專利名稱：一種塔式填充床式電解槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及從稀溶液中直接電解金屬技術(shù)，特別提供了一種直接從氰化浸液中電解提取金及其它貴金屬的填充床式電解槽。
直接電解法提金是指不經(jīng)富集步驟直接從氰化浸液中電解提取金及其它貴金屬。從低濃度(含金＜10mg／l)的氰化貴液中直接電解提取金、銀貴金屬的設(shè)想提出近百年了。由于該方法具有高效、快速、節(jié)能以及有效利用氰化鈉，減少環(huán)境污染等優(yōu)點(diǎn)，已在國(guó)內(nèi)外引起有關(guān)研究者的廣泛關(guān)注，并開始由實(shí)驗(yàn)室向工業(yè)化推進(jìn)，由于氰化液中金濃度很低(＜10mg／l)，要實(shí)現(xiàn)直接電解就必須克服由此造成的四個(gè)技術(shù)難點(diǎn)A.降低尾液金含量，達(dá)到高回收率；B.提高電沉積速率，適應(yīng)工業(yè)生產(chǎn)要求；C.降低電耗及其它消耗，保證技術(shù)上的優(yōu)勢(shì)；D.控制氰化鈉的電解消耗，做到經(jīng)濟(jì)，少污染。
近年來(lái)，國(guó)內(nèi)外在此領(lǐng)域開展了大量的研究工作，并且主要集中于充填床式電極電解槽型的改進(jìn)上。目前槽型基本上為兩類，一類為圓形槽，以Zadra槽和改進(jìn)的IMT槽為代表，溶液是以一種向上兼向外形式流過(guò)鋼棉，溶液與電流成直角流入，其缺點(diǎn)是溶液流動(dòng)不均勻，“有效”電極所占空間過(guò)大，電解槽的槽體積利用率低。另一類為矩形槽，液流與電流平行地流入，該類電解槽較Zadra槽的性能好，但是將其用于直接電解處理堆浸液時(shí)，因所需陰極面積必須很大，從而使成本增大。
本實(shí)用新型的目的在于提供一種填充床式電解槽，可以用于直接電解處理堆浸液，并且成本低，適用于工業(yè)化生產(chǎn)。
本實(shí)用新型提供了一種一種塔式填充床式電解槽，陰極1為填充床式結(jié)構(gòu)；陽(yáng)極2為多孔或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，其特征在于(1)該電解槽由2～100個(gè)兩組陽(yáng)極2、一組陰極1構(gòu)成的電解室豎直方向疊加串聯(lián)組成；(2)進(jìn)出液口3、4也設(shè)置在該方向。
陽(yáng)極2用耐腐蝕材料制作，如釕鈦涂層，鈦基陽(yáng)極，鈀涂層陽(yáng)極等，陰極1為炭纖維，鋼錦等材料。最好進(jìn)液口3設(shè)置在下部，出液口4設(shè)置在上部，陰極1最好為炭纖維。本實(shí)用新型為使原料與陰極充分接觸，采用了穿流式設(shè)計(jì)，力求布液均勻，豎直放置的塔式結(jié)構(gòu)有利于氣體排出，防止氣室現(xiàn)象，兩組陽(yáng)極2配一組陰極1以改善電場(chǎng)分布，提高了陰極1利用率，同時(shí)降低了陽(yáng)極2電流密度，減少氰根離子消耗，采用炭纖維(表面積244.6cm2／g)代替鋼棉(表面積34.46cm2／g)，表面積擴(kuò)大7.1倍(同重量下)，使電解速度進(jìn)一步加快。耐腐蝕陰極1進(jìn)一步降低了槽電壓，減少了氰根離子消耗，縮小極間距，降低槽電壓，減少了電耗與氰消耗。
以下結(jié)合附圖通過(guò)實(shí)施例詳述本實(shí)用新型。
附


圖1為一種塔式填充床式電解槽；附圖2為帶緩沖室的塔式填充床式電解槽。
實(shí)施例1如
圖1所示，用炭氈作陰極1，陰極1與兩塊隔板6構(gòu)成陰極室7，由10個(gè)陰極室7及其相應(yīng)陽(yáng)極2構(gòu)成的電解室在豎直方向羅列，進(jìn)液口3在下方，出液口4在上方，陽(yáng)極2與陰極室7及進(jìn)出液口3、4之間均用墊圈8隔絕和密封，進(jìn)出液口3、4各陰極室7之間用螺絲把牢，陽(yáng)極2用釕鈦涂層鈦基陽(yáng)極。
實(shí)施例2如圖2所示，電解槽與
圖1基本一致，所不同的是電解室之間用緩沖室5隔離開，為使布電更均勻，在炭纖維內(nèi)加有一鋼網(wǎng)10。
權(quán)利要求1.一種塔式填充床式電解槽，陰極(1)為填充床式結(jié)構(gòu)；陽(yáng)極(2)為多孔或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，其特征在于(1)該電解槽由2～100個(gè)兩組陽(yáng)極(2)、一組陰極(1)構(gòu)成的電解室豎直方向疊加串聯(lián)組成；(2)進(jìn)出液口(3)、(4)也設(shè)置在該方向。
2.按權(quán)利要求1所述的電解槽，其特征在于陽(yáng)極(2)用耐腐蝕材料制作，如釕鈦涂層鈦基陽(yáng)極，鈀涂層陽(yáng)極等，陰極(1)為炭纖維，鋼錦等材料。
3.按權(quán)利要求1，2所述之電解槽，其特征在于最好進(jìn)液口(3)設(shè)置在下部，出液口(4)設(shè)置在上部，陰極1最好為炭纖維。
4.按權(quán)利要求1，2所述之電解槽，其特征在于在電解室之間還可設(shè)置有緩沖室(5)。
5.按權(quán)利要求3所述之電解槽，其特征在于在電解室之間還可設(shè)置有緩沖室(5)。
專利摘要一種塔式填充床式電解槽，陰極為填充床式結(jié)構(gòu)；陽(yáng)極為多孔或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，其特征在于該電解槽由2～100個(gè)兩組陽(yáng)極、一組陰極構(gòu)成的電解室豎直方向疊加串聯(lián)組成；進(jìn)出液口也設(shè)置在該方向。本實(shí)用新型可以用于直接電解處理堆浸液，并且成本低，適用于工業(yè)化生產(chǎn)。
文檔編號(hào)C25C1/00GK2183998SQ9324658
公開日1994年11月30日 申請(qǐng)日期1993年12月24日 優(yōu)先權(quán)日1993年12月24日
發(fā)明者呂謙, 羅琨 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院金屬研究所