雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種振動(dòng)磨，特別涉及一種雙頻激勵(lì)雙質(zhì)體振動(dòng)磨。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的振動(dòng)磨一般由激振電機(jī)、筒體、彈簧等組成，激振電機(jī)在同一時(shí)刻為單一頻率激振，即使是多激振電機(jī)振動(dòng)磨也是設(shè)計(jì)成同步振動(dòng)的。振動(dòng)磨的超微粉磨技術(shù)方法一般有兩個(gè):一是大振幅，低振強(qiáng)；二是小振幅，高振強(qiáng)。大振幅有利于研磨作用的發(fā)揮，能夠讓比表面積大的小顆粒獲得較多的能量，通過(guò)反復(fù)的疲勞作用不斷加劇粉體顆粒內(nèi)部的缺陷，從而進(jìn)一步細(xì)化粉體顆粒，但所獲得的粉體顆粒分布較分散；而高振強(qiáng)則主要利用沖擊作用，沖擊作用具有偶然性，大顆粒更容易受到?jīng)_擊，在粉體顆粒被擊碎后能夠在新顆粒內(nèi)部生成新的缺陷。但單一頻率激振在同一時(shí)刻只能提供一種振動(dòng)效果。
[0003]因此，有必要開(kāi)發(fā)一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且能同時(shí)輸出兩種振動(dòng)效果的雙頻激勵(lì)雙質(zhì)體振動(dòng)磨。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、工藝簡(jiǎn)單且能同時(shí)輸出兩種振動(dòng)效果的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨包括主振體、彈簧和底座，所述主振體由激振電機(jī)、磨筒、支座構(gòu)成，所述激振電機(jī)包括近共振激振電機(jī)和高頻激振電機(jī)，所述磨筒設(shè)于所述近共振激振電機(jī)和所述高頻激振電機(jī)之間，所述近共振激振電機(jī)、所述磨筒和所述高頻激振電機(jī)在水平方向上依次設(shè)置且均安裝在所述支座上；所述支座通過(guò)所述彈簧與所述底座相連接，且所述支座、彈簧和所述底座在垂直方向上依次設(shè)置。
[0006]在上述技術(shù)方案中，該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨通過(guò)由兩臺(tái)不同激振頻率的激振電機(jī)組成且兩臺(tái)激振電機(jī)連接在磨筒的兩端，其中近共振激振電機(jī)能產(chǎn)生大振幅低振強(qiáng)，而高頻激振電機(jī)能產(chǎn)生小振幅高振強(qiáng)，這兩種激振電機(jī)同時(shí)使用可以是振動(dòng)磨同時(shí)產(chǎn)生大振強(qiáng)和大振幅；大振幅有利于研磨作用的發(fā)揮，能夠讓比表面積大的小顆粒獲得較多的能量，通過(guò)反復(fù)的疲勞作用不斷加劇粉體顆粒內(nèi)部的缺陷，從而進(jìn)一步細(xì)化粉體顆粒，但所獲得的粉體顆粒分布較分散；而高振強(qiáng)則主要利用沖擊作用，沖擊作用具有偶然性，大顆粒更容易受到?jīng)_擊，在粉體顆粒被擊碎后能夠在新顆粒內(nèi)部生成新的缺陷；該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨在大振幅大振強(qiáng)作用下可以獲得顆粒分布較集中的且粒度較細(xì)的超微粉體顆粒。
[0007]進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述高頻激振電機(jī)的激振頻率是所述近共振激振電機(jī)的激振頻率的十倍左右。這樣不同激振頻率的激振電機(jī)可以同時(shí)產(chǎn)生大振強(qiáng)和大振幅，從而有利于獲得顆粒分布較集中的且粒度較細(xì)的超微粉體顆粒。
[0008]進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述磨筒包括筒體和筒蓋，所述筒體包括外筒和內(nèi)筒，所述內(nèi)筒套設(shè)在所述外筒內(nèi)，所述筒蓋與所述外筒的頂端的一側(cè)通過(guò)鉸扣鉸接。這樣的設(shè)置可以更好地方便取放磨筒內(nèi)的粉體。
[0009]進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述近共振激振電機(jī)的激振頻率與振動(dòng)磨系統(tǒng)的豎直方向的固有頻率接近。在工作過(guò)程中，近共振激振電機(jī)的激振頻率會(huì)和雙頻激勵(lì)雙質(zhì)體振動(dòng)磨的系統(tǒng)的豎直方向的固有頻率相差不多，差值為土 5r/min。
[0010]作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，所述主振體的質(zhì)量為180~210Kg。
[0011 ] 作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，所述彈簧的橫向剛度與軸向剛度均為160~165KN/m。
[0012]作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，所述近共振激振電機(jī)與所述高頻激振電機(jī)的偏塊質(zhì)量與偏心距的乘積均為0.2-0.3kgm。
[0013]作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨穩(wěn)定工作時(shí)，所述近共振激振電機(jī)的激振頻率為290~300r/min ;所述高頻激振電機(jī)的激振頻率為2900~3000r/min ;該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的豎直方向的振動(dòng)位移為10_，振強(qiáng)至少為15。
[0014]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比的有益效果是:本實(shí)用新型提供的一種雙頻激勵(lì)雙質(zhì)體振動(dòng)磨，其中激振電機(jī)由兩臺(tái)不同激振頻率的電機(jī)組成；近共振激振電機(jī)能產(chǎn)生大振幅低振強(qiáng)，而高頻激振電機(jī)能產(chǎn)生小振幅高振強(qiáng)，這兩種激振電機(jī)同時(shí)使用可以是振動(dòng)磨同時(shí)產(chǎn)生大振強(qiáng)和大振幅；大振幅有利于研磨作用的發(fā)揮，能夠讓比表面積大的小顆粒獲得較多的能量，通過(guò)反復(fù)的疲勞作用不斷加劇粉體顆粒內(nèi)部的缺陷，從而進(jìn)一步細(xì)化粉體顆粒，但所獲得的粉體顆粒分布較分散；而高振強(qiáng)則主要利用沖擊作用，沖擊作用具有偶然性，大顆粒更容易受到?jīng)_擊，在粉體顆粒被擊碎后能夠在新顆粒內(nèi)部生成新的缺陷；振動(dòng)磨在大振幅大振強(qiáng)作用下可以獲得顆粒分布較集中的且粒度較細(xì)的超微粉體顆粒。
【附圖說(shuō)明】
[0015]下面結(jié)合附圖和本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明:
[0016]圖1是本實(shí)用新型雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2是本實(shí)用新型雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的磨筒質(zhì)心處的振動(dòng)位移隨時(shí)間變化的曲線；
[0018]圖3是本實(shí)用新型雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的磨筒質(zhì)心處的振動(dòng)加速度隨時(shí)間變化的曲線；
[0019]圖4是本實(shí)用新型雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的磨筒質(zhì)心的振動(dòng)軌跡；
[0020]其中:其中:1_近共振激振電機(jī)；2-磨筒；3_高頻激振電機(jī)；4-支座；5-彈簧；6-底座。
【具體實(shí)施方式】
[0021]實(shí)施例一:如圖1所示，該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨包括主振體、彈簧5和底座6，主振體由激振電機(jī)、磨筒2、支座4構(gòu)成，激振電機(jī)包括近共振激振電機(jī)I和高頻激振電機(jī)3，磨筒設(shè)于近共振激振電機(jī)I和高頻激振電機(jī)3之間，近共振激振電機(jī)1、磨筒2和高頻激振電機(jī)3在水平方向上依次設(shè)置且均安裝在支座4上；支座4通過(guò)彈簧5與底座6相連接，且支座
4、彈簧5和底座6在垂直方向上依次設(shè)置；高頻激振電機(jī)3的激振頻率是近共振激振電機(jī)I的激振頻率的十倍左右；磨筒2包括筒體和筒蓋，筒體包括外筒和內(nèi)筒，內(nèi)筒套設(shè)在外筒內(nèi)，筒蓋與外筒的頂端的一側(cè)通過(guò)鉸扣鉸接；近共振激振電機(jī)I的激振頻率與振動(dòng)磨系統(tǒng)的豎直方向的固有頻率接近；主振體的質(zhì)量為180~210Kg ;彈簧5的橫向剛度與軸向剛度均為163KN/m ;近共振激振電機(jī)I與高頻激振電機(jī)3的偏塊質(zhì)量與偏心距的乘積均為0.3kgm ；該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨穩(wěn)定工作時(shí)，所述近共振激振電機(jī)I的激振頻率為300r/min ;高頻激振電機(jī)3的激振頻率為3000r/min ;忽略振動(dòng)過(guò)程中主振體質(zhì)量的變化，圖2是該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨穩(wěn)定工作后，豎直方向的振動(dòng)位移隨時(shí)間的變化曲線，反映磨筒2具有大振幅，其振幅能達(dá)到10_ ;圖3是該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨穩(wěn)定工作后的豎直方向的振動(dòng)加速度隨時(shí)間的變化曲線，反映磨筒2具有大振強(qiáng)，其振強(qiáng)至少為15 ;圖4是該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的磨筒2的質(zhì)心點(diǎn)的振動(dòng)軌跡，其中大圈是大振幅的體現(xiàn)，而每個(gè)小圈則主要是高振強(qiáng)在起作用。
[0022]以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型；凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，包括主振體、彈簧和底座，所述主振體由激振電機(jī)、磨筒、支座構(gòu)成，所述激振電機(jī)包括近共振激振電機(jī)和高頻激振電機(jī)，所述磨筒設(shè)于所述近共振激振電機(jī)和所述高頻激振電機(jī)之間，所述近共振激振電機(jī)、所述磨筒和所述高頻激振電機(jī)在水平方向上依次設(shè)置且均安裝在所述支座上；所述支座通過(guò)所述彈簧與所述底座相連接，且所述支座、彈簧和所述底座在垂直方向上依次設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，所述高頻激振電機(jī)的激振頻率是所述近共振激振電機(jī)激振頻率的十倍左右。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，所述磨筒包括筒體和筒蓋，所述筒體包括外筒和內(nèi)筒，所述內(nèi)筒套設(shè)在所述外筒內(nèi)，所述筒蓋與所述外筒的頂端的一側(cè)通過(guò)鉸扣鉸接。4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，所述近共振激振電機(jī)的激振頻率與振動(dòng)磨系統(tǒng)的豎直方向的固有頻率接近。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，所述主振體的質(zhì)量為180~210Kgo6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，所述彈簧的橫向剛度與軸向剛度均為160~165KN/m。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，所述近共振激振電機(jī)與所述高頻激振電機(jī)的偏塊質(zhì)量與偏心距的乘積均為0.2-0.3kgm。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，其特征在于，該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨穩(wěn)定工作時(shí)，所述近共振激振電機(jī)的激振頻率為290~300r/min ;所述高頻激振電機(jī)的激振頻率為2900~3000r/min ;該雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨的豎直方向的振動(dòng)位移為10mm，振強(qiáng)至少為15。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種雙頻激勵(lì)振動(dòng)磨，包括主振體、彈簧和底座，所述主振體由激振電機(jī)、磨筒、支座構(gòu)成，所述激振電機(jī)包括近共振激振電機(jī)和高頻激振電機(jī)，所述磨筒設(shè)于所述近共振激振電機(jī)和所述高頻激振電機(jī)之間，所述近共振激振電機(jī)、所述磨筒和所述高頻激振電機(jī)在水平方向上依次設(shè)置且均安裝在所述支座上；所述支座通過(guò)所述彈簧與所述底座相連接，且所述支座、彈簧和所述底座在垂直方向上依次設(shè)置。通過(guò)由兩臺(tái)不同激振頻率的激振電機(jī)組成且兩臺(tái)激振電機(jī)連接在磨筒的兩端，其中近共振激振電機(jī)能產(chǎn)生大振幅低振強(qiáng)，而高頻激振電機(jī)能產(chǎn)生小振幅高振強(qiáng)，從而獲得顆粒分布較集中的且粒度較細(xì)的超微粉體顆粒。
【IPC分類】B02C19/16
【公開(kāi)號(hào)】CN204866106
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520581303
【發(fā)明人】楊小蘭, 陳鵬, 劉極峰, 王治金, 崔立達(dá), 張娜
【申請(qǐng)人】南京工程學(xué)院
【公開(kāi)日】2015年12月16日
【申請(qǐng)日】2015年8月5日