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一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝的制作方法

文檔序號(hào):5293168閱讀:320來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于表面處理技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及到一種馬氏體不銹鋼保持 架電拋光工藝。
背景技術(shù)
國(guó)內(nèi)現(xiàn)有工藝比較多,但實(shí)際應(yīng)用中,其拋光效果并不理想,即采用 現(xiàn)有工藝對(duì)馬氏體不銹鋼軸承保持架進(jìn)行拋光處理,不能得到理想的均 勻光亮的外觀。發(fā)明內(nèi)容為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提出了一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝, 該工藝通過(guò)改進(jìn)拋光液的配方,改進(jìn)拋光工藝來(lái)得到較理想的拋光效果。 為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案 所述的馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝采用兩次處理的方式,首先 通過(guò)預(yù)處理,再通過(guò)電化學(xué)拋光實(shí)現(xiàn),其中 I 、預(yù)處理i、預(yù)處理液配方按體積百分比組成為20 25%H2S04、 5 8%HCL、 3 7%HN03、 1 2%甘油、蒸餾水余量;ii 、上述預(yù)處理液配方中H2S04, HCL , HN03可去除保持架表面氧化 皮和油污,甘油防止過(guò)腐蝕,將馬氏體不銹鋼保持架浸泡在該預(yù)處理液 3 8分鐘直到氧化皮去除為止,經(jīng)流動(dòng)水清洗后,去除水分;II、電化學(xué)拋光i、 電化學(xué)拋光液配方按質(zhì)量百分比組成為50 60%H3P04、 10 18%H2S04、 4 8%Cr03、 14 18%甘油、蒸餾水余量;ii、 電化學(xué)拋光液配制過(guò)程先用蒸餾水溶解Cr03,然后按比例加 AH3P04 ,并攪拌均勻,再緩慢加入H2S03,并充分?jǐn)嚢杈鶆颍环€(wěn)定十分 鐘,再加入稍許甘油發(fā)生反應(yīng),甘油一定要分多次少量逐步添加到溶液 中;iii、 拋光把馬氏體不銹鋼保持架放入拋光槽中拋光;溫度為85°C 95'C,電流強(qiáng)度為8 15A/dm2,時(shí)間為5 10分鐘,陰極為鉛版;拋光后 用流動(dòng)水清洗,然后用5y。Na2C(V溶液中和,用流動(dòng)水清洗干凈,再用乙 醇溶液去水后在烘干機(jī)上烘干即可。由于采用如上所述的技術(shù)方案,本發(fā)明具有如下優(yōu)越性 以上工藝經(jīng)實(shí)際馬氏體不銹鋼保持架拋光檢驗(yàn)切實(shí)可行,工件均一 光亮。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例l3Crl3不銹鋼保持架,其拋光工藝實(shí)施如下I、 預(yù)處理液i、按體積百分比預(yù)處理液的配比為22%H2S04、 7%HCL、 4%HN03、 2% 甘油、蒸餾水余量;ii 、將3Crl3不銹鋼保持架浸泡在該預(yù)處理液中4分鐘去除氧化皮, 經(jīng)流動(dòng)水清洗干凈;II、 電化學(xué)拋光i、 按質(zhì)量百分比電化學(xué)拋光液配比為56%H3P0" 14%貼04、 4. 5%CrO:,、 18%甘油、蒸餾水余量;ii、 電化學(xué)拋光液配制過(guò)程先用蒸餾水溶解Cr03,然后按比例加AH3P04 ,并攪拌均勻,再緩慢加入H2S03,并充分?jǐn)嚢杈鶆颍环€(wěn)定十分 鐘,再加入稍許甘油發(fā)生反應(yīng),甘油一定要分多次少量逐步添加到溶液 中,待溶液穩(wěn)定后待用;iii、拋光把3Crl3不銹鋼保持架放入拋光槽中拋光,溫度為90。C, 電流強(qiáng)度為10A/dm2,時(shí)間為8分鐘,陰極為鉛版;拋光后用流動(dòng)水清洗, 然后用5Q認(rèn)a2C03溶液中和,后用流動(dòng)水清洗干凈,再用乙醇溶液去水后 在烘干機(jī)上烘干即可。 實(shí)施例24Crl3不銹鋼保持架。其拋光實(shí)施過(guò)程為I、 預(yù)處理液i 、按體積百分比預(yù)處理液的配比為20%H2S04、 6%HCL、 5%HN03、 2% 甘油、蒸餾水余量;ii 、將4Crl3不銹鋼保持架浸泡在該預(yù)處理液中3分鐘去除氧化皮, 經(jīng)流動(dòng)水清洗干凈;II、 電化學(xué)拋光i 、按質(zhì)量百分比電化學(xué)拋光液配比為53%H3P04、 16%H2S04、 5%Cr03、 15%甘油、蒸餾水余量;ii、 電化學(xué)拋光液配制過(guò)程先用蒸餾水溶解Cr03,然后按比例加 AH3P04 ,并攪拌均勻,再緩慢加入H2S03,并充分?jǐn)嚢杈鶆?;穩(wěn)定十分 鐘,再加入稍許甘油發(fā)生反應(yīng),甘油一定要分多次少量逐步添加到溶液 中,待溶液穩(wěn)定后待用;iii、 拋光把4Crl3不銹鋼保持架放入拋光槽中拋光,溫度為86。C, 電流強(qiáng)度為8A/dm2,時(shí)間為10分鐘;拋光后用流動(dòng)水清洗,然后用 5y。Na2COg溶液中和,后用流動(dòng)水清洗干凈,再用乙醇溶液去水后在烘干機(jī) 上烘干即可。
權(quán)利要求
1、一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝,其特征在于該工藝采用兩次處理的方式,首先通過(guò)預(yù)處理,再通過(guò)電化學(xué)拋光實(shí)現(xiàn),其中I、預(yù)處理i、預(yù)處理液配方按體積百分比組成為20~25%H2SO4、5~8%HCL、3~7%HNO3、1~2%甘油、蒸餾水余量;ii、上述預(yù)處理液配方中H2SO4,HCL,HNO3可去除保持架表面氧化皮和油污,甘油防止過(guò)腐蝕,將馬氏體不銹鋼保持架浸泡在該預(yù)處理液3~8分鐘直到氧化皮去除為止,經(jīng)流動(dòng)水清洗后,去除水分;II、電化學(xué)拋光i、電化學(xué)拋光液配方按質(zhì)量百分比組成為50~60%H3PO4、10~18%H2SO4、4~8%CrO3、14~18%甘油、蒸餾水余量;ii、電化學(xué)拋光液配制過(guò)程先用蒸餾水溶解CrO3,然后按比例加入H3PO4,并攪拌均勻,再緩慢加入H2SO3,并充分?jǐn)嚢杈鶆?;穩(wěn)定十分鐘,再加入稍許甘油發(fā)生反應(yīng),甘油一定要分多次少量逐步添加到溶液中;iii、拋光把馬氏體不銹鋼保持架放入拋光槽中拋光;溫度為85℃~95℃,電流強(qiáng)度為8~15A/dm2,時(shí)間為5~10分鐘,陰極為鉛版;拋光后用流動(dòng)水清洗,然后用5%Na2CO3溶液中和,用流動(dòng)水清洗干凈,再用乙醇溶液去水后在烘干機(jī)上烘干即可。
全文摘要
一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝,先預(yù)處理,配方20~25%H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>、5~8%HCL、3~7%HNO<sub>3</sub>、1~2%甘油、蒸餾水余量;將保持架浸泡3~8分鐘去皮,經(jīng)流動(dòng)水清洗后除水分;再通過(guò)電化學(xué)拋光,配方50~60%H<sub>3</sub>PO<sub>4</sub>、10~18%H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>、4~8%CrO<sub>3</sub>、14~18%甘油、蒸餾水余量;蒸餾水溶解CrO<sub>3</sub>后按比例加入H<sub>3</sub>PO<sub>4</sub>,再緩慢加入H<sub>2</sub>SO<sub>3</sub>,攪拌均勻;穩(wěn)定十分鐘,加入稍許甘油并分多次少量逐步添加,把保持架放入拋光槽中;溫度85℃~95℃,電流強(qiáng)度為8~15A/dm<sup>2</sup>,時(shí)間為5~10分鐘;拋光后用流動(dòng)水清洗,后用5%Na<sub>2</sub>CO<sub>3</sub>溶液中和,用乙醇溶液去水后烘干。
文檔編號(hào)C25F3/00GK101275270SQ200710193130
公開(kāi)日2008年10月1日 申請(qǐng)日期2007年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月30日
發(fā)明者段欣生, 王燦輝, 王連方 申請(qǐng)人:洛陽(yáng)軸研科技股份有限公司
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