一種濕法脫硫后除塵除霧裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種濕法脫硫后除塵除霧裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著排放標(biāo)準(zhǔn)的提高，隨著我國(guó)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的提高，尤其是2014年新的《火電廠大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》出臺(tái)，將顆粒物排放標(biāo)準(zhǔn)提高到30mg/m3。目前鍋爐煙氣處理大多采用石灰石-石膏濕法工藝，脫硫前的煙氣雖然經(jīng)過(guò)除塵處理，但由于脫硫后的煙氣汗細(xì)微漿液，引起二次夾帶，導(dǎo)致出口顆粒物達(dá)不到國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。傳統(tǒng)的煙囪脫水裝置一些霧塵仍然無(wú)法完全清除而造成排氣超標(biāo)影響環(huán)境。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型對(duì)上述問(wèn)題進(jìn)行了改進(jìn)，即本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是解決目前煙氣塵物排放量較高。
[0004]本實(shí)用新型的具體實(shí)施方案是:一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，包括立式筒體，所述筒體內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán)，所述補(bǔ)水環(huán)上設(shè)有噴水孔，每節(jié)除塵單元底部的旋流裝置周側(cè)設(shè)有排料管。
[0005]進(jìn)一步的，所述補(bǔ)水環(huán)與旋流裝置之間設(shè)有環(huán)形引流罩，所述環(huán)形引流罩呈上小下大的錐狀。
[0006]進(jìn)一步的，所述旋流裝置包括多片沿圓周均布的頁(yè)片，所述頁(yè)片斜向設(shè)置。
[0007]進(jìn)一步的，所述排料管上方設(shè)有環(huán)狀的沖洗管。
[0008]進(jìn)一步的，所述筒體下部具有內(nèi)縮環(huán)形擋板，內(nèi)縮環(huán)形擋板外壁與上節(jié)除塵單元底部筒體內(nèi)壁之間形成收集槽，所述排料管與收集槽聯(lián)通。
[0009]進(jìn)一步的，所述排料管向外側(cè)彎曲。
[0010]進(jìn)一步的，所述補(bǔ)水環(huán)位于內(nèi)縮環(huán)形擋板內(nèi)且補(bǔ)水環(huán)上方設(shè)有阻液環(huán)。
[0011 ]進(jìn)一步的，所述筒體頂部設(shè)有縮口部，所述環(huán)形弓I流罩位于縮口部?jī)?nèi)側(cè)。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果:本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)置于煙囪內(nèi)能夠?qū)煔庵写罅恳旱巍⒎蹓m顆粒高速運(yùn)動(dòng)相互撞擊、凝聚擴(kuò)大，通過(guò)旋流裝置離心分離，液滴和粉塵被拋向內(nèi)壁，利用補(bǔ)水環(huán)在內(nèi)壁的形成水膜對(duì)液滴和粉塵實(shí)現(xiàn)捕捉，液滴、粉塵通過(guò)重力作用沿內(nèi)壁流到收集槽后收集并排出。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)不意圖。
[0014]圖2為本實(shí)用新型引流罩結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖3為本實(shí)用新型收集槽結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖4為本實(shí)用新型旋流裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0018]如圖1?4所示，一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，包括立式筒體10，筒體10內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置20上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán)50，所述旋流裝置20周側(cè)設(shè)有排料管30。
[0019]所述筒體下部具有內(nèi)縮環(huán)形擋板110，內(nèi)縮環(huán)形擋板外壁與上節(jié)除塵單元底部筒體內(nèi)壁之間形成收集槽40，所述排料管30與收集槽40聯(lián)通。
[0020]所述旋流裝置20包括多片沿圓周均布的頁(yè)片210，旋流裝置20是為了將內(nèi)部的煙塵導(dǎo)向筒體10的周部，位于筒體10上部設(shè)置的補(bǔ)水環(huán)50，所述補(bǔ)水環(huán)50上設(shè)有噴水孔。補(bǔ)水環(huán)50的位置貼附于筒體10的內(nèi)壁，補(bǔ)水環(huán)50與進(jìn)水裝置聯(lián)通用于噴水，這樣補(bǔ)水環(huán)50向下方排水同時(shí)實(shí)現(xiàn)與旋流裝置20上排的煙塵相遇實(shí)現(xiàn)捕捉，液滴、粉塵通過(guò)重力作用沿內(nèi)壁流到收集槽40。
[0021]為了保證補(bǔ)水環(huán)50的水分能夠向筒體內(nèi)壁導(dǎo)流，旋流裝置20之間設(shè)有環(huán)形引流罩60，所述環(huán)形引流罩60呈上小下大的錐狀，且位于縮口部?jī)?nèi)側(cè)。這樣能保證將補(bǔ)水環(huán)排出的水導(dǎo)入筒體10的內(nèi)壁。
[0022]排料管30上方設(shè)有環(huán)狀的沖洗管310，所述排料管30向外側(cè)彎曲，這樣沖洗管310可方便地實(shí)現(xiàn)將收集槽40內(nèi)的混合物料經(jīng)排料管30排出。
[0023]為了避免煙塵直接通向大氣，所述筒體10頂部設(shè)有縮口部，所述補(bǔ)水環(huán)位于縮口部?jī)?nèi)且補(bǔ)水環(huán)上方設(shè)有阻液環(huán)510。
[0024]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實(shí)用新型的涵蓋范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，包括立式筒體，所述筒體內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán)，所述補(bǔ)水環(huán)上設(shè)有噴水孔，每節(jié)除塵單元底部的旋流裝置周側(cè)設(shè)有排料管。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，所述補(bǔ)水環(huán)與旋流裝置之間設(shè)有環(huán)形引流罩，所述環(huán)形引流罩呈上小下大的錐狀。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，所述旋流裝置包括中心圓盤，圓盤底部設(shè)置有導(dǎo)流錐，圓盤和筒體之間布置有沿圓周均布的導(dǎo)流頁(yè)片，所述導(dǎo)流頁(yè)片斜向設(shè)置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，所述排料管上方設(shè)有環(huán)狀的沖洗管。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，所述筒體下部具有內(nèi)縮環(huán)形擋板，內(nèi)縮環(huán)形擋板外壁與上節(jié)除塵單元底部筒體內(nèi)壁之間形成收集槽，所述排料管與收集槽聯(lián)通。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，所述排料管向外側(cè)彎曲。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，所述補(bǔ)水環(huán)位于內(nèi)縮環(huán)形擋板內(nèi)且補(bǔ)水環(huán)上方設(shè)有阻液環(huán)。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，其特征在于，所述筒體頂部設(shè)有縮口部，所述環(huán)形引流罩位于縮口部?jī)?nèi)側(cè)。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種濕法脫硫后除塵除霧裝置，包括立式筒體，所述筒體內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán)，所述補(bǔ)水環(huán)上設(shè)有噴水孔，每節(jié)除塵單元底部的旋流裝置周側(cè)設(shè)有排料管。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)置于煙囪內(nèi)能夠?qū)煔庵写罅恳旱?、粉塵顆粒高速運(yùn)動(dòng)相互撞擊、凝聚擴(kuò)大，通過(guò)旋流裝置離心分離，液滴和粉塵被拋向內(nèi)壁，利用補(bǔ)水環(huán)在內(nèi)壁的形成水膜對(duì)液滴和粉塵實(shí)現(xiàn)捕捉，液滴、粉塵通過(guò)重力作用沿內(nèi)壁流到收集槽后收集并排出。
【IPC分類】B01D50/00
【公開號(hào)】CN205252785
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520752693
【發(fā)明人】吳金泉, 曹友洪, 李顯華, 賴英坤
【申請(qǐng)人】福建鑫澤環(huán)保設(shè)備工程有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2015年9月28日