本發(fā)明涉及能夠在常溫下使用的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液。

背景技術：
眾所周知，鋁金屬材具有優(yōu)異的耐腐蝕性，但是，鋁對氧的親和力大，并且還原電位比氫低，因此難以從水溶液中電沉積出來。因此，在現(xiàn)有技術中，使用有機溶劑類鍍液或高溫熔融鹽鍍液來進行鋁電鍍。這里，所述有機溶劑類鍍液的代表有：AlCl3與LiAlH4或LiH溶解于醚類或四氫呋喃中形成的溶液、NaF·2Al(CH2H5)3的甲苯溶液。但是，這些鍍液在與空氣或水接觸時存在爆炸的危險性，存在使用不便的問題。因此，作為沒有爆炸危險性的鍍液，提出了鋁鹵化物與烷基吡啶鹵化物的混合熔融鹽鍍液（特開昭62-70592號公報）。但是，由這樣的鍍液進行的電鍍的電沉積不均勻，平滑性差，尤其是在膜厚增加或電流密度提高的情況下，高電流密度部分會出現(xiàn)樹枝狀析出或黑色析出物，析出物容易脫落。并且，由于電鍍分布力差，得到的鍍膜在不用6價鉻進行鉻酸鹽處理就進行鹽水噴霧試驗的情況下，得不到期待的防銹能力。因此，作為解決熔融鹽鍍液的問題的方法之一，也提出了使用苯、甲苯、二甲苯等進行稀釋的方法。但是，苯、甲苯、二甲苯由于對人體具有不利影響，并且引火點低，存在起火的危險性，因此不優(yōu)選大量使用，這成為了Al電鍍工業(yè)化的障礙。

技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的是提供一種即使在與空氣或水接觸的情況下爆炸、起火的危險性也較低、并且不使用對人體產生不利影響的苯、甲苯、二甲苯、萘、1,3,5-三甲基苯的Al類電鍍液。另外，本發(fā)明的目的還在于，提供一種Al類電鍍液，能夠得到即使在高電流密度部分也能夠抑制與鋁競爭析出的黑色的陽離子性氮化合物的析出且連枝晶析出也不存在的、均勻、分布力優(yōu)異的鍍膜，由此能夠得到具有高耐腐蝕性的鍍膜。本發(fā)明的目的進一步在于提供一種不含鉻的高耐腐蝕性防銹鍍膜。本發(fā)明提供了一種鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液，該電鍍液通過向以（A）鹵化鋁為主要成分、包含（B）至少1種其它的鹵化物的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液中，添加（C）選自由元素周期表第1族第2～第6周期元素的氫化物和/或第13族第2～第6周期元素的氫化物、以及胺硼烷化合物組成的組的1種或2種以上的還原性化合物，之后進行加熱處理得到。本發(fā)明還提供了一種以（A）鹵化鋁為主要成分、包含（B）至少1種其它的鹵化物的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液的前處理方法，所述鋁或鋁合金電鍍液的前處理方法的特征在于，向該鍍液中添加（C）選自由元素周期表第1族第2～第6周期元素的氫化物和/或第13族第2～第6周期元素的氫化物、以及胺硼烷化合物組成的組的1種或2種以上的還原性化合物，之后進行加熱處理。本發(fā)明還提供了一種使用所述鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液的電鍍方法。本發(fā)明的鍍液不存在爆炸或起火的危險性，能夠獲得平滑且致密的Al或Al合金鍍膜。另外，該鍍膜即使不含鉻也具有高耐腐蝕性，因此其環(huán)保性具有廣泛的應用前景，如用作汽車部件、家電部件等。具體實施方式本發(fā)明的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液通過向以（A）鹵化鋁為主要成分、包含（B）至少1種其它的鹵化物的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液中，添加（C）選自由元素周期表第1族第2～第6周期元素的氫化物、元素周期表第1族第2～第6周期元素和第13族第2～第6周期元素的氫化物以及胺硼烷化合物組成的組中的1種或2種以上的還原性化合物，之后進行加熱處理而得到。本發(fā)明中使用的鹵化鋁（A）以AlX3表示，其中X為氟、氯、溴、碘等鹵素，優(yōu)選氯或溴。從經(jīng)濟性的角度考慮，氯是最優(yōu)選的。本發(fā)明中使用的至少1種其它的鹵化物（B）優(yōu)選為含氮雜單環(huán)式4級鹵化銨，更優(yōu)選N-烷基吡啶鹵化物、N-烷基咪唑鹵化物、N,N’-ジ烷基咪唑鹵化物、N-烷基吡唑鹵化物、N,N’-二烷基吡唑鹵化物、N-烷基吡咯烷鹵化物以及N,N-二烷基吡咯烷鹵化物。這些鹵化物既可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。并且，當2種以上組合使用時，鹵原子不同的2種以上的組合也是可以的。N-烷基吡啶鹵化物可以是由吡啶骨架被烷基取代得到的結構，如以下通式（I）所示?！净?】（式中、R1為碳原子數(shù)1～12的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為碳原子數(shù)1～5的直鏈或支鏈狀烷基；R2為氫原子或碳原子數(shù)1～6的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為碳原子數(shù)1～3的直鏈或支鏈狀烷基；X為鹵原子，作為所述鹵原子，從反應性的角度考慮，最優(yōu)選為溴原子。）作為具體的N-烷基吡啶鹵化物，可舉出例如N-甲基吡啶氯化物、N-乙基吡啶氯化物、N-丁基吡啶氯化物、N-己基吡啶氯化物、2-甲基-N-丙基吡啶氯化物、3-甲基-N-乙基吡啶氯化物、以及它們的氯被溴或碘替換的物質等。N-烷基咪唑鹵化物以及N,N’-二烷基咪唑鹵化物類可用例如以下的通式（II）表示?！净?】（式中、R3為碳原子數(shù)1～12的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為碳原子數(shù)1～5的直鏈或支鏈狀烷基；R4為氫原子或碳原子數(shù)1～6的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為氫原子或碳原子數(shù)1～3的直鏈或支鏈狀的烷基；X為鹵原子，作為鹵原子，從反應性的角度考慮，最優(yōu)選溴原子。）具體的N-烷基咪唑鹵化物以及N,N’-烷基咪唑鹵化物可舉出例如1-甲基咪唑氯化物、1-乙基咪唑氯化物、1-丙基咪唑氯化物、1-辛基咪唑氯化物、1-甲基-3-乙基咪唑氯化物、1，3-二甲基咪唑氯化物、1，3-二乙基咪唑氯化物、1-甲基-3-丙基咪唑氯化物、1-丁基-3-丁基咪唑氯化物、以及它們的氯被溴或碘替換的物質等。N-烷基吡唑鹵化物以及N,N’-二烷基吡唑鹵化物可用例如以下的通式（III）表示?！净?】（式中、R5為碳原子數(shù)1～12的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為碳原子數(shù)1～5的直鏈或支鏈狀的烷基；R6為氫原子或碳原子數(shù)1～6的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為氫原子或碳原子數(shù)1～3的直鏈或支鏈狀的烷基；X為鹵原子，作為鹵原子，從反應性的角度考慮，最優(yōu)選溴原子。）具體的N-烷基吡唑鹵化物及N,N’-烷基吡唑鹵化物可舉出例如1-甲基吡唑氯化物、2-甲基吡唑氯化物、1-丙基吡唑氯化物、2-丙基吡唑氯化物、1-丁基吡唑氯化物、2-丁基吡唑氯化物、1-己基吡唑氯化物、2-芐基吡唑氯化物、1-甲基-2-乙基吡唑氯化物、1-甲基-2-丙基吡唑氯化物、1-甲基-2-丁基吡唑氯化物、1-甲基-2-己基吡唑氯化物、1-甲基-2-芐基吡唑氯化物、1-丙基-2-甲基吡唑氯化物、1-丁基-2-甲基吡唑氯化物、1-己基-2-甲基吡唑氯化物、1,2-二甲基吡唑氯化物、1,2-二乙基吡唑氯化物、以及它們的氯被溴或碘替換的物質等。N-烷基吡咯烷鹵化物及N,N’-二烷基吡咯烷鹵化物可為由吡咯烷鎓鹽骨架被烷基取代的結構，例如由以下的通式（IV）表示。【化4】（式中、R7為氫原子或碳原子數(shù)1～12的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為氫原子或碳原子數(shù)1～5的直鏈或支鏈狀烷基；R8為氫原子或碳原子數(shù)1～6的直鏈狀、支鏈狀或環(huán)狀的烷基，優(yōu)選為氫原子或碳原子數(shù)1～3的直鏈或支鏈狀烷基；但不包括R7及R8同時為氫原子的情況；X為鹵原子，作為鹵原子，從反應性的角度考慮，最優(yōu)選為溴原子。）具體的N-烷基吡咯烷鹵化物可舉出例如N-甲基吡咯烷氯化物、N-乙基吡咯烷氯化物、N-丁基吡咯烷氯化物、N-己基吡咯烷氯化物、2-甲基-N-丙基吡咯烷氯化物、3-甲基-N-乙基吡咯烷氯化物、N-甲基-N-乙基吡咯烷氯化物、N-甲基-N-丙基吡咯烷氯化物、N-甲基-N-丁基吡咯烷氯化物、N-二乙基吡咯烷鹽氯化物、N-乙基-N-丙基吡咯烷氯化物、N-乙基-N-丁基吡咯烷氯化物、以及它們的氯被溴或碘替換的物質等。在本發(fā)明中，鹵化鋁（A）的摩爾數(shù)與其它的鹵化物（B）的摩爾數(shù)的比率優(yōu)選在1：1～3：1的范圍內。更優(yōu)選為2：1。通過使上述摩爾比在這樣的范圍內，能夠抑制被認為是吡啶鎓鹽、咪唑鎓鹽、吡唑鎓鹽及吡咯烷鎓鹽陽離子的分解的反應，并且能夠抑制鍍液的粘度上升，因此能夠防止鍍液劣化及電鍍不良。本發(fā)明中使用的還原性化合物（C）為元素周期表第1族第2～第6周期元素的氫化物和/或第13族第2～第6周期元素的氫化物、以及胺硼烷化合物。這些還原性化合物既可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。所述元素周期表第1族第2～第6周期元素指的是Li、Na、K、Rb及Cs，這些元素中，優(yōu)選第2～第3周期元素（即、Li和Na）。另外，所述第13族第2～第6周期元素指的是B、Al、Ga、In及Tl，這些元素中，優(yōu)選第2～第3周期元素（即、B和Al）。所述胺硼烷化合物為硼氫化Na和胺類的反應生成物。作為還原性化合物（C），優(yōu)選氫化鋁鋰、氫化鋰、氫化鈉鋰、氫化鈉、硼氫化鈉、二甲基胺硼烷、二乙基胺硼烷及三甲基胺硼烷。更優(yōu)選氫化鋁鋰及二甲基胺硼烷。還原性化合物的添加量優(yōu)選為0.01g/L～100g/L,更優(yōu)選0.05g/L～30g/L,進一步優(yōu)選0.1g/L～10g/L。本發(fā)明的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液在添加還原性化合物（C）之后進行加熱處理。加熱處理優(yōu)選包括在50～100℃的范圍、更優(yōu)選在60～80℃的范圍進行加熱。通過上述加熱，還原性化合物（C）發(fā)生分解。分解時生成H2氣體。H2氣體可以從液體中排出，也可以不排出。優(yōu)選使生成的H2氣體從鍍液中排出。作為使H2氣體從鍍液中排出的方法，可舉出維持上述加熱使其自然排出的方法、施加超聲波的方法、通入干燥惰性氣體的方法等。也可以并用這些方法。作為惰性氣體，可舉出氮氣、氬氣等。在維持加熱使其自然排出的方法中，維持加熱的時間優(yōu)選為0.5～24小時，更優(yōu)選1～8小時。在施加超聲波的方法中，超聲波的頻率優(yōu)選為20～60KHz，更優(yōu)選30～40KHz。施加超聲波的時間優(yōu)選為10～60分鐘，更優(yōu)選20～40分鐘。在通入干燥惰性氣體的方法中，通氣溫度優(yōu)選為10～120℃，更優(yōu)選80～100℃。通氣時間優(yōu)選為10～60分鐘，更優(yōu)選20～40分鐘。通過本發(fā)明的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液，（1）提高了鍍液的導電性，并且（2）使鋁的還原電位向更高的方向移動，從而更加容易析出，還實現(xiàn)了分布力的提高。在本發(fā)明的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液中，優(yōu)選進一步將來自鍍液中的鹵化鋁（A）的雜質金屬除去。雜質金屬包括鐵、銅等。作為將鍍液中的雜質金屬除去的方法，可舉出在鍍液中浸漬Al線或Al粉末以除去雜質金屬的方法、在鍍液中設置陰極鋁板或陽極鋁板并使電流從中通過以除去雜質金屬的方法等。由此，可除去鐵、銅等雜質金屬。由此，能夠進一步改善分布力，并得到致密的鍍膜。在鍍液中浸漬Al線或Al粉末以除去雜質金屬的情況下，優(yōu)選在10～120℃的溫度下、更優(yōu)選在80～100℃的溫度下加熱。加熱時間優(yōu)選2～96小時，更優(yōu)選24～72小時。在鍍液中設置陰極鋁板或陽極鋁板并使電流從中通過以除去雜質金屬的情況下，鍍液溫度優(yōu)選為50～120℃，更優(yōu)選80～100℃。陰極電流密度優(yōu)選為0.1～10A/dm2，更優(yōu)選1～5A/dm2。向鍍液中的通電量優(yōu)選為10AH/L～20AH/L，更優(yōu)選15～20AH/L。雜質金屬的除去過程在鋁或鋁合金熔融鹽鍍液制備完成后、還原性化合物（C）添加前進行，也可以在添加后進行。優(yōu)選為添加前。在本發(fā)明的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液中，也可進一步含有Zr、Ti、Mo、W、Mn、Ni、Co、Sn、Zn、Si、Nd及Dy等金屬的化合物（D）?；衔铮―）例如為鹵化物，具體而言可舉出四氯化鋯、四氯化鈦、氯化錳、氯化鉬、氯化鎢等。這些化合物既可以單獨使用，也可2種以上組合使用?；衔铮―）的含量優(yōu)選為0.1～100g/L，更優(yōu)選0.1～10g/L。通過使化合物（D）的含量在上述范圍內，能夠獲得形成鋁合金電鍍的金屬所帶來的效果，并且不會析出黑色的粉末。例如，添加ZrCl4時，成為Al-Zr合金電鍍，使耐腐蝕性提高。若向這樣的鍍液進一步添加MnCl2，則獲得Al-Zr-Mn合金電鍍，使光澤性和外觀均一性提高。本發(fā)明的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液中還可進一步含有有機聚合物（E）。作為有機聚合物（E），可舉出苯乙烯類聚合物、脂肪族二烯烴類聚合物等。這些有機聚合物既可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。作為苯乙烯類聚合物，可舉出例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、m-甲基苯乙烯等苯乙烯類的均聚物、它們的共聚物、或苯乙烯類單體與其它的聚合性乙烯類單體的共聚物。所述乙烯類單體的例子有：馬來酸酐、馬來酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、衣康酸、丙烯酰胺、丙烯腈、馬來酰亞胺、乙烯基吡啶、乙烯基咔唑、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、富馬酸酯、乙烯基乙基醚、氯乙烯等。其中優(yōu)選碳數(shù)為3～10的α，β-不飽和羧酸或其烷基（碳數(shù)1～3）酯。作為脂肪族二烯烴類聚合物，可舉出丁二烯、異戊二烯、戊二烯等的聚合物。優(yōu)選具有1，2或3，4結構的支鏈的聚合物，或這些單體與其它的聚合性乙烯類單體的共聚物。作為所述乙烯類單體，同樣可舉出在上述關于苯乙烯類聚合物的部分中記載的那些物質。有機聚合物（E）的重均分子量優(yōu)選在200～80000的范圍內，更優(yōu)選300～5000的范圍。特別地，重均分子量為300～5000左右的低中分子量的聚苯乙烯及聚-α-甲基苯乙烯具有良好的熔融鹽溶解性，因此是最優(yōu)選的。有機聚合物（E）的含量優(yōu)選在0.1～50g/L的范圍內，更優(yōu)選1～10g/L的范圍。若以這樣的范圍使用有機聚合物，則能夠防止枝晶析出，獲得表面平滑的效果，并能夠防止電鍍燒斑（やけ）的發(fā)生。本發(fā)明的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液中，還可進一步含有光澤劑（F）。作為光澤劑（F），可舉出脂肪族醛、芳香族醛、芳香族酮、含氮不飽和雜環(huán)化合物、酰肼化合物、含Ｓ雜環(huán)化合物、具有含Ｓ取代基的芳香烴、芳香族羧酸及其衍生物、具有雙鍵的脂肪族羧酸及其衍生物、炔醇化合物及三氟氯乙烯樹脂等。這些光澤劑既可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。作為脂肪族醛，例如可為碳數(shù)2～12的脂肪族醛，具體而言，可舉出三溴乙醛、四聚乙醛、2-乙基己基醛、月桂醛等。作為芳香族醛，可為例如碳數(shù)7～10的芳香族醛，具體而言可舉出O-羧基苯甲醛、苯甲醛、0-氯苯甲醛、ｐ-甲苯甲醛、茴香醛、ｐ-二甲基氨基苯甲醛、對苯二甲醛等。作為芳香族酮，可為例如碳數(shù)8～14的芳香族酮，具體而言可舉出亞芐基丙酮、二苯甲酮、苯乙酮、對苯二甲酰氯化芐等。作為含氮不飽和雜環(huán)化合物，可為例如碳數(shù)3～14的氮雜環(huán)化合物，具體而言可舉出嘧啶、吡嗪、噠嗪、ｓ-三嗪、喹惡啉、酞嗪、1,10-菲咯啉、1,2,3-苯并三唑、乙酰胍胺、三聚氯氰、咪唑-4-丙烯酸等。作為酰肼化合物，可舉出例如馬來酰肼、異煙酰肼、苯二甲酰肼等。作為含Ｓ雜環(huán)化合物，可為例如碳數(shù)3～14的含Ｓ雜環(huán)化合物，具體而言可舉出硫脲嘧啶、硫代煙酰胺、ｓ-三噻烷、2-巰基-4,6-二甲基嘧啶等。作為具有含Ｓ取代基的芳香烴，可為例如碳數(shù)7～20的具有含Ｓ取代基的芳香烴，具體而言可舉出硫代安息香酸、硫靛紅、硫代吲哚（チオインドキシル）、硫代氧雜蒽、硫代氧雜蒽酮、2-硫代香豆素、硫甲酚、硫代二苯胺、萘硫酚、苯硫酚、硫代苯甲酰胺、硫代苯甲酰苯胺、硫代苯甲醛、苯并噻吩醌（チオナフテンキノン）、苯并噻吩、硫代乙酰苯胺等。作為芳香族羧酸及其衍生物，可為例如碳數(shù)7～15的芳香族羧酸及其衍生物，具體而言可舉出安息香酸、對苯二甲酸、安息香酰乙酯等。具有雙鍵的脂肪族羧酸及其衍生物可為例如碳數(shù)3～12的具有雙鍵的脂肪族羧酸及其衍生物，具體而言可舉出丙烯酸、巴豆酸、甲基丙烯酸、丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯等。作為炔醇化合物，可舉出例如炔丙醇等。作為三氟氯乙烯樹脂，可舉出例如平均分子量為500～1300的三氟氯乙烯樹脂等。光澤劑的含量優(yōu)選為0.001～0.1mol/l的范圍，更優(yōu)選0.002～0.02mol/l的范圍。若光澤劑以這樣的范圍使用，則能夠得到平滑的效果，即使在高電流密度下進行電鍍，也不會出現(xiàn)黑色污垢狀的析出。本發(fā)明的電鍍方法使用上述的鋁或鋁合金熔融鹽電鍍液進行。電鍍可通過直流或脈沖電流來進行，但特別優(yōu)選脈沖電流。在使用脈沖電流的情況下，占空比（ON/OFF比）優(yōu)選為1：2～2：1，最優(yōu)選為1：1。當使用ON時間為5～20ms以及OFF時間為5～20ms的脈沖電流時，電沉積的粒子致密化且平滑，因此優(yōu)選。鍍液溫度通常為25～120℃的范圍，優(yōu)選50～100℃的范圍。電流密度通常為0.1～15A/dm2的范圍，優(yōu)選0.5～5A/dm2的范圍。另外，本發(fā)明的熔融鹽鍍液雖然即使接觸氧或水分也是安全的，但從維持鍍液的穩(wěn)定性以及電鍍性狀等角度而言，理想的是電鍍在干燥無氧氣氛中（干燥氮氣、干燥氬氣、干燥空氣中）進行。另外，在實施電鍍的情況下，理想的是對鍍液進行攪拌和/或搖動被鍍物。例如，若使用噴流或超聲波攪拌等手段，則能夠進一步提高電流密度。另外，本發(fā)明的電鍍方法優(yōu)選使用滾鍍裝置來進行。以下，通過實施例和比較例對本發(fā)明進行說明。【實施例】（實施例1）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到的液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，以3g/L添加二甲基胺硼烷，在80℃下加熱1小時，制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽（ハルセル）銅板（板厚0.5mm）進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以1A的脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行20分鐘的Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、Al電鍍的還原電位與由霍爾槽外觀得到的分布力。（實施例2）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，以0.5g/L添加氫化鋁鋰，在80℃下加熱1小時，制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽銅板（板厚0.5mm）進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以1A的脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行20分鐘的Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、Al電鍍的還原電位與由霍爾槽外觀得到的分布力。（實施例3）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到的液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，以3g/L添加溶解無水氯化鋯并以3g/L添加溶解無水氯化錳。然后過濾，以3g/L添加二甲基胺硼烷，在80℃下加熱1小時，制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽銅板（板厚0.5mm）進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以1A的脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行20分鐘的Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、由霍爾槽外觀得到的分布力。（實施例4）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到的液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，添加溶解無水氯化鋯3g/L、無水氯化錳3g/L。然后過濾，以0.5g/L添加氫化鋁鋰，在80℃下加熱1小時，制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽銅板（板厚0.5mm）進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以1A的脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行20分鐘的Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、由霍爾槽外觀得到的分布力。。（比較例1）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到的液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽銅板進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、Al電鍍的還原電位與由霍爾槽外觀得到的分布力。（比較例2）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到的液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，添加溶解無水氯化鋯3g/L、無水氯化錳3g/L。然后過濾，制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽銅板進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、由霍爾槽外觀得到的分布力。。（實施例5）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到的液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，以3g/L添加二甲基胺硼烷，在80℃下加熱1小時。然后，再以0.5g/L添加混合菲咯啉，制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽銅板進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以1A的脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行20分鐘的Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、Al電鍍的還原電位與由霍爾槽外觀得到的分布力。（實施例6）將AlCl3和1-甲基-3-丙基咪唑溴化物以2：1的摩爾比進行混合熔融，在得到的液體中浸漬99.9％的Al線，在80℃下加熱48小時。然后過濾，以0.5g/L添加氫化鋁鋰，在80℃下加熱1小時。然后，再以2.5g/L添加混合聚苯乙烯（PiccolasticA-75），制備鍍液。然后，對作為陰極使用的霍爾槽銅板（板厚0.5mm）進行以下的前處理：堿性脫脂、堿性電解洗凈及酸洗、水洗后用乙醇洗凈，然后干燥。經(jīng)上述前處理后的銅板作為陰極，鋁板（純度99.9％）作為陽極，在干燥氮氣氣氛中，鍍液溫度50℃、以1A的脈沖（占空比1：1，ON、OFF時間10ms）進行20分鐘的Al電鍍。另外，鍍液用攪拌子攪拌。在表1中示出了鍍液的電導率、Al電鍍的還原電位與由霍爾槽外觀得到的分布力。表1