本技術(shù)屬于金屬電鍍，具體涉及一種電鍍液循環(huán)裝置。

背景技術(shù)：

1、電鍍工藝是利用電解的原理將導(dǎo)電體鋪上一層金屬的方法。電鍍是指在含有氰化亞金鉀、檸檬酸金鉀等金屬的鹽類溶液中，以被鍍基體金屬為陰極，通過電解作用，使鍍液中預(yù)鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來，形成鍍層的一種表面加工方法。

2、而在電鍍的過程中，電鍍液的純凈度直接影響電鍍的效果，影響形成于工件表面的鍍層的質(zhì)量。若是電鍍液中處于懸浮狀的固體微粒被附著于形成于工件表面的鍍層表面時，可能造成鍍層的平整性降低、鍍層失光、起光慢等問題，或者造成鍍層產(chǎn)生針孔、麻點等，使得鍍層的防腐蝕性能降低。此外，在長時間電鍍過程中，電鍍液中難免會沉淀不少雜質(zhì)，若雜質(zhì)濃度超標(biāo)，也會導(dǎo)致工件返工甚至報廢。

3、申請?zhí)枮閏n201621020838.8的中國專利公開了一種電鍍液過濾循環(huán)裝置，將抽水泵、過濾器以及出水泵放置在運動裝置中，該運動裝置中包括升降裝置和水平移動裝置，升降裝置帶動抽水泵、過濾器和出水泵進(jìn)行升降動作，水平移動裝置帶動抽水泵、過濾器以及出水泵作水平移動，這樣在抽取電鍍槽中的電鍍液中，可以調(diào)整抽取的角度，使得電鍍液過濾循環(huán)裝置能夠抽凈電鍍槽中的電鍍液，提高了電鍍液的過濾凈化效果。

4、隨著申請人的進(jìn)一步研究，發(fā)現(xiàn)由于該技術(shù)方案給出了多角度地將電鍍液抽取至過濾凈化器中過濾凈化的啟示，但未能對過電鍍液的過濾過程作出具有的結(jié)構(gòu)改進(jìn)，其過濾凈化效果未能達(dá)到理想效果，電鍍液的純凈度無法得到保證，影響鍍層的性能。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用了如下技術(shù)方案：

2、一種電鍍液循環(huán)裝置，包括：

3、容池；

4、隔離板，將所述容池分隔成處理區(qū)與靜置區(qū)，所述處理區(qū)內(nèi)設(shè)置有過濾單元；

5、第一泵體，與所述容池相連接，所述第一泵體上連接有伸入所述過濾單元側(cè)方的第一管道；

6、第二管道，所述第二管道兩端部分別與靜置區(qū)、第一泵體相連接；

7、所述隔離板上端部開設(shè)有供電鍍液從所述處理區(qū)流入靜置區(qū)的凹槽。

8、進(jìn)一步，還包括第二泵體，所述第二泵體上連接有伸入靜置區(qū)的第三管道，所述第二管道通過三通連件與所述第三管道、第二泵體相連通。

9、進(jìn)一步，所述靜置區(qū)側(cè)方靠近底部處連接有第四管道，所述第四管道另一端與第二泵體相連接。

10、進(jìn)一步，所述容池側(cè)部開設(shè)有液位窗。

11、進(jìn)一步，所述容池上連接有控制面板，所述控制面板與第一泵體、第二泵體電性連接。

12、進(jìn)一步，所述三通連件上連接有閥體。

13、本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下有益效果：

14、將容池分隔為不同區(qū)域，通過第一泵體將電鍍液從靜置區(qū)內(nèi)抽離至處理區(qū)內(nèi)，在過濾單元作用下，濾去電鍍液內(nèi)的固體微粒，經(jīng)初步處理后的電鍍液通過分隔板開設(shè)的凹槽，溢流至靜置區(qū)，經(jīng)連續(xù)且多次循環(huán)處理后，電鍍液達(dá)到工藝要求，有效防止了固體微粒粘附于鍍件上，造成毛刺。

技術(shù)特征：

1.一種電鍍液循環(huán)裝置，其特征在于，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的一種電鍍液循環(huán)裝置，其特征在于：還包括第二泵體(5)，所述第二泵體(5)上連接有伸入靜置區(qū)(3)的第三管道(50)，所述第二管道(42)通過三通連件(43)與所述第三管道(50)、第二泵體(5)相連通。

3.如權(quán)利要求2所述的一種電鍍液循環(huán)裝置，其特征在于：所述靜置區(qū)(3)側(cè)方靠近底部處連接有第四管道(51)，所述第四管道(51)另一端與第二泵體(5)相連接。

4.如權(quán)利要求1或2或3所述的一種電鍍液循環(huán)裝置，其特征在于：所述容池(1)側(cè)部開設(shè)有液位窗(11)。

5.如權(quán)利要求2或3所述的一種電鍍液循環(huán)裝置，其特征在于：所述容池(1)上連接有控制面板(12)，所述控制面板(12)與第一泵體(4)、第二泵體(5)電性連接。

6.如權(quán)利要求2或3所述的一種電鍍液循環(huán)裝置，其特征在于：所述三通連件(43)上連接有閥體(430)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種電鍍液循環(huán)裝置，包括容池；隔離板，將所述容池分隔成處理區(qū)與靜置區(qū)，所述處理區(qū)內(nèi)設(shè)置有過濾單元；第一泵體，與所述容池相連接，所述第一泵體上連接有伸入所述過濾單元側(cè)方的第一管道；第二管道，所述第二管道兩端部分別與靜置區(qū)、第一泵體相連接；所述隔離板上端部開設(shè)有供電鍍液從所述處理區(qū)流入靜置區(qū)的凹槽，本技術(shù)將容池分隔為不同區(qū)域，通過第一泵體將電鍍液從靜置區(qū)內(nèi)抽離至處理區(qū)內(nèi)，在過濾單元作用下，濾去電鍍液內(nèi)的固體微粒，有效防止了固體微粒粘附于鍍件上，造成毛刺。

技術(shù)研發(fā)人員：喻勇,羅傳冰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：重慶康萊爾環(huán)?？萍加邢薰?br/>技術(shù)研發(fā)日：20240426
技術(shù)公布日：2024/12/26