具有渦流阻擋構(gòu)件的水力旋流器的制造方法
【專利摘要】水力旋流器(10)，其包含筒體(12)，所述筒體具有流體入口(14)、過濾流體出口(16)、流出物出口(18)、工藝流體出口(20)和圍繞軸(X)定位并且包圍多個排列的腔室的內(nèi)周壁(22)，所述筒體包括：i)與流體入口(14)流體連通的渦流室(24)、位于渦流室(24)內(nèi)并包圍濾液室(46)的過濾器組件(26)、從流體入口(14)并圍繞過濾器組件(26)延伸的流體通路(28)，所述流體通路適合于圍繞過濾器組件(26)產(chǎn)生渦流流體流，其中濾液室(46)與過濾流體出口(16)流體連通，使得通過過濾器組件(26)的流體進(jìn)入濾液室(46)并可以通過過濾流體出口(16)離開筒體(12)，和ii)與渦流室(24)流體連通并且適合從其接收未過濾流體的流出物分離室(30)，其中流出物分離室(30)與工藝流體出口(20)和流出物出口(18)流體連通；其中水力旋流器(10)還包括位于所述渦流室和流出物分離室(24，30)之間的渦流阻擋構(gòu)件(34)，其適合于在流體從渦流室(24)流到流出物分離室(30)時干擾渦流流體流。
【專利說明】具有渦流阻擋構(gòu)件的水力旋流器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明總體涉及水力旋流器和流體的旋流分離。

【背景技術(shù)】
[0002]水力旋流器通常用于從液體中分離懸浮的顆粒。在典型的實施方式中，加壓的進(jìn)料液體(如:廢水)在腔室內(nèi)產(chǎn)生渦流的條件下被引入圓錐形的腔室中。進(jìn)料液體靠近圓錐形腔室的頂部引入，并且流出物流靠近腔室的底部排出。與渦流相關(guān)的離心力將較致密的顆粒推向腔室的外圍。其結(jié)果是，位置靠近渦流中心的液體比在外圍的液體具有更低的顆粒濃度。然后可以從水力旋流器的中心區(qū)域抽取這種“較清潔”的液體。在US3061098、US3529724、US5104520、US5407584 和 US5478484 中描述了水力旋流器的實例。可以通過在腔室之中包括過濾器以使得流向腔室中心的一部分液體通過該過濾器而提高分離效率。在這樣的實施方式中，旋流分離與錯流過濾相結(jié)合。在US7632416、US7896169、US2011/0120959和US2012/0010063中描述了這樣的實施方式的實例。雖然這樣的混合設(shè)計提高了分離效率，但仍希望有進(jìn)一步的改進(jìn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明包括水力旋流器、包含水力旋流器的分離系統(tǒng)和用其進(jìn)行流體分離的方法的多種實施方式。在一種實施方式中，本發(fā)明包括包含筒體的水力旋流器，所述筒體具有流體入口、過濾流體出口、流出物出口、工藝流體出口和以軸為中心并包圍多個排列的腔室的內(nèi)周壁，所述筒體包括:i)與所述流體入口流體連通的渦流室，和ii)與渦流室流體連通并且適合于從其接收未過濾流體的流出物分離室，其中所述流出物分離室與所述工藝流體出口和流出物出口流體連通。所述水力旋流器還包括位于所述渦流室和流出物分離室之間的渦流阻擋構(gòu)件，其適合于保持所述渦流室中的渦流流體流、在流體在腔室之間流動時干擾所述渦流和允許在所述流出物分離室內(nèi)降低流體流動的旋轉(zhuǎn)速度。過濾器組件位于所述渦流室內(nèi)并包圍濾液室。流體處理通路從流體入口延伸并圍繞所述過濾器組件，并且適合于在所述過濾器組件周圍產(chǎn)生渦流流體流。所述濾液室與過濾流體出口流體連通，致使通過所述過濾器組件的流體可以進(jìn)入所述濾液室并可以通過所述過濾流體出口離開所述筒體。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0004]通過參考下面的描述連同附圖可以更好地理解本發(fā)明的各個方面，其中在各種視圖中始終使用類似的附圖標(biāo)記來指示類似的部件。該描述是說明性的，而不是意在按規(guī)定比例繪制，或者以其他方式限制本發(fā)明。
[0005]圖1A是顯示本發(fā)明一種實施方式的正視圖。
[0006]圖1B是沿著圖1A的1B-1B線取的橫截面圖。
[0007]圖1C是圖1B中示出的替代實施方式的橫截面視圖。
[0008]圖1D是圖1B中示出的替代實施方式的橫截面視圖。
[0009]圖2是圖1A和B中示出的實施方式的分解透視圖。
[0010]圖3A是過濾器組件的部分剖視圖。
[0011]圖3B是圖2A過濾器包括清潔組件的透視圖。
[0012]圖3C是包括入口流護(hù)罩的圖2B組件的透視圖。
[0013]圖4A是渦流阻擋構(gòu)件的一種實施方式的透視圖。
[0014]圖4B是渦流阻擋構(gòu)件的替代實施方式的透視圖。

【具體實施方式】
[0015]本發(fā)明一般地涉及水力旋流器過濾裝置及進(jìn)行旋流分離的相關(guān)方法。用于本說明書的目的，術(shù)語“水力旋流器”是指其中至少部分地依靠由渦流流體流所產(chǎn)生的離心力以從流體混合物分離成分的過濾裝置。其實例包括從液體混合物(例如水性混合物)中分離固體顆粒和分離包括不同密度的液體(如油和水)的混合物。在一種實施方式中，本發(fā)明在作為分離系統(tǒng)的一部分的再循環(huán)回路內(nèi)結(jié)合了旋流分離、錯流過濾和顆粒沉降(例如沉淀或絮凝)。在本文中使用時，術(shù)語“系統(tǒng)”是指部件的互連組件。本發(fā)明在各種應(yīng)用中具有效用，包括處理:造紙廠機產(chǎn)生的紙漿廢水、油和氣體開采所產(chǎn)生的工藝水、艙底水以及生活和工業(yè)廢水。
[0016]本發(fā)明的一種實施方式在圖1和2中示出，其包括總體以10顯示的水力旋流器，所述水力旋流器包括筒體(12)，所述筒體具有可卸式蓋(13)、流體入口(14)、過濾流體出口(16)、流出物出口(18)、工藝流體出口(20)和圍繞軸⑴定位并且包圍多個排列的腔室的內(nèi)周壁(22)。雖然描繪為包括兩個室，即渦流室(24)和流出物分離室(30)，但也可以包括其它的室。類似地，也可以包括其它的流體入口和出口。雖然顯示為具有圓筒形上段和截頭圓錐形底部，但筒體(12)可以具有其他構(gòu)造，包括純粹圓筒形的形狀。雖然顯示為沿著中心軸(X)豎直排列，但所述渦流室和流出物分離室可以沿著其他軸、例如沿著水平軸依次排列。
[0017]過濾器組件(26)優(yōu)選居中位于腔室(24)內(nèi)并且與筒體(12)的內(nèi)周壁(22)等距間隔。如圖3A中最佳顯示的，過濾器組件(26)包括圓筒形外膜表面(44)，所述外膜表面圍繞所述軸(X)對稱定位并且包圍與過濾流體出口(16)流體連通的濾液室(46)。雖然顯示為圓筒形形狀，但可以使用其他構(gòu)造，包括階梯形和圓錐形過濾器。過濾器組件(26)包括可以由多種材料制造的外膜表面(44)，包括多孔聚合物、陶瓷和金屬。在一種實施方式中，所述膜比較薄，例如0.2-0.4mm，并且由下面的剛性框架或多孔載體(未顯示)支撐。代表性的例子在US2012/0010063中描述。膜(44)的孔尺寸(例如I至500微米)、形狀(例如V形、圓筒形、有槽縫的)和均勻性可以根據(jù)應(yīng)用而改變。在許多優(yōu)選實施方式中，膜(44)包含耐腐蝕金屬(例如電鑄成形鎳網(wǎng))，其包括尺寸均一的孔，尺寸從10至100微米。這樣的材料的代表性例子描述于 US7632416，US7896169, US2011/0120959，US 2011/0220586 和US2012/0010063 中。
[0018]如圖1B中最佳顯示的，流體處理通路(28)從流體入口(14)延伸并在腔室(24)的內(nèi)周壁(22)與膜表面(44)之間限定渦流區(qū)(25)。流體處理通路(28)通過流出物分離室(30)繼續(xù)到達(dá)工藝流體出口(20)。
[0019]所述水力旋流器(10)還可以包括清潔組件(50)，其用于從過濾器組件(26)的膜表面(44)除去殘渣。代表性的實施方式在圖3B示出，其中組件(50)圍繞膜表面(44)同心定位并可旋轉(zhuǎn)地接合膜表面(44)，并且包括徑向向外延伸的一個或多個輻條(52)。刷子
(54)從輻條(52)末端向下延伸并接合(例如觸及或非常接近)膜基底(44)的表面。雖然顯示為刷子(54),但可以包括替代清潔工具,包括刮板(wiper)、刮刀(squeegee)或刮凈器(scrapper)。大多數(shù)實施方式中使用2到50個刷子，并優(yōu)選18到24個刷子。如彎箭頭所表示，清潔組件(50)圍繞過濾器組件(26)旋轉(zhuǎn)，致使刷子(54)清掃膜基底(54)的表面并除去殘渣，例如通過在所述表面附近產(chǎn)生紊流或通過直接接觸所述表面。一個或多個葉片
(56)可以安裝在至少一個輻條(52)的末端，使得流入渦流室(24)的流體圍繞過濾器組件
(26)旋轉(zhuǎn)清潔組件(50)。繞過濾器組件均勻間隔的葉片(56)提高了清潔組件(50)旋轉(zhuǎn)運動的穩(wěn)定性并可以幫助保持渦流室(24)中的渦流流體流。雖然顯示為從膜基底的表面
(44)徑向向外延伸，但所述葉片可以偏斜(例如與徑向軸成-5°至-30°或5°至30° )以增加旋轉(zhuǎn)速度。在所述過濾器和清潔組件(26，50)之間可以使用軸承以在不阻礙渦流流體流的情況下進(jìn)一步促進(jìn)旋轉(zhuǎn)。在未顯示的替代實施方式中，清潔組件(50)可以通過可選手段驅(qū)動，例如電動馬達(dá)、磁力等等。在又一種實施方式中，所述過濾器組件可以相對于固定的清潔組件移動。
[0020]可優(yōu)化進(jìn)料流體入口壓力和過濾器組件(26)的外周與筒體(12)的內(nèi)周壁(22)之間的間距以在腔室(24)內(nèi)產(chǎn)生并保持渦流流體流。為了進(jìn)一步促進(jìn)渦流流體流的產(chǎn)生和保持，流體入口(14)優(yōu)選將進(jìn)入的進(jìn)料流體引導(dǎo)到圍繞渦流室的切線路徑上，如圖1A中指示的。即使按著這樣的切線路徑，加壓的進(jìn)料流體也可能直接沖擊過濾組件(26)的膜表面(44)并導(dǎo)致過早磨損或結(jié)垢——特別是對于具有高固體含量的進(jìn)料流體。為了保護(hù)膜表面(44)，入口流護(hù)罩(58)可以位于流體入口(14)和膜表面(44)之間，例如繞過濾器組件(26)同心定位。非限制性實施方式在圖2和3C中示出。如所示的，護(hù)罩(58)優(yōu)選包含材料(例如塑料)的無孔圓筒形帶，其阻擋從流體入口(14)流入腔室(24)中的至少一部分流體以避免直接沖擊(碰撞)膜表面(44)。所述帶可以由連續(xù)的材料環(huán)或通過獨立的弧形物形成。在優(yōu)選實施方式中，護(hù)罩(58)具有的高度接近于膜表面(44)的高度，致使護(hù)罩(58)和膜表面(44)形成同心圓筒體。在優(yōu)選實施方式中，所述護(hù)罩可以可折卸地安裝于清潔組件(50)上。作為非限制性例子，清潔組件(50)的葉片(56)可以包括用于接收護(hù)罩(58)的豎直狹槽(60)。
[0021]渦流阻擋構(gòu)件(34)優(yōu)選位于所述渦流室和流出物分離室(24，30)之間。渦流阻擋構(gòu)件(34)設(shè)計成保持渦流室(24)中的渦流流體流，當(dāng)流體從渦流室(24)流入流出物分離室(30)中時干擾渦流，和減少流出物分離室(30)內(nèi)的旋轉(zhuǎn)流體流。渦流阻擋構(gòu)件(24)通過引導(dǎo)所述渦流室和流出物分離室(24，30)之間的流體流動到鄰近筒體(12)的內(nèi)周壁
[22]的位置來實現(xiàn)這種目的。在圖1B示出的優(yōu)選實施方式中，渦流阻擋構(gòu)件(34)包括延伸到與筒體(12)的內(nèi)周壁(22)鄰近(例如在50mm、25mm或甚至1mm內(nèi))或與之接觸的位置的外周緣(40)，并且可以任選包括位置在所述周緣(40)附近并延伸穿過它的多個孔
(42)?？?42)的大小與形狀沒有特別的限制，例如扇形、狹縫、橢圓形等等。一些代表性的例子在圖4-B中示出。在又一種未示出的實施方式中，渦流阻擋構(gòu)件(34)可以包括不包含孔并且延伸到鄰近于(例如在50mm、25mm或甚至1mm內(nèi))筒體(12)的內(nèi)周壁(22)的位置的外周緣。渦流阻擋構(gòu)件(34)設(shè)計成控制流體流過所述筒體(12)的腔室，其中大部分(例如優(yōu)選至少50%、75%和在一些實施方式中至少90% )的體積流量優(yōu)先引導(dǎo)到筒體
(12)的內(nèi)周壁(22)附近(例如在至少50mm、25mm或甚至1mm內(nèi))的位置。這表明，少部分(例如小于50%和更優(yōu)選小于75%和甚至更優(yōu)選小于90% )的所述流體流可以出現(xiàn)在其他位置，包括中央位置。盡管所示出的實施方式具有板或盤式構(gòu)造，所述渦流阻擋構(gòu)件可以采取其他構(gòu)造，包括具有一定角度或彎曲表面的構(gòu)造，例如錐體或碗形。
[0022]流出物分離室(30)適合于通過降低和重定向流體速度來增強顆粒的分離。流出物分離室(30)設(shè)計為使得流體主體沿著流體處理通路(28)流動通過流出物分離室(30)內(nèi)的區(qū)域，在其中它們從流出物出口(18)加速離開，并且在該區(qū)域中它們的運動從朝向流出物出口(18)流動改變?yōu)檫h(yuǎn)離流出物出口(18)而流動。在優(yōu)選實施方式中，這至少部分通過包括流體處理通路(28)來完成，所述流體處理通路遵循從渦流室(24)到流體出口(20)的曲折路徑，其促進(jìn)顆粒的分離和由于重力而從主體流體流中沉降。即，通過阻斷流出物分離室(30)內(nèi)的直接或接近直線(linear)的流體通路，固體傾向于從更加動態(tài)的流體流中沉降出來，從而經(jīng)由工藝流體出口(20)離開筒體(12)。
[0023]如圖1B所示，水力旋流器(10)還可以包括任選的管道(31)，所述管道包括位于流出物分離室(30)內(nèi)的軸(X)附近(例如位于中央)的工藝流體入口(33)，所述工藝流體入口與工藝流體出口(20)流體連通。如圖1C和圖1D所示，工藝流體入口(33)可以在它的入口處包括比管道(31)更寬的區(qū)域以利于顆粒收集并且該較寬的區(qū)域如圖1D所示可以是傾斜的。水力旋流器(10)還可以包括圍繞入口(33)(例如同心地)布置的任選折流板
(35)。折流板(35)通過阻斷直接通路來限制進(jìn)入入口(33)的固體的量。通過阻斷來自渦流室(24)的直接或接近直線的流體通路，固體傾向于從進(jìn)入入口(33)的更加動態(tài)流體流中沉降出來。在圖1B、1C和ID的實施方式中，軸⑴是豎直排列的并且流體入口(33)在流出物分離室(30)的中央附近豎直朝上。在這種構(gòu)造中，流體處理通路(28)遵循從渦流室
[24]到流體出口(20)的曲折路徑。重要的是，所述路徑倒轉(zhuǎn)了路線，開始總的向下流動，然后向上，最后在管道(31)內(nèi)向下。沿著該路徑流動的主體流內(nèi)的顆粒傾向于被牽引向下到流出物出口(18)并且由于重力不能逆轉(zhuǎn)流向。雖然未示出，但也可以使用替代布置，其中入口(33)朝下，并且折流板從流出物分離室(30)的底部向上并繞入口(33)同心地延伸。使用任選的折流板(35)增強了分離。雖然折流板(35)顯示為具有圓筒形結(jié)構(gòu)，但阻斷直接通路的其他結(jié)構(gòu)也可以使用。
[0024]在操作中，加壓的進(jìn)料流體(例如，優(yōu)選從4至120psi)通過流體入口(14)進(jìn)入筒體(12)，并沿著流體處理通路(28)流動，其在過濾器組件(26)周圍產(chǎn)生渦流。離心力將更致密的物質(zhì)推向筒體(12)的內(nèi)周壁(22)，而密度較小的液體徑向向內(nèi)地流向過濾器組件(26)。一部分該液體通過過濾器組件(26)流入濾液室(46)中和隨后可以經(jīng)由過濾流體出口(16)作為“濾液”離開筒體(12)。剩余的“非濾液”從渦流室(24)流向流出物分離室(30)。渦流阻擋構(gòu)件(34)將大部分(例如，優(yōu)選至少50%、75%，和在一些實施方式中，至少90%)體積的這種流引導(dǎo)至沿筒體(12)的內(nèi)周壁(22)或與其鄰近(例如在至少50mm、25mm或甚至1mm內(nèi))的位置。這種安排被認(rèn)為將渦流維持在渦流室(24)中，而在流體進(jìn)入流出物分離室(30)時干擾渦流。流體流在流出物分離室(30)中減速且較致密的物質(zhì)(例如顆粒)優(yōu)先朝向流出物分離室(30)的中心沉降并進(jìn)入流出物開口(38)中，并且然后可以經(jīng)由流出物出口(18)離開筒體。流出物出口(18)可任選地包括閥(37)(例如，單向止回閥或泵)以選擇性地控制流出物從筒體(12)移除。流出物分離室(30)中的剩余液體(以下稱為“工藝流體”)通過工藝流體出口(20)離開筒體(12)。在大部分應(yīng)用中，工藝流體表示中等級產(chǎn)物，其可以再利用、處置或再循環(huán)回到流體入口(14)供進(jìn)一步處理。“濾液”通常表示可以再利用或處置的高等級產(chǎn)物。“流出物”表示可以進(jìn)一步處理或處置的低等級產(chǎn)物。然而，應(yīng)該理解，在一些應(yīng)用中，流出物可以表示有價值的產(chǎn)物。
[0025]在另一種實施方式中，所述水力旋流器(10)形成分離系統(tǒng)的部分，所述分離系統(tǒng)包括進(jìn)料泵(Y)和循環(huán)泵(Z)，所述進(jìn)料泵(Y)與流體入口(14)流體連通并適合用于將液體混合物(進(jìn)料)引入流體入口(14)中，所述循環(huán)泵(Z)與工藝流體出口(20)和流體入口(14)流體連通。循環(huán)泵(Z)適合用于將工藝液體從工藝流體出口(20)引到流體入口
(14)。循環(huán)泵(Z)與工藝流體出口(20)、流體入口(14)和流體處理通路(28) —起合起來限定了再循環(huán)回路(A)。
[0026]利用進(jìn)料泵(Y)和循環(huán)泵(Z) 二者提供了優(yōu)于單個泵設(shè)計的更高效率，其利用通過再循環(huán)回路的多輪來除去顆粒而允許經(jīng)濟(jì)的運行。當(dāng)通過流出物分離室(30)的每一輪具有相對低的顆?；厥章蕰r，平均需要通過所述系統(tǒng)的幾輪來除去各種顆粒。在渦流室
(24)內(nèi)，壓力必須超過跨膜壓力，并且當(dāng)針對較高的跨膜壓力設(shè)計系統(tǒng)時，更容易達(dá)到沿著流體處理通路(28)的均勻通量。因為與每輪相關(guān)的壓降是累積的，根據(jù)單個泵設(shè)計的系統(tǒng)由于每一輪的再加壓可具有顯著的效率損失。相比之下，如果進(jìn)料泵(Y)用于向由第二個泵(Z)驅(qū)動的加壓再循環(huán)回路提供加壓液體，則避免了與向跨膜壓力和任何濾液背壓的再加壓有關(guān)的連續(xù)輪次的能量損失。循環(huán)泵(Z)只需要供應(yīng)能量來驅(qū)動流體通過所述再循環(huán)回路，并且在一些實施方式中，在膜表面(44)和清潔組件(50)之間產(chǎn)生相對運動。在優(yōu)選實施方式中，循環(huán)泵(Z)適合用于將一定體積的工藝液體引入流體入口(14)中，所述體積是由所述進(jìn)料泵(Y)引入的進(jìn)料液體的體積的至少兩倍，更優(yōu)選三倍。雖然未顯示，但系統(tǒng)
(10)可以包括其它的泵和相應(yīng)的閥來促進(jìn)液體和固體的移動。
[0027]與以往的設(shè)計相比，所述水力旋流器提供了優(yōu)異的分離效率。這樣的效率使得水力旋流器可用于更廣泛的應(yīng)用中，特別是在工藝流體被再循環(huán)和任選地與補充的進(jìn)料流體共混的實施方式中。概括地說，在單一裝置內(nèi)使進(jìn)料流體經(jīng)歷多個分離過程的協(xié)同組合。具體而言，對進(jìn)料流體進(jìn)行至少部分地基于密度的旋流分離，使得較致密的物質(zhì)(例如，顆粒、液體)被推向筒體的內(nèi)周緣。通過過濾器組件的流體另外進(jìn)行錯流過濾。所述入口進(jìn)料護(hù)罩防止用于錯流過濾的膜經(jīng)受由于與旋流分離有關(guān)的進(jìn)料壓力和進(jìn)料含量的過度磨損或結(jié)垢。本文中參考文獻(xiàn)提到的美國專利中每一個的全部主題內(nèi)容通過引用完全并入本文。
【權(quán)利要求】
1.水力旋流器(10)，其包含筒體(12)，所述筒體包括流體入口(14)、過濾流體出口(16)、流出物出口(18)、工藝流體出口(20)和圍繞軸⑴定位并且包圍多個排列的腔室的內(nèi)周壁(22)，所述筒體包括: i)與流體入口(14)流體連通的渦流室(24)、位于渦流室(24)內(nèi)并包圍濾液室(46)的過濾器組件(26)、從流體入口(14)延伸并圍繞過濾器組件(26)的流體處理通路(28)，所述流體處理通路適合于在過濾器組件(26)周圍產(chǎn)生渦流流體流，其中濾液室(46)與過濾流體出口(16)流體連通，使得通過過濾器組件(26)的流體進(jìn)入濾液室(46)并可通過過濾流體出口(16)離開筒體(12)，和 ?)與渦流室(24)流體連通并且適合于從其接收具有流體流動速度的未過濾流體的流出物分離室(30)，其中流出物分離室(30)與工藝流體出口(20)和流出物出口(18)流體連通，并且其中流出物分離室(30)適合于通過降低流體流動速度而增強顆粒的分離； 其中水力旋流器(10)還包括位于所述渦流室和流出物分離室(24，30)之間的渦流阻擋構(gòu)件(34)，所述渦流阻擋構(gòu)件適合于在流體從渦流室(24)流到流出物分離室(30)時干擾渦流流體流。
2.權(quán)利要求1的水力旋流器(10)，其中所述渦流阻擋構(gòu)件(34)將在所述渦流室和流出物分離室(24，30)之間的大部分流體流引導(dǎo)到鄰近于筒體(12)的內(nèi)周壁(22)的位置。
3.權(quán)利要求1的水力旋流器(10)，其中所述渦流阻擋構(gòu)件(34)包含延伸到鄰近于筒體(12)的內(nèi)周壁(22)的位置的外周緣(40)，并且還包含多個延伸穿過它的孔(42)。
4.權(quán)利要求1的水力旋流器(10)，其中所述渦流阻擋構(gòu)件(34)包含延伸到筒體(12)的內(nèi)周壁(22)的至少50mm以內(nèi)的位置的外周緣(40)。
5.權(quán)利要求1的水力旋流器(10)，其中所述渦流阻擋構(gòu)件(34)包含盤形構(gòu)造。
6.權(quán)利要求1的水力旋流器(10)，其還包含位于流出物分離室(30)內(nèi)在軸(X)附近的工藝流體入口(33)，其中所述工藝流體入口(33)與工藝流體出口(20)流體連通。
7.權(quán)利要求6的水力旋流器(10)，其還包含圍繞工藝流體入口(33)同心布置的折流板(35)。
8.權(quán)利要求1的水力旋流器(10)，其中所述過濾器組件(26)包含對稱位于軸(X)周圍并且包圍濾液室(46)的外膜表面(44)，所述濾液室與過濾流體出口(16)流體連通。
9.權(quán)利要求8的水力旋流器(10)，其還包含圍繞所述膜表面(44)同心定位并可旋轉(zhuǎn)地接合膜表面(44)的清潔組件(50)。
10.權(quán)利要求1的水力旋流器(10)，其中所述清潔組件(50)適合于由于流體沿著流體處理通路(28)流動而圍繞過濾器組件(26)旋轉(zhuǎn)。
【文檔編號】B04C5/22GK104411379SQ201380028633
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2013年5月22日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月31日
【發(fā)明者】S·D·瓊斯, S·K·拉馬林加姆 申請人:陶氏環(huán)球技術(shù)有限責(zé)任公司