專利名稱：高砷低銅溶液的電積脫銅技術(shù)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種高砷低銅溶液的電積脫銅技術(shù)。
背景技術(shù)：
銅電解濕法冶煉過(guò)程中，雜質(zhì)砷會(huì)在電解液中不斷富集。當(dāng)As含量的不斷升高達(dá)到5～10g/l時(shí)，為保證電解銅的質(zhì)量，一般采用電積的方法進(jìn)行脫砷。在電積脫砷過(guò)程中，當(dāng)Cu含量降至8g/l以下時(shí)，陰極便會(huì)產(chǎn)出海綿狀的黑銅粉(銅砷渣)，同時(shí)會(huì)伴有AsH3劇毒氣體產(chǎn)生，因此從高砷低銅溶液中進(jìn)行銅的回收是一個(gè)非常棘手的難題。
采用萃取法對(duì)溶液脫砷后再進(jìn)行電積脫銅，雖然技術(shù)可行，但成本較高。通常情況下，大多數(shù)企業(yè)為降低生產(chǎn)成本，一般采用鐵屑置換的方法進(jìn)行銅的回收；但是該方法產(chǎn)出的海綿銅品位低(大約40～60％)，砷含量高，而且由于溶液含砷高，鐵屑置換銅過(guò)程中不可避免地會(huì)產(chǎn)生大量的AsH3劇毒氣體，給操作人員帶來(lái)較大的安全隱患，并給環(huán)境造成較大的污染，這種現(xiàn)象特別是在溶液含砷達(dá)到20～60g/l時(shí)，表現(xiàn)的更為突出。另外，采用鐵屑置換銅的方法，由于鐵雜質(zhì)元素進(jìn)入溶液系統(tǒng)，不利于下一步對(duì)其它有價(jià)元素進(jìn)行有效的綜合回收。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出一種高砷低銅溶液的電積脫銅技術(shù)，它針對(duì)高砷煙塵浸出所產(chǎn)生的高砷低銅溶液，采用電積脫銅技術(shù)，對(duì)溶液中的銅實(shí)施有效的回收，產(chǎn)出含銅99％以上高級(jí)紫雜銅，可直接作為陽(yáng)極銅進(jìn)入銅電解系統(tǒng)。
本發(fā)明針對(duì)高砷煙塵浸出產(chǎn)生的高砷低銅溶液(其成分如表1)，提供了一種直接電積回收銅的新型技術(shù)。
表1 高砷低銅溶液的主要成份分，g/l

本技術(shù)采用公知的銅電積工藝技術(shù)和電積設(shè)備，對(duì)煙塵浸出的高砷低銅溶液實(shí)施電積脫銅，最終產(chǎn)出含銅＞99％的電積紫雜銅，電積后液含銅可降至2～3g/l甚至更低，而且保證整個(gè)電積過(guò)程不會(huì)產(chǎn)生AsH3劇毒氣體。電積過(guò)程產(chǎn)出的再生硫酸，可返回?zé)焿m浸出，保證整個(gè)電積過(guò)程酸度的平衡。采用該技術(shù)，可對(duì)高砷低銅溶液中的銅實(shí)施有效的綜合回收，而且生產(chǎn)處理成本較低。
具體實(shí)施實(shí)例電積前溶液成分(g/l)Cu29.47 Zn139.6 As62.07 H2SO4112.31 Cd5.9電積后溶液成份(g/l)Cu1.96 Zn139 As62.0 H2SO4154.7 Cd5.7電積銅成份(％)Cu99.07 As0.49Cd0.015。
權(quán)利要求
1.一種高砷低銅溶液的電積脫銅技術(shù)，采用直接電積的方式進(jìn)行脫銅，電積過(guò)程采用公知的設(shè)備以及工藝技術(shù)控制，使銅最終以高級(jí)紫雜銅形態(tài)析出，進(jìn)入下一步的銅電解系統(tǒng)生產(chǎn)電銅；整個(gè)電積過(guò)程中，溶液中的As不會(huì)析出，也無(wú)AsH3劇毒氣體產(chǎn)生。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的技術(shù)，其特征在于對(duì)于高砷低銅溶液直接進(jìn)行電積脫銅，以解決高砷低銅溶液中的銅回收問(wèn)題。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的技術(shù)，其特征在于通過(guò)電積的方式，將高砷低銅溶液中的銅以高級(jí)紫雜銅進(jìn)行回收，品位在99％以上，可作為陽(yáng)極銅滿足銅電解生產(chǎn)電銅的需要。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的技術(shù)，其特征在于整個(gè)銅電積過(guò)程，無(wú)任何AsH3劇毒氣體產(chǎn)生。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的技術(shù)，其特征在于電積過(guò)程采用的設(shè)備裝置和相應(yīng)的工藝技術(shù)控制，可以促進(jìn)銅的析出，而對(duì)砷的析出則實(shí)施最有效的抑制。
全文摘要
一種高砷低銅溶液的電積脫銅技術(shù)，它針對(duì)高砷煙塵浸出所產(chǎn)生的高砷低銅溶液，采用直接電積的方式進(jìn)行脫銅，電積過(guò)程采用公知的設(shè)備以及工藝技術(shù)控制，使銅最終以高級(jí)紫雜銅形態(tài)析出，品位在99％以上，進(jìn)入下一步的銅電解系統(tǒng)生產(chǎn)電銅；電積過(guò)程采用的設(shè)備裝置和相應(yīng)的工藝技術(shù)控制，可以促進(jìn)銅的析出，而對(duì)砷的析出則實(shí)施最有效的抑制，也無(wú)AsH
文檔編號(hào)C25C1/12GK1772956SQ20051001106
公開日2006年5月17日 申請(qǐng)日期2005年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月17日
發(fā)明者丁昆, 孔慶堯, 徐養(yǎng)良, 張 浩, 史誼峰, 楊小琴, 張邦琪 申請(qǐng)人:云南銅業(yè)股份有限公司, 昆明西山有色金屬科技開發(fā)公司