控制電化學(xué)剝離過程的系統(tǒng)和方法
【專利摘要】本發(fā)明揭示一種電化學(xué)剝離方法，其包括如下步驟：從電源施加電流至可導(dǎo)電的待加工工件，其中該施加的電流被設(shè)置成選擇性地剝離依附于該可導(dǎo)電的待加工工件的至少一部分涂層；接收代表從該電源流向該可導(dǎo)電的加工工件的實際電流的多個測量電流值，該多個測量電流值構(gòu)成電流-時間變化曲線；至少根據(jù)該多個測量電流值識別出該電流-時間變化曲線上的交叉點，其中，該交叉點定義電化學(xué)剝離過程的第一剝離時間；至少基于該識別的交叉點以及預(yù)設(shè)的常數(shù)計算期望的總剝離時間，其中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)定義該涂層的剝離深度，以及在判斷出已經(jīng)達到該計算的總剝離時間時，停止或暫停從該電流提供電流至該待加工工件。本發(fā)明還揭示一種電化學(xué)剝離系統(tǒng)。
【專利說明】控制電化學(xué)剝離過程的系統(tǒng)和方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明公開的實施方式涉及電化學(xué)剝離（electrochemical stripping)過程控制 系統(tǒng)和方法，特別涉及一種自動終止或者暫停電化學(xué)剝離過程的系統(tǒng)和方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 電化學(xué)剝離技術(shù)可以被用來選擇性地將待加工工件(例如，渦輪葉片）上所形成的 涂層(例如，鋁化合物型合金）剝離或者移除。通常，電化學(xué)剝離過程包括如下步驟：將待加 工工件浸沒于溶液中，通過溶液在該待加工工件和電極之間導(dǎo)通電流，使得該待加工工件 上的涂層可以在電化學(xué)反應(yīng)下被剝離或者移除。傳統(tǒng)上，為了避免電化學(xué)反應(yīng)程度不夠而 造成涂層的不完全剝離，或者過度的電化學(xué)反應(yīng)而造成基底金屬的不當(dāng)剝離，在加工的過 程中，一種做法是不時地將該待加工工件從溶液中取出來，通過焰色反應(yīng)來觀察涂層的剝 離深度或者剝離程度。然而，反復(fù)地從溶液中取放加工工件比較不方便，需要許多的人工操 作，并且會造成電化學(xué)剝離過程加工周期的延長。
[0003] 因此，需要提供改進的系統(tǒng)和方法來更好地控制該電化學(xué)剝離過程。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 有鑒于上文提及之技術(shù)問題或者技術(shù)需求，本發(fā)明的一個方面在于提供一種電化 學(xué)剝離方法，該方法至少包括如下步驟：從電源施加電流至可導(dǎo)電的待加工工件，其中該施 加的電流被設(shè)置成選擇性地剝離依附于該可導(dǎo)電的待加工工件的至少一部分涂層；接收代 表從該電源流向該可導(dǎo)電的加工工件的實際電流的多個測量電流值，該多個測量電流值構(gòu) 成電流-時間變化曲線；至少根據(jù)該多個測量電流值識別出該電流-時間變化曲線上的交 叉點，其中，該交叉點定義電化學(xué)剝離過程的第一剝離時間；至少基于該識別的交叉點以及 預(yù)設(shè)的常數(shù)計算期望的總剝離時間，其中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)定義該涂層的剝離深度，以及在判 斷出已經(jīng)達到該計算的總剝離時間時，停止或者暫停從該電源提供電流至該待加工工件。
[0005] 在提供的電化學(xué)剝離方法中，其中，識別該交叉點的步驟包括如下子步驟：至少根 據(jù)該多個測量的電流值計算微分電流值；判斷該微分電流值是否小于零；經(jīng)判斷該微分電 流值小于零時，至少根據(jù)測量的電流值計算平均電流值；將該計算的平均電流值與相對應(yīng) 的測量電流值相減；以及當(dāng)該計算的平均電流值與相對應(yīng)的測量電流值之間的差值等于零 時，識別出該電流-時間變化曲線上的交叉點。
[0006] 在提供的電化學(xué)剝離方法中，其中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)大于0小于1。
[0007] 在提供的電化學(xué)剝離方法中，其中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)在0. 05和0. 1之間。
[0008] 在提供的電化學(xué)剝離方法中，其中，計算該期望的總剝離時間的步驟包括如下子 步驟：至少根據(jù)該識別的交叉點以及預(yù)設(shè)的時間常數(shù)識別出期望的終止點，其中，該期望的 終止點和該交叉點定義該電化學(xué)剝離過程的第二剝離時間；以及將該第一剝離時間和該第 二剝離時間相加，以得到該期望的總剝離時間。
[0009] 在提供的電化學(xué)剝離方法中，該方法還包括如下步驟：至少根據(jù)該測量的多個電 流值計算與該電化學(xué)剝離過程相關(guān)的電荷量；判斷該計算的電荷量是否滿足預(yù)設(shè)的電荷 量；以及經(jīng)判斷該計算的電荷量滿足該預(yù)設(shè)的電荷量時，停止或者暫停將該電源提供的電 流施加至該可導(dǎo)電的待加工工件。
[0010] 本發(fā)明的另一個方面在于提供一種系統(tǒng)，該系統(tǒng)被配置成選擇性地將基底的至少 一部分涂層剝離。該系統(tǒng)包括：電源和控制器。該電源與該基底以及電極可導(dǎo)電地連接，該 電源被配置成施加電流至該基底，以在該基底和電極之間建立電場。該控制器包括交叉點 識別單元，總剝離時間計算單元以及剝離過程控制單元。該交叉點識別單元被配置成至少 根據(jù)多個測量的電流值識別出電流-時間變化曲線上的交叉點，其中該交叉點定義電化學(xué) 剝離過程的第一剝離時間。該總剝離時間計算單元被配置成至少根據(jù)該識別出的交叉點以 及預(yù)設(shè)的時間常數(shù)計算出期望的總剝離時間，其中該預(yù)設(shè)的時間常數(shù)與該涂層的剝離深度 有關(guān)。該剝離過程控制單元被配置成在該電化學(xué)剝離過程實際進行的時間達到該期望的總 剝離時間時，停止或者暫停提供電流。
[0011] 在提供的系統(tǒng)中，該系統(tǒng)還包括電連接在該電源和該基底之間的開關(guān)。該開關(guān)被 配置成在該期望的總剝離時間到達時，根據(jù)該控制器發(fā)送的第一控制信號而被關(guān)斷，該開 關(guān)還被配置成在該期望的總剝離時間未到達時，根據(jù)該控制器發(fā)送的第二控制信號而被開 通。
[0012] 在提供的系統(tǒng)中，該基底為渦輪葉片的至少一部分。
[0013] 在提供的系統(tǒng)中，該涂層包括鋁化合物型合金或者鉬鋁化合物。
[0014] 在提供的系統(tǒng)中，該系統(tǒng)還包括濾波單元，該濾波單元被配置成濾除包含在測量 的電流信號中的噪聲信號。
[0015] 在提供的系統(tǒng)中，該控制器還包括：微分電流計算單元，平均電流計算單元以及求 和單元。該微分電流計算單元被配置成至少根據(jù)該多個測量的電流值計算微分電流值。該 平均電流計算單元被配置成在該計算的微分電流值小于零時，至少根據(jù)該多個測量的電流 值計算平均電流值。該求和單元被配置成將該計算的平均電流值與對應(yīng)的測量電流值相 減，以得到電流差值。其中，該交叉點識別單元被配置成在該電流差值等于零時識別出該電 流-時間變化曲線上的交叉點。
[0016] 在提供的系統(tǒng)中，該控制器還包括電量計算單元。該電量計算單元被配置成至少 根據(jù)該多個測量的電流值計算出與該電化學(xué)剝離過程相關(guān)的總電荷量。其中，該剝離過程 控制單元還被配置成在該計算的總電流量達到預(yù)設(shè)的電荷量時，停止或者暫停從該電源提 供電流給該基底。
[0017] 在提供的系統(tǒng)中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)在0. 05和0. 1之間。
[0018] 本發(fā)明的再一個方面在于提供一種電化學(xué)剝離系統(tǒng)，該電化學(xué)剝離系統(tǒng)至少包括 如下步驟：從電源施加電流至可導(dǎo)電的待加工工件的模塊，其中該施加的電流被設(shè)置成選 擇性地剝離依附于該可導(dǎo)電的待加工工件的至少一部分涂層；接收代表從該電源流向該可 導(dǎo)電的加工工件的實際電流的多個測量電流值的模塊，該多個測量電流值構(gòu)成電流-時間 變化曲線；至少根據(jù)該多個測量電流值識別出該電流-時間變化曲線上的交叉點模塊，其 中，該交叉點定義電化學(xué)剝離過程的第一剝離時間；至少基于該識別的交叉點以及預(yù)設(shè)的 常數(shù)計算期望的總剝離時間的模塊，其中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)定義該涂層的剝離深度，以及在判 斷出已經(jīng)達到該計算的總剝離時間時，停止從該電流提供電流至該待加工工件的模塊。
[0019] 本發(fā)明的再一個方面在于提供一種非暫態(tài)電腦可讀存儲介質(zhì)，該存儲介質(zhì)存儲有 多個指令，該多個指令被至少一個處理器處理，以執(zhí)行如下動作：接收代表從電源流向可 導(dǎo)電的加工工件的實際電流的多個測量電流值，該多個測量電流值構(gòu)成電流-時間變化曲 線；至少根據(jù)該多個測量電流值識別出該電流-時間變化曲線上的交叉點，其中，該交叉點 定義電化學(xué)剝離過程的第一剝離時間；至少基于該識別的交叉點以及預(yù)設(shè)的常數(shù)計算期望 的總剝離時間，其中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)定義該涂層的剝離深度，以及在判斷出已經(jīng)達到該計算 的總剝離時間時，停止從該電流提供電流至該待加工工件。
[0020] 在提供的非暫態(tài)電腦可讀存儲介質(zhì)中，該存儲介質(zhì)存儲還存儲多個指令，該多個 指令被該至少一個處理器，以執(zhí)行如下動作：至少根據(jù)該多個測量的電流值計算微分電流 值；判斷該微分電流值是否小于零；經(jīng)判斷該微分電流值小于零時，至少根據(jù)測量的電流 值計算平均電流值；將該計算的平均電流值與相對應(yīng)的測量電流值相減；以及當(dāng)該計算的 平均電流值與相對應(yīng)的測量電流值之間的差值等于零時，識別出該電流-時間變化曲線上 的交叉點。
[0021] 在提供的非暫態(tài)電腦可讀存儲介質(zhì)中，該存儲介質(zhì)存儲還存儲多個指令，該多個 指令被該至少一個處理器，以執(zhí)行如下動作：至少根據(jù)該識別的交叉點以及預(yù)設(shè)的時間常 數(shù)識別出期望的終止點，其中，該終止點和該交叉點定義該電化學(xué)剝離過程的第二剝離時 間；以及將該第一剝離時間和該第二剝離時間相加，以得到該期望的總剝離時間。
[0022] 在提供的非暫態(tài)電腦可讀存儲介質(zhì)中，該存儲介質(zhì)存儲還存儲多個指令，該多個 指令被該至少一個處理器，以執(zhí)行如下動作：至少根據(jù)該測量的多個電流值計算與該電化 學(xué)剝離過程相關(guān)的總電荷量；判斷該計算的總電荷量是否滿足預(yù)設(shè)的電荷量；以及經(jīng)判斷 該計算的總電荷量滿足該預(yù)設(shè)的電荷量時，停止將該電源提供的電流施加至該可導(dǎo)電的待 加工工件。
[0023] 本發(fā)明提供的改進的電化學(xué)剝離系統(tǒng)和方法，通過實時檢測電化學(xué)剝離過程相關(guān) 的電流參數(shù)，并根據(jù)電流參數(shù)計算出與涂層剝離深度相關(guān)的期望的總剝離時間，以實現(xiàn)對 電化學(xué)剝離過程的自動控制，解決了現(xiàn)有技術(shù)中遇到的耗費較多人工或者加工效率低下的 技術(shù)問題，也即取得了提升加工效率的技術(shù)效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0024] 通過結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施方式進行描述，可以更好地理解本發(fā)明，在附圖 中：
[0025] 圖1所示為本發(fā)明提出的電化學(xué)剝離系統(tǒng)的一種實施方式的示意圖；
[0026] 圖2所示為由圖1所示的電化學(xué)剝離系統(tǒng)處理的渦輪葉片的一種實施方式的截面 示意圖；
[0027] 圖3所示為圖1所示的電化學(xué)剝離系統(tǒng)的一種實施方式的電路配置結(jié)構(gòu)圖；
[0028] 圖4所示為由圖1或者圖3所示的控制器執(zhí)行的電化學(xué)剝離控制算法或者模塊的 一種實施方式的具體模塊架構(gòu)示意圖；
[0029] 圖5所示為由圖1或者圖3所示的控制器執(zhí)行的電化學(xué)剝離控制算法或者模塊的 另一種實施方式的具體模塊架構(gòu)示意圖；
[0030] 圖6所示為執(zhí)行圖4或者圖5所示的電化學(xué)剝離控制算法所產(chǎn)生的測量電流值和 計算電流值隨時間變化的曲線示意圖；
[0031] 圖7所示為電化學(xué)剝離控制方法一種實施方式的流程圖；以及
[0032] 圖8所示為電化學(xué)剝離控制方法另一種實施方式的流程圖。

【具體實施方式】
[0033] 基本而言，本發(fā)明揭示的實施方式涉及自動化電化學(xué)剝離方法和執(zhí)行電化學(xué)剝離 方法的系統(tǒng)，以及包含該電化學(xué)剝離方法并以計算機或者處理器可執(zhí)行的指令方式存儲的 非暫態(tài)電腦可讀存儲介質(zhì)，以用來根據(jù)一個或者多個標(biāo)準(zhǔn)(例如，期望的涂層剝離深度或者 期望的從待加工工件或者基底上移除的涂層量)，來自動終止或者暫停該電化學(xué)剝離過程。 更具體而言，本發(fā)明通過提出一種新的電化學(xué)剝離過程控制算法或者方法來取得對電化學(xué) 剝離過程的自動控制。在一些實施方式中，在執(zhí)行該電化學(xué)剝離過程控制算法或者方法的 過程中，與該電化學(xué)剝離過程相關(guān)的一個或者多個電參數(shù)(例如，電流信號或者數(shù)值）可以 被實時地測量或者監(jiān)控，并被進一步處理，以根據(jù)期望的涂層剝離深度或者期望的涂層剝 離量，來預(yù)測或者計算得到期望的總剝離時間。在一些更具體的實施方式中，該總剝離時 間可以通過將第一剝離時間和第二剝離時間相加而得到。其中，該第一剝離時間與該電化 學(xué)剝離過程的第一階段相關(guān)，并且該第一剝離時間從電化學(xué)剝離過程啟動時開始，直至交 叉點。在一種實施方式中，該交叉點可以通過觀察至少兩條電流隨時間變化的曲線而得到， 其中，第一條電流-時間變化曲線代表從電源流向待加工工件或者基底的電流的實際值， 第二條電流-時間變化曲線代表在線測量或者監(jiān)控得到的電流的移動平均值。上述的第二 剝離時間與該電化學(xué)剝離過程的第二階段相關(guān)，并且，該第二剝離時間從該交叉點開始，直 至該電化學(xué)剝離過程的終止點。在一些實施方式中，該終止點可以通過上述已經(jīng)識別到的 交叉點以及預(yù)設(shè)的常數(shù)計算得到，其中，該預(yù)設(shè)的常數(shù)可以表征期望的涂層深度或者期望 的從該待加工工件或者基底上移除的涂層量。因此，在得到該期望的總剝離時間之后，當(dāng)實 際進行的剝離時間達到該期望的總剝離時間時，該電化學(xué)剝離過程可以被自動終止或者暫 停。
[0034] 在一些實施方式中，除去上文描述的，以該期望的總剝離時間是否已經(jīng)達到為判 定條件而觸發(fā)的電化學(xué)剝離過程自動終止方案，還可以結(jié)合考慮一個或者多個其他判定條 件。舉例而言，在一種實施方式中，在電化學(xué)剝離過程中，還可以計算代表從該待加工工件 或者基底上移除的實際涂層的總電荷量。當(dāng)與實際移除的涂層相關(guān)的電荷量達到預(yù)設(shè)的數(shù) 值時，該電化學(xué)剝離過程即被自動終止。在一些具體的實施方式中，該總電荷量判定條件可 以被設(shè)置成比總剝離時間判定條件具有更高的優(yōu)先級。也即，一旦該計算的總電荷量達到 預(yù)設(shè)的電荷量值時，該電化學(xué)剝離過程即被強制終止，而不管此時實際的剝離時間是否達 到期望的總剝離時間。
[0035] 執(zhí)行本發(fā)明提出的自動化電化學(xué)剝離過程控制算法或者方法技術(shù)方案可以解決 一個或者多個技術(shù)問題，取得一個或者多個技術(shù)優(yōu)點或者有益效果。其中一個技術(shù)優(yōu)點或 者有益效果為從電解質(zhì)溶液中重復(fù)取放待加工工件的動作被減少或者被避免，因此，相應(yīng) 地，該電化學(xué)剝離過程的加工時間可以被縮短，從而使得生產(chǎn)或者加工效率得到提升。另一 個技術(shù)優(yōu)點或者有益效果為對涂層的不充分剝離或者對基底材料的過度剝離可以被減輕 或者避免。對于本領(lǐng)域具有通常知識的人員而言，通過閱讀下文結(jié)合附圖所作之詳細描述， 很容易可以明白本發(fā)明【具體實施方式】還可以產(chǎn)生其他技術(shù)優(yōu)點或者技術(shù)效果。
[0036] 以下將描述本發(fā)明的一個或者多個【具體實施方式】。首先要指出的是，在這些實施 方式的具體描述過程中，為了進行簡明扼要的描述，本說明書不可能對實際的實施方式的 所有特征均作詳盡的描述。應(yīng)當(dāng)可以理解的是，在任意一種實施方式的實際實施過程中，正 如在任意一個工程項目或者設(shè)計項目的過程中，為了實現(xiàn)開發(fā)者的具體目標(biāo)，或者為了滿 足系統(tǒng)相關(guān)的或者商業(yè)相關(guān)的限制，常常會做出各種各樣的具體決策，而這也會從一種實 施方式到另一種實施方式之間發(fā)生改變。此外，還可以理解的是，雖然這種開發(fā)過程中所作 出的努力可能是復(fù)雜并且冗長的，然而對于與本發(fā)明公開的內(nèi)容相關(guān)的本領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員而言，在本公開揭露的技術(shù)內(nèi)容的基礎(chǔ)上進行的一些設(shè)計，制造或者生產(chǎn)等變更只是 常規(guī)的技術(shù)手段，不應(yīng)當(dāng)理解為本公開的內(nèi)容不充分。
[0037] 除非另作定義，在本說明書和權(quán)利要求書中使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為 本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本說明書以及權(quán)利要求書 中使用的"第一"或者"第二"以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是 用來區(qū)分不同的組成部分。"一個"或者"一"等類似詞語并不表示數(shù)量限制，而是表示存在 至少一個。"或者"包括所列舉的項目中的任意一者或者全部。"包括"或者"包含"等類似 的詞語意指出現(xiàn)在"包括"或者"包含"前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在"包括"或者"包含" 后面列舉的元件或者物件及其等同元件，并不排除其他元件或者物件。"連接"或者"相連" 等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接 的還是間接的。此外，"電路"或者"電路系統(tǒng)"以及"控制器"等可以包括單一組件或者由 多個主動元件或者被動元件直接或者間接相連的集合，例如一個或者多個集成電路芯片， 以提供所對應(yīng)描述的功能。
[0038] 首先請參閱圖1，其所示為電化學(xué)剝離系統(tǒng)100的一種實施方式的示意圖。如圖1 所不，在一種實施方式中，該電化學(xué)剝離系統(tǒng)100包括電解質(zhì)溶液收容器126,該電解質(zhì)溶 液收容器126至少部分填充有電解質(zhì)溶液124,例如，攜帶一種或者多種添加劑的水溶液。 該電解質(zhì)溶液收容器126可以通過任意合適的材料制成，特別地，該材料不和電解質(zhì)溶液 收容器的其他元件發(fā)生反應(yīng)。該電解質(zhì)溶液收容器126的形狀及容量可以根據(jù)實際的應(yīng)用 加以變更，但是應(yīng)當(dāng)確保其被設(shè)置成具有足夠的尺寸，以將一個或者多個電極，待加工工件 以及電解質(zhì)溶液124收容于其內(nèi)。
[0039] 在圖示的實施方式中，該電解質(zhì)剝離系統(tǒng)100還包括一個電極116,該電極116被 設(shè)置成浸沒于電解質(zhì)溶液124中。在其他實施方式中，該電解質(zhì)剝離系統(tǒng)100所使用的電 極數(shù)量并不限于一個，其可以根據(jù)實際的其他因素(例如，待加工工件的形狀和尺寸等）進 行改變。該電極116可以由任意合適的導(dǎo)電材料制成，例如石墨，其被配置成導(dǎo)通電流，以 用于移除待加工工件上的一種或者多種涂層。
[0040] 如圖1所示，在一種實施方式中，由該電化學(xué)剝離系統(tǒng)100進行涂層剝離的待加工 工件118可以被整體或者部分放置于電解質(zhì)溶液收容器126內(nèi)。該待加工工件118至少部 分覆蓋有一種或者多種涂層（coating)。關(guān)于該待加工工件118的一種實施方式可以參閱 圖2,其示出了一種待加工工件200的截面示意圖，該待加工工件200可以代替圖1所示的 待加工工件118,而被電化學(xué)剝離系統(tǒng)100進行涂層剝離。在一種實施方式中，該待加工工 件200可以為在燃氣輪機或者蒸汽輪機中使用的渦輪葉片的至少一部分。在另外一種實施 方式中，該待加工工件200也可以為在飛行設(shè)備中使用的翼片的至少一部分。如圖2所示， 該待加工工件200包括基底202,其可以包括基底金屬（例如，鎳基超合金)，并且可以導(dǎo)通 電流。該待加工工件200通常還可以進一步包括涂層或者結(jié)合層206,其通過一層或者多層 擴散層204而被設(shè)置在基底202的上方。在其他實施方式中，該涂層或者結(jié)合層206也可 以直接覆蓋基底202,而沒有中間的擴散層204。該涂層或者結(jié)合層206也包括可以導(dǎo)電的 材料，例如，鋁化合物型合金或者鉬鋁化合物。在一種實施方式中，在使用圖1所示的電化 學(xué)剝離系統(tǒng)100進行處理時，可以將該涂層或者結(jié)合層206全部地或者部分地從該待加工 工件200剝離/移除。進一步，在一些方式中，還可以全部地或者部分地將擴散層204從該 待加工工件200剝離/移除。
[0041] 請返回參閱圖1，其所不的待加工工件118被安排成與電極116相鄰設(shè)置，并且其 放置的位置可以使得在系統(tǒng)100啟動后，可以在該電極116和待加工工件118的特定涂層 表面之間建立電場。在一種實施方式中，足夠量的電解質(zhì)溶液124被投放到電解質(zhì)溶液收 容器126中，以將待加工工件118和電極116浸沒其內(nèi)?？梢岳斫獾氖?，該電解質(zhì)溶液124 可以通過各種方式投放到電解質(zhì)溶液收容器126內(nèi)，例如，作為非限制性的實施方式，該電 解質(zhì)溶液124可以被倒入該電解質(zhì)溶液收容器126內(nèi)，或者可替換地，該電解質(zhì)溶液124也 可以通過公知的輸運設(shè)備(例如，泵等）被輸運入該電解質(zhì)溶液收容器126內(nèi)。
[0042] 請進一步參閱圖1，該電化學(xué)剝離系統(tǒng)100還可以包括電源裝置102,該電源裝置 102被設(shè)置成與該電極116和待加工工件118進行電連接。在一種實施方式中，該電源裝置 102可以包括直流供電裝置，其被配置成通過正連接線106和負連接線104提供直流電壓和 /或直流電流，以在該電極116和該待加工工件118之間建立電場，從而使得該待加工工件 118的至少一部分涂層可以在電化學(xué)反應(yīng)的作用下從該待加工工件118的基底上被剝離或 者移除。在一種實施方式中，該電源裝置102輸送直流電壓和或直流電流給電極116的方 式可以是連續(xù)的（continuous),也可以是脈沖式的或者斷續(xù)的（pulsating)。
[0043] 請進一步參閱圖1，該電化學(xué)剝離系統(tǒng)100還可以包括控制器130,該控制器130 與電源裝置102電連接。雖然未作圖示，該控制器130可以與一個或者多個傳感器進行通 信連接，以獲取與電化學(xué)剝離過程相關(guān)的各種運行參數(shù)。并且，該控制器130也可以與輸入 用戶界面（圖未示，例如鍵盤或者觸摸顯示設(shè)備）相連接，以接收用戶輸入的指令，來控制或 者調(diào)節(jié)與該電化學(xué)剝離過程相關(guān)的各種運行參數(shù)。舉例而言，在一種實施方式中，系統(tǒng)啟動 后，控制器130可以發(fā)送控制信號(或者啟動信號)136給電源裝置102,以將該電源裝置102 開啟而導(dǎo)通電流，從而可以進行電化學(xué)剝離過程。正如在下文所作之詳細描述，在執(zhí)行本發(fā) 明提出的電化學(xué)剝離過程控制算法或者方法時，該控制器130還可以被配置成發(fā)送更新的 控制信號(或者停止信號)，以將該電源裝置102關(guān)閉而暫?；蛘咄Ｖ固峁╇娏鳎瑥亩撾娀?學(xué)剝離控制過程可以被終止或者暫停。進一步，在一些實施方式中，該控制器130還可以被 配置成以實時方式調(diào)整發(fā)送給電源裝置102的控制信號106,以使得該待加工工件128和 參考電極128之間的電勢或者電壓差（以標(biāo)號Vp標(biāo)示）維持在基本恒定的數(shù)值。該參考電 極128可以與加工電極116 -樣，由相同的導(dǎo)電材料制成，例如石墨。在其他實施方式中， 該參考電極128也可以用與加工電極116不一樣的導(dǎo)電材料制成。在一種實施方式中，如 圖1所示，該參考電極128被放置在該待加工工件118和加工電極116之間。在其他實施 方式中，該參考電極128也可以被放置在其他位置，例如，放置在該待加工工件118的右側(cè)。
[0044] 如圖1所示，該控制器130可以包括一個或者多個處理器132以及一個或者多個 存儲裝置134,該一個或者多個存儲裝置134與該一個或者多個處理器132連接。在一種實 施方式中，該一個或者多個存儲裝置134與該一個或者多個處理器132 -起可以被設(shè)置在 該控制器130內(nèi)部。在其他實施方式中，該一個或者多個存儲裝置134也可以與該一個或者 多個處理器132分離設(shè)置，或者與該一個多個處理器132進行遠程通信。該控制器140可以 包括任何合適的可編程電路或者裝置，包括數(shù)字信號處理器（Digital Signal Processor， DSP)、現(xiàn)場可編程門陣列（Field Programmable Gate Array, FPGA)、可編程邏輯控制器 (Programmable Logic Controller，PLC)以及專用集成電路（Application Specific Integrated Circuit，ASIC)等。該存儲裝置134可以包括易失性存儲器(例如，寄存器，緩 存，以及隨機存儲器等)，非易失性存儲器(例如，只讀存儲器，電可擦只讀存儲器，閃速存儲 器等)，或者上述易失性存儲器和非易失性存儲器的合理組合。在一種實施方式中，該存儲 裝置134被配置成存儲由多條計算機指令構(gòu)成的計算機程序，并且該多條計算機指令可以 被該一個或者多個處理器132執(zhí)行。
[0045] 圖3所示為電化學(xué)剝離系統(tǒng)300的一種實施方式的電路配置結(jié)構(gòu)圖。該電化學(xué)剝 離系統(tǒng)300可以在圖1所示的電化學(xué)剝離系統(tǒng)100中執(zhí)行。如圖3所示，電源裝置302的 正極通過開關(guān)裝置304,電流傳感器306以及電壓調(diào)節(jié)裝置314與待加工工件332電連接。 也即，該開關(guān)裝置304,電流傳感器306和電壓調(diào)節(jié)裝置314串聯(lián)連接在該電源裝置302和 待加工工件332之間。該電源裝置302的負極通過負連接線303與加工電極(也稱作陰極） 336電連接，并且，在一種實施方式中，該陰極336接地。在一種實施方式中，該電源裝置302 可以為直流電源裝置，例如電池，其在運作時可以提供直流電壓和/或直流電流給該待加 工工件332以及加工電極或者陰極336。在其他實施方式中，該電源裝置302也可以為電能 變換裝置，例如交流轉(zhuǎn)直流變換器(例如，整流器)，其可以接收從合適的電源(例如，交流電 網(wǎng)）提供的交流電能，并將該接收的交流電能轉(zhuǎn)換成直流電能，以提供給待加工工件332和 加工電極或者陰極336。
[0046] 請進一步參閱圖3,該開關(guān)裝置304可以為任何合適的器件(例如，基于半導(dǎo)體的 開關(guān)器件)，其可以在控制器350執(zhí)行本發(fā)明提出的自動電化學(xué)剝離控制算法或者模塊352 所產(chǎn)生的控制信號308的作用下，被開通或者關(guān)斷。雖然在圖3中示作單一分離的元件，該 開關(guān)裝置304也可以與電源裝置303集成在一起。在一種更具體的實施方式中，當(dāng)該開關(guān)裝 置304在控制器305所發(fā)送的控制信號308的作用下被開通時，將建立一個閉合的電傳輸 路徑，使得從該電源裝置302提供的直流電壓或者直流電流被輸送給該待加工工件332和 加工電極或者陰極336,從而使得該待加工工件332的至少一部分涂層可以在涂層和電解 質(zhì)溶質(zhì)之間發(fā)生的電化學(xué)反應(yīng)的作用下被移除或者剝離。另一方面，當(dāng)該開關(guān)裝置304在 控制器350所提供的更新控制信號308的作用下被關(guān)斷時，上述形成的閉合電傳輸路徑被 切斷，以禁止（disable)或者停止將該電源裝置302提供的直流電壓或者直流電流輸送給 該待加工工件332和加工電極或者陰極336,從而將該電化學(xué)剝離過程終止或者暫停。
[0047] 請進一步參閱圖3,在一種實施方式中，該電連接在電源裝置302和待加工工件 332之間的電流傳感器306包括電阻元件，該電阻元件被配置成測量沿著正連接線路301在 該電源裝置302和待加工工件332之間流動的實際電流值。在其他實施方式中，該電流傳 感器306并不限于電阻元件，其也可以包括其他合適的感測器件或者傳感器件，以實現(xiàn)在 此描述的電流測量功能。在圖示的實施方式中，該電流傳感器306被圖示成連接在該開關(guān) 裝置304和電壓調(diào)節(jié)裝置314之間。在其他實施方式中，該電流傳感器306也可以設(shè)置在 沿著正連接線301的其他任意合適的位置，例如，該電流傳感器306可以可以連接在該電源 裝置302的正極和開關(guān)裝置304之間，或者設(shè)置在該電壓調(diào)節(jié)裝置314和待加工工件312 之間。在一種更具體的實施方式中，該電流傳感器或者電阻元件306在運作時提供電壓信 號312,該電壓信號代表從電源裝置302流向待加工工件332的實際電流值，并將該電壓信 號312提供給控制器350,以供控制器350進行進一步的運算，處理或者控制。在一些實施 方式中，在將該電壓信號312提供給該控制器350之前，或者在控制器350之中，可以將該 電壓信號312進行其他處理，例如，模數(shù)轉(zhuǎn)換，放大，濾波等操作。如下文所作的詳細描述， 該控制器250可以至少根據(jù)該獲得的電壓信號312,處理或者計算出于該電化學(xué)剝離過程 相關(guān)的各種參數(shù)，包括計算平均電流值和/或微分電流值等。
[0048] 請進一步參閱圖3,電連接在該電源裝置302和待加工工件332之間的電壓調(diào)節(jié)裝 置314被配置成接收從該電源裝置302提供的直流電壓或者直流電流，并提供調(diào)節(jié)的直流 電壓或者直流電流給該待加工工件332。在一些實施方式中，該電壓調(diào)節(jié)裝置312輸出的直 流電壓或者直流電流可以以特定的方式進行調(diào)節(jié)，以使得該電化學(xué)剝離過程可以被控制成 運行在恒電壓或者恒電壓勢模式，在此所謂的"恒電壓或者恒電勢模式"是指該待加工工件 332進而參考電極334之間的電勢差或者電壓差被控制成維持在某一電壓值或者電勢值保 持不變，或者在可以接受或者忽略的波動范圍內(nèi)變化。將該電化學(xué)剝離過程控制成運作在 恒電壓或者恒電壓模式的好處是，可以允許在電化學(xué)反應(yīng)發(fā)生時，該涂層可以電解質(zhì)溶液 之間有最大程度的電荷交換，而該待加工工件的基底金屬和電解質(zhì)溶液之間有最小程度的 電荷交換。
[0049] 在一種實施方式中，該電壓調(diào)節(jié)裝置314根據(jù)控制器350所產(chǎn)生的調(diào)節(jié)信號328 進行運作，并且該控制器350根據(jù)從待加工工件332和參考電極334所測量的實際電壓值 和設(shè)定的電壓值342來產(chǎn)生該調(diào)節(jié)信號328。該設(shè)定的電壓值342可以由用戶或者操作人 員或者計算機軟件進行設(shè)定。在穩(wěn)態(tài)運行時，該電壓調(diào)節(jié)裝置314提供的輸出電壓326應(yīng) 當(dāng)被控制成使得該實際的電壓值338可以跟隨該設(shè)定的電壓值342或者具有較小的可以接 受的波動。
[0050] 在圖示的實施方式中，該電壓調(diào)節(jié)裝置314包括阻抗調(diào)節(jié)元件316和運算放大器 318,該運算放大器318與該阻抗調(diào)節(jié)元件316電連接。在一種實施方式中，該阻抗調(diào)節(jié)元 件316包括級聯(lián)的兩個半導(dǎo)體器件(例如，雙極結(jié)型晶體管或者場效應(yīng)晶體管等)，該阻抗調(diào) 節(jié)元件316可以在運算放大器318提供的的控制信號321的作用下表現(xiàn)出變化的阻抗值或 者電阻值，從而可以改變輸出電壓值326。該運算放大器318具有同相輸入端（以" + "號標(biāo) 示)，該同相輸入端與參考電壓源319相連接，該參考電壓源319提供參考電壓給該同相輸 入端。該運算放大器318還包括反相輸入端（以號標(biāo)示)，該反相輸入端與第一電阻322 和第二電阻324之間的連接點323相連接。在實際運行時，當(dāng)實際測量的電壓值338偏離 該設(shè)定電壓值342時，該控制器350發(fā)送調(diào)節(jié)信號328,以調(diào)節(jié)該連接點323處所出現(xiàn)的電 壓，然后該運算放大器318轉(zhuǎn)而可以發(fā)送控制信號321給阻抗條件元件316,以調(diào)節(jié)器阻抗 值或者電阻值，從而使得輸出電壓326可控。需要注意的是，圖3所示的該電壓調(diào)節(jié)裝置314 不應(yīng)當(dāng)對本發(fā)明保護范圍構(gòu)成限制，實際上，類似的裝置(例如，雙向直流轉(zhuǎn)直流變換器，升 降壓直流轉(zhuǎn)直流變換器）也可以被用來取得調(diào)節(jié)輸出電壓的功能。
[0051] 圖4所示為由圖1或者圖3所示的控制器執(zhí)行的電化學(xué)剝離控制算法或者模塊 400的一種實施方式的具體模塊架構(gòu)示意圖。在一種實施方式中，該電化學(xué)剝離控制算法或 者模塊400可以實施為包括非暫態(tài)的多條計算機指令的計算機程序，并且該多條計算機指 令可以被如圖1或者圖3所示的控制器130, 350執(zhí)行，以實現(xiàn)對電化學(xué)剝離過程的自動控 制，或者更具體而言，自動終止或者暫停電化學(xué)剝離過程。在其他實施方式中，該電化學(xué)剝 離控制算法或者模塊400也可以由硬件的方式實施或者以軟件結(jié)合硬件的方式實施。
[0052] 需要指出的是，在此描述的電化學(xué)控制算法或者模塊可以包括或者代表硬件以及 與其相關(guān)的指令(例如，存儲在有形的（tangible)或者非暫態(tài)以及計算機可讀的存儲介質(zhì)， 例如，計算機硬盤，只讀存儲器，隨機存儲器以及類似的存儲裝置上的軟件)。在此所述的硬 件可以包括電子電路，包括一個或者多個邏輯裝置，例如微處理器，處理器，控制器，以及類 似的裝置，或者與上述各種裝置電連接的裝置。上述的各種裝置可以為現(xiàn)成的裝置，這些現(xiàn) 成的裝置可以執(zhí)行如上描述的各種指令所體現(xiàn)的功能。另外或者可替換地，這些裝置中的 一者或者多者也可以為通過電線路相互連接的邏輯電路，以執(zhí)行這些功能。
[0053] 如圖4所示，該電化學(xué)剝離控制算法或者模塊400可以選擇性地包括濾波單元 404,該濾波單元404可以接收電流信號402。在一種實施方式中，該電流信號402可以通過 圖3所示的一個或者多個電流傳感器或者電阻元件306進行測量。在其他實施方式中，該 電流信號402也可以取自存儲裝置，其預(yù)先存儲測量的電流信號或者數(shù)值。在一種實施方 式中，該濾波單元404可以包括低通濾波器，其被配置成濾除包含在測量的電流信號402中 的噪聲信號，并提供濾波后的電流信號406給微分計算單元408,在其他實施方式中，該濾 波單元404也可以被省去。
[0054] 請進一步參閱圖4,該微分計算單元408被配置成根據(jù)該濾波單元404提供的濾 波電流信號406計算微分電流值412。在其他實施方式中，該微分計算單元408也可以可 替換地被配置成根據(jù)未濾波的電流信號或者由一個或者多個電流傳感器或者電阻元件336 (如圖3所示）直接測量的電流信號計算該微分電流信號406。在電化學(xué)剝離過程進行時的 任意一個時刻點，該計算得到的微分電流信號406可以為正值也可以為負值。更具體而言， 當(dāng)該計算得到的微分電流信號406為正值時，此意味著從電源裝置302流向待加工工件332 的實際電流正在增加。在一種實施方式中，實際電流逐漸增加代表著實際的涂層剝離率足 夠大，并且該電化學(xué)剝離過程正在正常運行。
[0055] 關(guān)于該電化學(xué)剝離過程的電流增加階段可以更好地參閱圖6,其示出了在時 間范圍內(nèi)的任意一個時刻，其對應(yīng)的微分電流值均為正值。另一方面，當(dāng)該計算得到的微分 電流值為負值時，此意味著從電源裝置302流向待加工工件322的實際電流值正在逐漸減 小或者降低，也即，該待加工工件322的很大一部分涂層已經(jīng)被剝離或者移除掉，并且該電 化學(xué)剝離過程正在趨向結(jié)束。關(guān)于該電化學(xué)剝離過程的電流減小階段也可以更好地參閱圖 6。舉例而言，在時間點h之后的任意一個時刻，其對應(yīng)的微分電流中均為負值。
[0056] 請進一步參閱圖4,在一種實施方式中，該電化學(xué)剝離控制算法或者模塊400也可 以包括平均電流計算單元414,該平均電流計算單元414與該濾波單元414的輸出端相連 接。在一種實施方式中，該平均電流計算單元414被配置成至少根據(jù)該濾波后的電流信號 或者數(shù)值406計算移動平均電流值416。在其他實施方式中，該平均電流計算單元414也可 以被配置成至少根據(jù)未濾波或者濾波前的電流信號或者數(shù)值，例如，由圖3所示的一個或 者多個電流傳感器或者電阻元件306測量獲得電流信號或者數(shù)值計算該移動平均電流值 416。
[0057] 請進一步參閱圖4,該計算得到的移動平均電流值416被發(fā)送給計算單元(求和元 件或者減法元件)418,該計算單元418還與濾波單元404的輸出端相連接，以接收該濾波單 元404提供的濾波后的電流信號或者數(shù)值406。在一種實施方式中，該計算單元418被配置 成將該濾波后的電流數(shù)值406與該移動平均電流值416相減，以提供電流差值422。
[0058] 可以在圖6看出，在時間范圍tcrh內(nèi)或者在正常的電化學(xué)剝離過程中，在該實際 測量的電流曲線602上的在任一時刻的電流值始終大于移動平均電流曲線604上對應(yīng)的電 流值，也即，通過計算單元418計算獲得的電流差值422在該段時間范圍內(nèi)始終大于 零或者為正值。然而，在時間點h之后，該兩條電流曲線602,604呈現(xiàn)相交的趨勢，其中， 在該時間點h，該實際測量的電流曲線602達到峰值電流，也即，通過計算單元418計算得 到的電流差值422逐漸變?yōu)榱恪?br> [0059] 請進一步參閱圖4,在一種實施方式中，該電化學(xué)剝離控制算法或者模塊400也可 以包括交叉點識別單元424,該交叉點識別單元424與該計算單元418相連。該交叉點識 另Ij單元424被配置成識別出該實際測量的電流曲線602和移動平均電流曲線604二者相互 交叉的時間點。更具體而言，該交叉點識別單元424被配置成在電流差值422的數(shù)值為零 時提供該交叉點值426。在一些實施方式中，該交叉點識別單元424可以與微分計算單元 408相連，以從該微分計算單元408接收微分電流值412。在一種實施方式中，該交叉點識 別單元424可以被進一步被設(shè)置成根據(jù)該微分電流值422的符號來尋找交叉點。更具體而 言，當(dāng)該微分電流值412為正值時，此時意味著該電化學(xué)剝離過程正在正常進行，因而可以 將該交叉點識別單元424禁止掉。另一方面，當(dāng)該微分電流值為負值時，此表示該電化學(xué)剝 離過程行將結(jié)束，并且在電化學(xué)剝離過程經(jīng)過一段時間之后應(yīng)當(dāng)被停止或者暫停。在此情 形下，即該微分電流值422為負值時，該交叉點識別單元424被啟動，以從該兩條電流曲線 602,604上識別出交叉點606 (如圖6所示)。在一些實施方式中，如圖6所示，為了更清楚 地顯示出該交叉點，可以對電流差值作對數(shù)，通過描繪對應(yīng)的對數(shù)函數(shù)曲線來觀察。
[0060] 進一步，在一些實施方式中，為了防止對電流下降階段的誤判，該交叉點識別單元 424還被配置成在該計算得到的微分電流值412被判斷為持續(xù)為負值或者負號，并且保持 一定時間（例如3至5分鐘）之后，才識別該交叉點606。例如，如圖6所示，在電化學(xué)剝離 過程的起始階段，該交叉點識別單元424在時間點h附近，由于微分電流值持續(xù)為負的時 間很短，小于3至5分鐘，因此，并不作交叉點的識別。
[0061] 請進一步參閱圖4,在一種實施方式中，該電化學(xué)剝離控制算法或者模塊400可以 進一步包括總剝離時間計算單元428,該總剝離時間計算單元428與該交叉點識別單元424 相連接。該總剝離時間計算單元428被配置成至少根據(jù)該識別出的交叉點值426和預(yù)設(shè)的 常數(shù)425來計算期望的總剝離時間值432。更具體而言，在一種實施方式中，該總剝離時間 計算單元428可以被配置成使用下述公式來計算該期望的總剝離時間值432 :
[0062]

【權(quán)利要求】
1. 一種電化學(xué)剝離方法，其特征在于：該方法至少包括如下步驟： 從電源施加電流至可導(dǎo)電的待加工工件，其中該施加的電流被設(shè)置成選擇性地剝離依 附于該可導(dǎo)電的待加工工件的至少一部分涂層； 接收代表從該電源流向該可導(dǎo)電的加工工件的實際電流的多個測量電流值，該多個測 量電流值構(gòu)成電流-時間變化曲線； 至少根據(jù)該多個測量電流值識別出該電流-時間變化曲線上的交叉點，其中，該交叉 點定義電化學(xué)剝離過程的第一剝離時間； 至少基于該識別的交叉點以及預(yù)設(shè)的常數(shù)計算期望的總剝離時間，其中，該預(yù)設(shè)的常 數(shù)定義該涂層的剝離深度；以及 在判斷出已經(jīng)達到該計算的總剝離時間時，停止或者暫停從該電源提供電流至該待加 工工件。
2. 如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)剝離方法，其特征在于：其中，識別該交叉點的步驟包括 如下子步驟： 至少根據(jù)該多個測量的電流值計算微分電流值； 判斷該微分電流值是否小于零； 經(jīng)判斷該微分電流值小于零時，至少根據(jù)測量的電流值計算平均電流值； 將該計算的平均電流值與相對應(yīng)的測量電流值相減；以及 當(dāng)該計算的平均電流值與相對應(yīng)的測量電流值之間的差值等于零時，識別出該電 流-時間變化曲線上的交叉點。
3. 如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)剝離方法，其特征在于：該預(yù)設(shè)的常數(shù)在0. 05和0. 1之 間。
4. 如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)剝離方法，其特征在于：計算該期望的總剝離時間的步 驟包括如下子步驟： 至少根據(jù)該識別的交叉點以及預(yù)設(shè)的時間常數(shù)識別出期望的終止點，其中，該期望的 終止點和該交叉點定義該電化學(xué)剝離過程的第二剝離時間；以及 將該第一剝離時間和該第二剝離時間相加，以得到該期望的總剝離時間。
5. 如權(quán)利要求1所述的電化學(xué)剝離方法，其特征在于：該方法還包括如下步驟： 至少根據(jù)該測量的多個電流值計算與該電化學(xué)剝離過程相關(guān)的電荷量； 判斷該計算的電荷量是否滿足預(yù)設(shè)的電荷量；以及 經(jīng)判斷該計算的電荷量滿足該預(yù)設(shè)的電荷量時，停止或者暫停將該電源提供的電流施 加至該可導(dǎo)電的待加工工件。
6. -種系統(tǒng)，該系統(tǒng)被配置成選擇性地將基底的至少一部分涂層剝離，其特征在于： 該系統(tǒng)包括：電源和控制器；該電源與該基底以及電極可導(dǎo)電地連接，該電源被配置成施 加電流至該基底，以在該基底和電極之間建立電場；該控制器包括交叉點識別單元，總剝離 時間計算單元以及剝離過程控制單元；該交叉點識別單元被配置成至少根據(jù)多個測量的電 流值識別出電流-時間變化曲線上的交叉點，其中該交叉點定義電化學(xué)剝離過程的第一剝 離時間；該總剝離時間計算單元被配置成至少根據(jù)該識別出的交叉點以及預(yù)設(shè)的時間常數(shù) 計算出期望的總剝離時間，其中該預(yù)設(shè)的時間常數(shù)與該涂層的剝離深度有關(guān)；該剝離過程 控制單元被配置成在該電化學(xué)剝離過程實際進行的時間達到該期望的總剝離時間時，停止 或者暫停提供電流。
7. 如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于：該系統(tǒng)還包括電連接在該電源和該基底之 間的開關(guān)；該開關(guān)被配置成在該期望的總剝離時間到達時，根據(jù)該控制器發(fā)送的第一控制 信號而被關(guān)斷，該開關(guān)還被配置成在該期望的總剝離時間未到達時，根據(jù)該控制器發(fā)送的 第二控制信號而被開通。
8. 如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于：該控制器還包括：微分電流計算單元，平均 電流計算單元以及求和單元；該微分電流計算單元被配置成至少根據(jù)該多個測量的電流值 計算微分電流值；該平均電流計算單元被配置成在該計算的微分電流值小于零時，至少根 據(jù)該多個測量的電流值計算平均電流值；該求和單元被配置成將該計算的平均電流值與對 應(yīng)的測量電流值相減，以得到電流差值；其中，該交叉點識別單元被配置成在該電流差值等 于零時識別出該電流-時間變化曲線上的交叉點。
9. 如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于：該控制器還包括電量計算單元；該電量計算 單元被配置成至少根據(jù)該多個測量的電流值計算出與該電化學(xué)剝離過程相關(guān)的總電荷量； 其中，該剝離過程控制單元還被配置成在該計算的總電流量達到預(yù)設(shè)的電荷量時，停止或 者暫停從該電源提供電流給該基底。
10. 如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于：該預(yù)設(shè)的常數(shù)在0. 05和0. 1之間。
【文檔編號】C25F5/00GK104419975SQ201310400103
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2013年9月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月5日
【發(fā)明者】胡登基, 李鵬, 徐文龍, 武穎娜, L.B.庫爾, 小羅伯特.G.齊默爾曼, T.E.曼特可夫斯基, M.K.梅耶 申請人:通用電氣公司