本技術(shù)涉及金屬鍍鎳槽液，具體為一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置。

背景技術(shù)：

1、裝飾型電鍍cu-ni-cr體系中，無論是塑膠電鍍還是金屬電鍍，其鍍層都是通過鍍cu，再鍍ni，最后鍍cr，由于產(chǎn)品不斷進入并且有少數(shù)產(chǎn)品掉落在鍍鉻槽，而鍍鉻槽液具有較強氧化性，勢必會引起鍍鉻槽中的雜質(zhì)離子(如cu2+、ni2+、cl-等)的含量均增高，從而嚴重影響鍍cr液的覆蓋能力，并極易引起產(chǎn)品燒焦或發(fā)黃，甚者，槽液則要作報廢處理，提高成本。

2、現(xiàn)有技術(shù)公開號：cn204174303u，提供了一種技術(shù)方案：一種鍍鉻槽除雜裝置，包括鍍鉻槽、陶瓷桶、鍍鎳板及鍍鉻陽極板；所述鍍鉻槽的上端具有兩個并列放置的支撐桿，支撐桿的兩端分別支撐在鍍鉻槽的兩端，所述陶瓷桶通過支撐桿懸掛于鍍鉻槽內(nèi)，在陶瓷桶的上端的兩側(cè)均具有向外延伸的支撐板；所述陶瓷桶內(nèi)插有鍍鎳板，在陶瓷桶與鍍鉻槽之間設(shè)置有鍍鉻陽極板；所述陶瓷桶的四周具有若干與陶瓷桶內(nèi)相連通的毛孔，所述毛孔的口徑在0.5μm-2μm之間。本實用新型的優(yōu)點在于：通過在鍍鉻槽內(nèi)，增設(shè)一陶瓷桶，并且陶瓷桶上具有若干只容許小直徑金屬離子通過的毛孔，另在陶瓷桶中通過直流電進行不停的電解，使得鍍鉻槽液中金屬雜質(zhì)會越來越少，鍍液純度會越來越高，性能會越來越好。

3、但是：

4、電鍍鎳工藝中，鍍液中雜質(zhì)含量的多少直接影響到鍍層的質(zhì)量及穩(wěn)定性，特別是銅離子，直接影響鍍層的亮度及致密性，因此對鍍液除雜顯得尤為重要。現(xiàn)有的鍍液除雜方法有化學(xué)除雜法和電解除雜法，化學(xué)除雜法通常在鍍液中添加化學(xué)試劑將銅離子凈化去除，但是除雜過程需停機，造成無法連續(xù)生產(chǎn)；電解除雜為通過外置的除雜儀，除雜儀通過管路連通鍍液槽，將鍍液循環(huán)，在循環(huán)的過程中，通過電解將銅離子還原析出。但是現(xiàn)有的除雜儀使用一段時間后，吸附在陰極板上的金屬雜質(zhì)會通過水洗的方式直接排入污水池，無法回收利用，并且加大污水處理的難度?？梢?，現(xiàn)有技術(shù)還有待改進和提高。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、(一)解決的技術(shù)問題

2、針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型提供了一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置。

3、(二)技術(shù)方案

4、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，包括工作臺，所述工作臺頂部左側(cè)的位置開設(shè)有沉淀槽，所述工作臺頂部右側(cè)的位置開設(shè)有電解槽，所述工作臺正面靠近底部的位置開設(shè)有安裝槽，所述安裝槽內(nèi)壁的左側(cè)固定安裝有用于向沉淀槽注液的水泵，且水泵的輸出端水管貫穿工作臺的一側(cè)延伸至沉淀槽的內(nèi)部，所述安裝槽內(nèi)壁的右側(cè)固定安裝有電解槽，所述工作臺頂部處于電解槽與沉淀槽之間的位置開設(shè)有溢流槽，通過水泵將金屬鍍鎳槽液注入沉淀槽，通過溢流槽溢流的方式流入電解槽，進行后續(xù)處理，可以使得較重的金屬雜質(zhì)盡可能多留在沉淀槽內(nèi)。

5、優(yōu)選的，所述沉淀槽內(nèi)壁左側(cè)的位置固定安裝有用于攔截金屬雜質(zhì)的攔截網(wǎng)，通過設(shè)置攔截網(wǎng)可以對金屬鍍鎳槽液進行初步的過濾。

6、優(yōu)選的，所述沉淀槽內(nèi)壁底部靠近右側(cè)的位置固定連接有一排用于輔助沉淀的弧形擋板，通過設(shè)置弧形擋板可以避免沉淀槽內(nèi)沉淀的雜質(zhì)被水流卷起。

7、優(yōu)選的，所述電解槽內(nèi)壁底部靠近背面的位置固定連接有正極柱，所述電解槽內(nèi)壁底部靠近正面的位置固定連接有負極柱，所述安裝槽內(nèi)壁的右側(cè)固定連接有電控器，且電控器的正極和負極分別與正極柱與負極柱電性連接。

8、優(yōu)選的，所述負極柱由收集筒、導(dǎo)柱、環(huán)形抽盒組成。

9、優(yōu)選的，所述收集筒的筒壁開設(shè)有用于金屬雜質(zhì)通過的圓孔，所述導(dǎo)柱固定連接在收集筒的內(nèi)壁底部，所述收集筒的內(nèi)壁滑動連接有環(huán)形抽盒，通過負極柱與正極柱的配合進行電解將銅離子還原析出，且通過設(shè)置收集筒的筒壁開設(shè)的圓孔對由于富集原理聚攏過來的金屬雜質(zhì)進行收集，且通過環(huán)形抽盒方便將金屬雜質(zhì)取出進行集中處理。

10、(三)有益效果

11、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型提供了一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，具備以下有益效果：

12、1、該一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，通過水泵將金屬鍍鎳槽液注入沉淀槽，通過溢流槽溢流的方式流入電解槽，進行后續(xù)處理，可以使得較重的金屬雜質(zhì)盡可能多留在沉淀槽內(nèi)，通過設(shè)置攔截網(wǎng)可以對金屬鍍鎳槽液進行初步的過濾，通過設(shè)置弧形擋板可以避免沉淀槽內(nèi)沉淀的雜質(zhì)被水流卷起。

13、2、該一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，通過負極柱與正極柱的配合進行電解將銅離子還原析出，且通過設(shè)置收集筒的筒壁開設(shè)的圓孔對由于富集原理聚攏過來的金屬雜質(zhì)進行收集，且通過環(huán)形抽盒方便將金屬雜質(zhì)取出進行集中處理。

技術(shù)特征：

1.一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，包括工作臺(1)，其特征在于：所述工作臺(1)頂部左側(cè)的位置開設(shè)有沉淀槽(3)，所述工作臺(1)頂部右側(cè)的位置開設(shè)有電解槽(4)，所述工作臺(1)正面靠近底部的位置開設(shè)有安裝槽(2)，所述安裝槽(2)內(nèi)壁的左側(cè)固定安裝有用于向沉淀槽(3)注液的水泵(21)，且水泵(21)的輸出端水管貫穿工作臺(1)的一側(cè)延伸至沉淀槽(3)的內(nèi)部，所述安裝槽(2)內(nèi)壁的右側(cè)固定安裝有電解槽(4)，所述工作臺(1)頂部處于電解槽(4)與沉淀槽(3)之間的位置開設(shè)有溢流槽(5)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，其特征在于：所述沉淀槽(3)內(nèi)壁左側(cè)的位置固定安裝有用于攔截金屬雜質(zhì)的攔截網(wǎng)(31)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，其特征在于：所述沉淀槽(3)內(nèi)壁底部靠近右側(cè)的位置固定連接有一排用于輔助沉淀的弧形擋板(32)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，其特征在于：所述電解槽(4)內(nèi)壁底部靠近背面的位置固定連接有正極柱(6)，所述電解槽(4)內(nèi)壁底部靠近正面的位置固定連接有負極柱(7)，所述安裝槽(2)內(nèi)壁的右側(cè)固定連接有電控器(22)，且電控器(22)的正極和負極分別與正極柱(6)與負極柱(7)電性連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，其特征在于：所述負極柱(7)由收集筒(71)、導(dǎo)柱(72)、環(huán)形抽盒(73)組成。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，其特征在于：所述收集筒(71)的筒壁開設(shè)有用于金屬雜質(zhì)通過的圓孔，所述導(dǎo)柱(72)固定連接在收集筒(71)的內(nèi)壁底部，所述收集筒(71)的內(nèi)壁滑動連接有環(huán)形抽盒(73)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及金屬鍍鎳槽液技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種金屬鍍鎳槽液除雜裝置，包括工作臺，所述工作臺頂部左側(cè)的位置開設(shè)有沉淀槽，通過水泵將金屬鍍鎳槽液注入沉淀槽，通過溢流槽溢流的方式流入電解槽，進行后續(xù)處理，可以使得較重的金屬雜質(zhì)盡可能多留在沉淀槽內(nèi)，通過設(shè)置攔截網(wǎng)可以對金屬鍍鎳槽液進行初步的過濾，通過設(shè)置弧形擋板可以避免沉淀槽內(nèi)沉淀的雜質(zhì)被水流卷起，通過負極柱與正極柱的配合進行電解將銅離子還原析出，且通過設(shè)置收集筒的筒壁開設(shè)的圓孔對由于富集原理聚攏過來的金屬雜質(zhì)進行收集，且通過環(huán)形抽盒方便將金屬雜質(zhì)取出進行集中處理。

技術(shù)研發(fā)人員：劉永剛,張義
受保護的技術(shù)使用者：深圳市眾志坤科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240417
技術(shù)公布日：2024/12/26