立式電鍍槽的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種立式電鍍槽，所述立式電鍍槽中形成有主電鍍槽(1)和緩沖槽(2)，所述主電鍍槽(1)的側(cè)壁上形成有溢流口(3)，所述主電鍍槽(1)中的電鍍液能夠通過所述溢流口(3)溢流至所述緩沖槽(2)，所述主電鍍槽(1)與緩沖槽(2)之間還連接有補流通道，所述緩沖槽(2)中的所述電鍍液能夠通過所述補流通道補充至所述主電鍍槽(1)中。本實用新型的立式電鍍槽能夠靈活地根據(jù)不同待電鍍工件的體積大小，存儲電鍍液或者向主電鍍槽中添加電鍍液。
【專利說明】立式電鍍槽

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及一種立式電鍍槽。

【背景技術(shù)】
[0002] 電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是 利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧 化（如銹蝕），提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性（硫酸銅等）及增進美觀等作用。
[0003] 電鍍槽是電鍍設備中最基礎(chǔ)的配套?，F(xiàn)有立式電鍍槽如圖1所示，均包括圓形直 桶型的主電鍍槽2,類似的立式電鍍槽普遍存在如下缺點：當電鍍工件體積較大時，需要從 主電鍍槽2抽出一部分電鍍液，防止電鍍作業(yè)時電鍍液溢出，相反當電鍍工件體積較小時， 又需將存放的已經(jīng)冷卻的電鍍液補充回主電鍍槽2,然后還需要對電鍍液進行攪拌升溫，防 止電鍍液存在上下溫差以避免電鍍質(zhì)量的下降，另外長期電鍍作業(yè)后電鍍液內(nèi)雜質(zhì)含量增 多，將導致電鍍質(zhì)量的下降；補充電鍍液時直接在主電鍍槽2添加，補充電鍍液中的雜質(zhì)在 主電鍍槽2底部沉積，影響電鍍質(zhì)量的同時還不易排出該雜質(zhì)。
[0004] 有鑒于此，需要提供一種能夠靈活地根據(jù)不同待電鍍工件的體積大小，存儲電鍍 液或者向主電鍍槽中添加電鍍液的立式電鍍槽。 實用新型內(nèi)容
[0005] 本實用新型的目的是提供一種立式電鍍槽，該立式電鍍槽能夠靈活地根據(jù)不同待 電鍍工件的體積大小，存儲電鍍液或者向主電鍍槽中添加電鍍液。
[0006] 為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種立式電鍍槽，所述立式電鍍槽中形成有 主電鍍槽和緩沖槽，所述主電鍍槽的側(cè)壁上形成有溢流口，所述主電鍍槽中的電鍍液能夠 通過所述溢流口溢流至所述緩沖槽，所述主電鍍槽與緩沖槽之間還連接有補流通道，所述 緩沖槽中的所述電鍍液能夠通過所述補流通道補充至所述主電鍍槽中。
[0007] 優(yōu)選地，具有所述溢流口的所述側(cè)壁為所述主電鍍槽與緩沖槽之間的間隔壁，所 述溢流口形成為所述側(cè)壁的頂部缺口。
[0008] 優(yōu)選地，所述立式電鍍槽包括作為所述補流通道的補流管，該補流管的一端連接 到所述緩沖槽的底部，另一端連接至所述主電鍍槽。
[0009] 優(yōu)選地，所述補流管中設置有輸送泵。
[0010] 優(yōu)選地，所述補流管中設置有電鍍液過濾機。
[0011] 優(yōu)選地，所述緩沖槽中設置有電鍍液加熱器。
[0012] 優(yōu)選地，所述電鍍液加熱器包括電鍍液凈化單元。
[0013] 優(yōu)選地，所述立式電鍍槽還包括用于遮蓋所述緩沖槽的緩沖槽頂蓋，所述緩沖槽 頂蓋中設置有加料口。
[0014] 優(yōu)選地，所述立式電鍍槽還包括溢流管，該溢流管的一端連接所述溢流口，另一端 連接所述緩沖槽。
[0015] 通過上述技術(shù)方案，本實用新型的立式電鍍槽能夠靈活地根據(jù)不同待電鍍工件的 體積大小，存儲電鍍液或者向主電鍍槽中添加電鍍液，避免頻繁抽出或者補充電鍍液，與此 同時，存儲在緩沖槽中的電鍍液均能通過電鍍液加熱器加熱保溫，從而避免添加進入主電 鍍槽中的電鍍液與原主電鍍槽中的電鍍液存在較大溫差，進而防止電鍍液存在上下溫差以 避免電鍍質(zhì)量的下降。此外，向立式電鍍槽中補充電鍍液的操作過程均在緩沖槽中完成，從 而使得補充電鍍液中的雜質(zhì)在緩沖槽的底部沉積，便于收集排出該雜質(zhì)的同時，防止了該 雜質(zhì)影響電鍍質(zhì)量。
[0016] 本實用新型的其他特征和優(yōu)點將在隨后的【具體實施方式】部分予以詳細說明。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017] 附圖是用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面 的【具體實施方式】一起用于解釋本實用新型，但并不構(gòu)成對本實用新型的限制。在附圖中：
[0018] 圖1是現(xiàn)有技術(shù)的立式電鍍槽的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019] 圖2是根據(jù)本實用新型的【具體實施方式】的立式電鍍槽的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020] 圖3是圖2中的立式電鍍槽的俯視圖。
[0021] 附圖標記說明
[0022] 1、主電鍍槽2、緩沖槽
[0023] 3、溢流口 4、電鍍液加熱器
[0024] 6、輸送泵

【具體實施方式】
[0025] 以下結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】進行詳細說明。應當理解的是，此處 所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本實用新型，并不用于限制本實用新型。
[0026] 本實用新型提供一種立式電鍍槽，通過對比圖1與圖2,可以觀察出本實用新型在 結(jié)構(gòu)上的改進。具體的，如圖2和圖3所示，所述立式電鍍槽中形成有主電鍍槽1和緩沖槽 2,所述主電鍍槽1的側(cè)壁上形成有溢流口 3,所述主電鍍槽1中的電鍍液能夠通過所述溢流 口 3溢流至所述緩沖槽2,所述主電鍍槽1與緩沖槽2之間還連接有補流通道，所述緩沖槽 2中的所述電鍍液能夠通過所述補流通道補充至所述主電鍍槽1中。
[0027] 需要說明的是，主電鍍槽1和緩沖槽2之間的溢流通道和/或補流通道的具體結(jié) 構(gòu)形式或者方式可以根據(jù)需要設置，這些均屬于本實用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍之內(nèi)。與此同 時，主電鍍槽1、緩沖槽2和溢流口 3的具體結(jié)構(gòu)形式也可以根據(jù)需要設置，這些均屬于本實 用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍之內(nèi)，例如，主電鍍槽1和緩沖槽2均可以形成為圓柱形或者長方體 形，溢流口 3可以形成為圓形或者方形等等。
[0028] 本實用新型的立式電鍍槽能夠靈活地根據(jù)不同待電鍍工件的體積大小，存儲電鍍 液或者向主電鍍槽1中添加電鍍液，避免頻繁抽出或者補充電鍍液，與此同時，存儲在緩沖 槽2中的電鍍液均能通過電鍍液加熱器加熱保溫，從而避免添加進入主電鍍槽1中的電鍍 液與原主電鍍槽1中的電鍍液存在較大溫差，進而防止電鍍液存在上下溫差以避免電鍍質(zhì) 量的下降。此外，向立式電鍍槽中補充電鍍液的操作過程均在緩沖槽2中完成，從而使得補 充電鍍液中的雜質(zhì)在緩沖槽2的底部沉積，便于收集排出該雜質(zhì)的同時，防止了該雜質(zhì)影 響電鍍質(zhì)量。
[0029] 在本實用新型的立式電鍍槽中，優(yōu)選地如圖2所示，具有所述溢流口 3的所述側(cè)壁 為所述主電鍍槽1與緩沖槽2之間的間隔壁，所述溢流口 3形成為所述側(cè)壁的頂部缺口，從 而將主電鍍槽1和緩沖槽2緊湊地形成于一體，并且利用主電鍍槽1的側(cè)壁形成溢流口 3， 使得本實用新型的立式電鍍槽結(jié)構(gòu)緊湊，加工制造容易。
[0030] 作為選擇地，所述立式電鍍槽還包括溢流管，該溢流管的一端連接所述溢流口 3， 另一端連接所述緩沖槽2,從而利用該溢流管，使得主電鍍槽1中的電鍍液能夠向緩沖槽2 中溢流。
[0031] 在本實用新型的立式電鍍槽中，更優(yōu)選地，所述立式電鍍槽包括作為所述補流通 道的補流管，該補流管的一端連接到所述緩沖槽2的底部，另一端連接至所述主電鍍槽1， 從而使得立式電鍍槽可以利用重力并通過該補流管，將緩沖槽2中的電鍍液補充進入主電 鍍槽1中。此外補流管可設置有開關(guān)閥，從而可以根據(jù)需要，選擇是否進行補流。
[0032] 在上述立式電鍍槽中，選擇性地，所述補流管中設置有輸送泵6,從而能夠通過該 輸送泵6將緩沖槽2中的電鍍液補充進入主電鍍槽1中。
[0033] 作為輸送6的選擇性實施方式，所述補流管中設置有電鍍液過濾機，從而能夠利 用該電鍍液過濾機將緩沖槽2中的電鍍液補充進入主電鍍槽1中，與此同時，還能將電鍍液 進行過濾處理,并通過電解反應去除電鍍液中混合的金屬雜質(zhì)。
[0034] 在本實用新型的立式電鍍槽中，優(yōu)選地，所述緩沖槽2中設置有電鍍液加熱器4， 從而利用該電鍍液加熱器4對緩沖槽2中的電鍍液加熱保溫，避免電鍍液冷卻，進而避免添 加進入主電鍍槽1中的電鍍液與原主電鍍槽1中的電鍍液存在較大溫差，防止電鍍液存在 上下溫差以避免電鍍質(zhì)量的下降。具體地，所述電鍍液加熱器4包括電鍍液凈化單元，從而 在加熱電鍍液的同時，凈化電鍍液，保證避免電鍍質(zhì)量。
[0035] 在本實用新型的立式電鍍槽中，更優(yōu)選地，所述立式電鍍槽還包括用于遮蓋所述 緩沖槽2的緩沖槽頂蓋，所述緩沖槽頂蓋中設置有加料口，從而防止雜物灰塵落入到緩沖 槽2,并且能夠通過加料口向立式電鍍槽添加電鍍液，避免電鍍液中的雜質(zhì)在主電鍍槽1底 部沉積（主電鍍槽1通常較深，不便于取出底部沉積物），同時使得補充電鍍液中的雜質(zhì)在 緩沖槽2的底部沉積，便于收集排出該雜質(zhì)的同時，防止了該雜質(zhì)影響電鍍質(zhì)量。
[0036] 以上結(jié)合附圖詳細描述了本實用新型的優(yōu)選實施方式，但是，本實用新型并不限 于上述實施方式中的具體細節(jié)，在本實用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對本實用新型的技 術(shù)方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本實用新型的保護范圍。
[0037] 另外需要說明的是，在上述【具體實施方式】中所描述的各個具體技術(shù)特征，在不矛 盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本實用新型對各 種可能的組合方式不再另行說明。
[0038] 此外，本實用新型的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違 背本實用新型的思想，其同樣應當視為本實用新型所公開的內(nèi)容。
【權(quán)利要求】
1. 一種立式電鍍槽，其特征在于，所述立式電鍍槽中形成有主電鍍槽（1)和緩沖槽 (2)，所述主電鍍槽（1)的側(cè)壁上形成有溢流口（3)，所述主電鍍槽（1)中的電鍍液能夠通過 所述溢流口（3)溢流至所述緩沖槽（2)，所述主電鍍槽（1)與緩沖槽（2)之間還連接有補流 通道，所述緩沖槽（2)中的所述電鍍液能夠通過所述補流通道補充至所述主電鍍槽（1)中。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式電鍍槽，其特征在于，具有所述溢流口（3)的所述側(cè)壁為 所述主電鍍槽（1)與緩沖槽（2)之間的間隔壁，所述溢流口（3)形成為所述側(cè)壁的頂部缺 □。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式電鍍槽，其特征在于，所述立式電鍍槽包括作為所述補 流通道的補流管，該補流管的一端連接到所述緩沖槽（2)的底部，另一端連接至所述主電 鍍槽（1)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式電鍍槽，其特征在于，所述補流管中設置有輸送泵（6)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式電鍍槽，其特征在于，所述補流管中設置有電鍍液過濾 機。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式電鍍槽，其特征在于，所述緩沖槽（2)中設置有電鍍液加 熱器（4)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的立式電鍍槽，其特征在于，所述電鍍液加熱器（4)包括電鍍液 凈化單元。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式電鍍槽，其特征在于，所述立式電鍍槽還包括用于遮蓋 所述緩沖槽（2)的緩沖槽頂蓋，所述緩沖槽頂蓋中設置有加料口。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式電鍍槽，其特征在于，所述立式電鍍槽還包括溢流管，該 溢流管的一端連接所述溢流口（3)，另一端連接所述緩沖槽（2)。
【文檔編號】C25D21/12GK203999886SQ201420404655
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年7月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月22日
【發(fā)明者】魏靜 申請人:湖南特力液壓有限公司, 中聯(lián)重科股份有限公司