鈦基多元素薄膜雙色陽(yáng)極形成方法及其制品的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明乃是關(guān)于一種鐵基多元素薄膜雙色陽(yáng)極形成方法及其制品，特別是指一種 于基材的表面形成鐵基多元素氧化膜層，使基材具兩種W上金屬光澤的顏色，W及利用該 方法制成的制品。
【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)今攜帶式電子產(chǎn)品非常普及，例如手機(jī)、個(gè)人數(shù)位助理、電腦等。消費(fèi)者愈來(lái)愈 注重其外觀，因此各種電子產(chǎn)品的殼體通常具有光亮的表面，特別是金屬表面，通常加 W多 種手續(xù)，使其具有吸引人的平滑表面及光澤。
[0003] 為著在殼體的表面上色，目前已知的技術(shù)有利用陽(yáng)極氧化在金屬表面形成氧化鐵 膜層而產(chǎn)生顏色的方法。此種方式僅限于單一顏色，無(wú)法產(chǎn)生漸層色的變化。經(jīng)陽(yáng)極處理 產(chǎn)生的氧化鐵膜層因厚度不同而產(chǎn)生不同顏色，厚度決定于電壓等因素，若要形成不同厚 度的氧化鐵膜層于同一殼體上W產(chǎn)生不同顏色，實(shí)際操作上非常困難。
[0004] 再者為了形成另一種顏色，有的W貼附一層塑膠膜于金屬殼體上，貼膜則會(huì)蓋住 金屬殼體，無(wú)法提供真實(shí)的金屬色澤及觸感。
[0005] 因此如何在殼體的表面產(chǎn)生兩種W上金屬光澤的顏色且具金屬觸感，本發(fā)明申請(qǐng) 人曾提出中國(guó)臺(tái)灣專(zhuān)利公開(kāi)第201305392號(hào)且已核準(zhǔn)的「雙色陽(yáng)極鐵膜形成方法及其制 品」，然而鐵膜W電壓10伏特陽(yáng)極處理后的鉛筆硬度約為3H，仍有可改進(jìn)之處。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題，在于提供一種鐵基多元素薄膜雙色陽(yáng)極形成方法及 其制品，利用陽(yáng)極處理方法，基材上形成兩種W上金屬光澤的顏色，并且增加陽(yáng)極處理后氧 化層的硬度。
[0007] 為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，根據(jù)本發(fā)明的其中一種方案，提供一種鐵基多元素薄膜 雙色陽(yáng)極形成方法，包括下列的步驟；提供一基材；清洗該基材；沉積一鐵基多元素薄膜于 該基材上，其中該鐵基多元素薄膜含有鐵金屬與至少另一金屬；形成一掩模于該基材上； 將具有該鐵基多元素薄膜的該基材作為陽(yáng)極，浸入電解液；通入第一直流電壓W氧化該鐵 基多元素薄膜的表面，并產(chǎn)生第一鐵基多元素氧化膜層于該基材上；移除該掩模；將該基 材作為陽(yáng)極，浸入電解液，進(jìn)行陽(yáng)極處理；通入比第一直流電壓低的第二直流電壓W氧化該 鐵基多元素薄膜的表面，并產(chǎn)生第二鐵基多元素氧化膜層于該基材上；W及清洗該基材。
[0008] 根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施方式，其中該鐵基多元素薄膜的厚度為2微米至3. 5微米。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中該鐵基多元素薄膜的厚度為2微米時(shí)，發(fā)色電壓 為70伏特W下；其中該鐵基多元素薄膜的厚度為3. 5微米時(shí)，發(fā)色電壓為150伏特W下。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中該鐵基多元素薄膜的該另一金屬為鉛、銀或鉛銀。
[0011] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中沉積該鐵基多元素薄膜于該基材的步驟包括：提 供一鐵鉛烙煉祀，其中鐵鉛的成份比例為1比1 及W瓣射方式將上述鐵鉛烙煉祀的鐵原 子及鉛原子沉積瓣錐至該基材。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中沉積步驟的參數(shù)包括：抽真空的背壓為5e 4毫己 (mbar);加熱至50至10(TC;電壓為100至200伏特進(jìn)行20至30分鐘離子轟擊清潔；沉積 段通入氮?dú)饬髁?00至eOOsccm ;基材偏壓設(shè)定30至100伏特，頻率30至70曲Z ;祀材電 流設(shè)定為低電流至高電流增加模式；其中施W低電流瓣射時(shí)間為10至20分鐘，電流梯度時(shí) 間為10至20分鐘；其中施W高電流瓣射時(shí)間為90至160分鐘；其中沉積結(jié)束后，冷卻至 locrcw下，再移出該基材。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中該陽(yáng)極處理的電解液為硫酸，濃度為0.5VO1%至 2vol% ;定電壓，電解液溫度控制在常溫至4(TC ;陽(yáng)極處理時(shí)間為10至60砂。
[0014] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中該第一直流電壓為4至150伏特，移除該掩模后， 第二電壓設(shè)定低于第一電壓2伏特W上。
[0015] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中陽(yáng)極處理的第一電壓為35伏特；第二電壓為20伏 特。根據(jù)本發(fā)明的上述方法，本發(fā)明還提供一種具鐵基多元素薄膜雙色陽(yáng)極處理的制品，利 用上述方法制成，其包括一基材；及一形成于該基材表面的鐵基多元素薄膜，其中該鐵基多 元素薄膜含有鐵金屬與至少另一金屬；其中該鐵基多元素薄膜的表面具有一局部地氧化于 其表面的第一鐵基多元素氧化膜層、及一全面地氧化于其表面的第二鐵基多元素氧化層， 其中該第一鐵基多元素氧化膜層顯出第一顏色，該第二鐵基多元素氧化膜層于未形成該第 一鐵基多元素氧化膜層的區(qū)域顯出第二顏色。
[0016] 根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施方式，其中該鐵基多元素薄膜的厚度為2微米至3. 5微米。
[0017] 根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式，其中該鐵基多元素薄膜的該另一金屬為鉛、銀或鉛銀。
[0018] 本發(fā)明具有W下有益效果；本發(fā)明通過(guò)先W較高電壓陽(yáng)極氧化形成的具第一顏色 的第一鐵基多元素氧化膜層，再W較低電壓陽(yáng)極氧化形成的具第二顏色的第二鐵基多元素 氧化膜層，可容易于金屬殼體上形成其自發(fā)顏色，富有金屬光澤。此外，沉積鐵基多元素薄 膜與沉積鐵膜相比，陽(yáng)極處理后的硬度可大幅增加，W電壓10伏特陽(yáng)極處理為例，錐鐵薄 膜的陽(yáng)極膜鉛筆硬度為3H，而鐵基多元素薄膜的陽(yáng)極膜鉛筆硬度可提高至7H。
[0019] 為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明為達(dá)成既定目的所采取的技術(shù)、方法及效果，請(qǐng)參閱 W下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明、附圖，相信本發(fā)明的目的、特征與特點(diǎn)，當(dāng)可由此得W深入且 具體的了解，然而所附附圖與附件僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加 W限制。
【附圖說(shuō)明】
[0020] 圖1為本發(fā)明的鐵基多元素薄膜雙色陽(yáng)極形成方法示意圖。
[0021] 圖2為本發(fā)明的預(yù)備流程A步驟示意圖。
[0022] 圖3為本發(fā)明第一次陽(yáng)極氧化流程B1的步驟示意圖。
[0023] 圖4為本發(fā)明中第二次陽(yáng)極氧化流程B2的步驟示意圖。
[0024] 圖5為本發(fā)明應(yīng)用于電子產(chǎn)品的殼體的立體圖。
[00巧]【符號(hào)說(shuō)明】
[002引預(yù)備流程 A
[0027] 第一次陽(yáng)極氧化 B1
[0028] 移除掩模 A2
[0029] 第二次陽(yáng)極氧化 B2
[0030] 殼體 100
[00引]基材 102
[0032] 鐵基多元素薄膜 104
[0033] 第一鐵基多元素氧化膜層104'
[0034] 第二鐵基多元素氧化膜層104"
[0035] 掩模 106
【具體實(shí)施方式】
[0036] 請(qǐng)參考圖1，為本發(fā)明的鐵基多元素薄膜雙色陽(yáng)極形成方法示意圖。本發(fā)明的鐵基 多元素薄膜雙色陽(yáng)極形成方法可分成預(yù)備流程A、第一次陽(yáng)極氧化流程B1、移除掩模流程 A2、及第二次陽(yáng)極氧化流程B2。W下分別說(shuō)明各流程。
[0037] [預(yù)備流程A]
[0038] 請(qǐng)參考圖1及圖2,圖2顯示本發(fā)明的預(yù)備流程A步驟示意圖。在步驟All,提供 一基材102,基材102主要為金屬材質(zhì)，可W是一金屬殼體，例如鉛、鉛合金、不鎊鋼或鎮(zhèn)合 金的殼體，甚至也可W是非金屬殼體。
[0039] 接著步驟A12,關(guān)于金屬殼體的部份，視情況有的需要