專利名稱:等離子束蒸-凝法制備納米SiO<sub>2</sub>氣凝膠及靜電成型方法
技術領域:
本發(fā)明專利涉及一種運用大功率層流等離子束蒸-凝法制備納米SiO2氣凝膠及靜電成型方法。采用高壓靜電電場和層流等離子束蒸-凝法相結合生產SiO2凝膠的新型方法,可大幅降低SiO2凝膠的生產成本,提高生產效率,節(jié)約能源。
背景技術:
目前國內外生產SiO2凝膠的方法主要有溶膠-凝膠法和PVD物理氣相沉積法,一般來講在比較成熟的工業(yè)生產中都采用PVD的物理氣相沉積方法。溶膠一凝膠法就是用含高化學活性組分的化合物作前驅體,溶膠一凝膠法通常整個溶膠一凝膠過程所需時間較長(主要指陳化時間),常需要幾天或者幾周;還有就是溶膠中存在大量納米顆粒,在干燥過程中又將會逸出許多氣體及有機物,并產生收縮。溶膠-凝膠法制備薄膜,一般都有膜層結構疏松的缺點,物理氣相淀積(PVD)指的是利用某種物理過程,例如蒸發(fā)或者濺射現象實現物質的轉移,即原子或分子由源轉移到襯底(硅)表面上,并淀積成薄膜。物理氣相沉積法制備的SiO2凝膠質量優(yōu)于溶膠-凝膠法,但是效率低,能耗較大,運行成本高
發(fā)明內容
為了克服現有溶膠-凝膠法SiO2氣凝膠生產方法的不足:效率低,成本高,質量差,周期長,能耗高等不足,本發(fā)明提供一種全新的SiO2氣凝膠生產方法:利用大功率層流等離子束蒸-凝法生產納米SiO2氣凝膠及靜電吸附成型。利用大功率層流等離子束瞬間汽化原材料,形成SiO2蒸汽,隨后冷凝成為納米顆粒,再通過高壓靜電電場吸附這些納米顆粒,生成多孔高透光SiO2氣凝膠的方法。該生產方法效率高,成本低,周期短,生產過程全封閉,環(huán)保節(jié)能。本發(fā)明的具體實施方法是:利用大功率層流等離子束發(fā)生器產生溫度極高(超過一萬攝氏度)的穩(wěn)定長弧等離子體射流,通過高精度送粉器將原材料粉末或顆粒送進等離子體內部瞬間汽化、冷凝,最后通過帶高壓的基板靜電吸附并成型。通過高壓電場讓冷凝的絮狀納米SiO2粒子帶上電荷,再利用靜電力吸附并成型在帶靜電的基板上,具有收集效率高、密度及結構易調節(jié)、工藝簡單、節(jié)能、成本低等優(yōu)點。本發(fā)明帶來的效益是:大大提高了納米SiO2氣凝膠的生產效率,能大規(guī)模生產,降低了生產成本的同時也大幅降低了能源的消耗。整個過程中只發(fā)生物理變化且全封閉,過程環(huán)保。
權利要求
1.采用了層流等離子束蒸-凝法和靜電吸附相結合的方法生產納米氣凝膠。
2.根據權利要求I所述用于生產納米SiO2氣凝膠。
3.根據權利要求1、2所述還可以用于氮化物、碳化物、硼化物、氧化物等金屬及非金屬無機納米氣凝膠。
全文摘要
一種大功率層流等離子束蒸-凝法生產納米SiO2氣凝膠及靜電吸附成型方法,提高納米SiO2氣凝膠的生產效率,成本低,易于量產。
文檔編號B82Y40/00GK103253677SQ20121003932
公開日2013年8月21日 申請日期2012年2月21日 優(yōu)先權日2012年2月21日
發(fā)明者徐攀, 黃佳華 申請人:成都真火科技有限公司