采用一種刻度槽，刻度槽內(nèi)襯核防護(hù)材料，其內(nèi)放置有上端面有凹槽的固體巖性介質(zhì)模塊，該刻度槽內(nèi)注入流體，將帶鉆鋌的可控源隨鉆核測(cè)井儀器探測(cè)部分吊裝并平放于固體巖性介質(zhì)模塊上，刻度儀器全部沉入流體中，然后刻度。本發(fā)明既適用于可控源隨鉆核測(cè)井儀器的刻度，還可用于化學(xué)源核測(cè)井儀器，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了對(duì)隨鉆核測(cè)井儀器的刻度方法中不同模塊的轉(zhuǎn)換，同時(shí)其裝置簡(jiǎn)單易行，安全可靠環(huán)保，與傳統(tǒng)的核儀器刻度方法及裝置相比，較先進(jìn)優(yōu)越。
文檔編號(hào)E21B47/00GK102536199SQ20121003490
公開日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2012年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月16日
發(fā)明者何葆庵, 劉梟, 朱軍, 李傳偉, 李安宗, 王俊超, 秦泓江, 范宇翔, 郭廣鎏, 駱慶鋒 申請(qǐng)人:中國(guó)石油天然氣集團(tuán)公司