一種離子除臭裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種離子除臭裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 由于空氣質(zhì)量對(duì)社會(huì)生產(chǎn)和社會(huì)生活的諸多領(lǐng)域產(chǎn)生著重要的影響，大氣環(huán)境的 質(zhì)量與保護(hù)已越來(lái)越受到人們的關(guān)注與重視。在制藥過(guò)程中揮發(fā)的有毒有害氣體對(duì)空氣的 污染、對(duì)人的健康的危害日趨為人們所認(rèn)識(shí)，除臭技術(shù)與系統(tǒng)的開(kāi)發(fā)運(yùn)用及工程項(xiàng)目的實(shí) 施能有效地遏止污染擴(kuò)大與蔓延的趨勢(shì)，改善空氣的質(zhì)量。
[0003] 制藥過(guò)程中臭氣的主要成份為苯乙酸和丁酯等刺激性氣味，此外還有少量的有 機(jī)氣體如甲硫醇、甲胺、甲基硫等。由于惡臭氣體揮發(fā)性強(qiáng)，易擴(kuò)散，刺激性氣味大，可能對(duì) 人的呼吸系統(tǒng)、消化系統(tǒng)、內(nèi)分泌系統(tǒng)、神經(jīng)系統(tǒng)和精神產(chǎn)生不利影響，甚至高濃度的惡臭 氣體會(huì)導(dǎo)致急性中毒及死亡，因此對(duì)制藥廠產(chǎn)生的臭氣進(jìn)行處理具有巨大的社會(huì)意義。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004] 本實(shí)用新型的發(fā)明目的在于提供一種離子除臭裝置。
[0005] 本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案如下：
[0006] -種離子除臭裝置，包括：與臭氣相連接的進(jìn)風(fēng)口和與進(jìn)風(fēng)口相連接的防霧水 裝置（101)，且防霧水裝置的后方又設(shè)置有第一粉塵過(guò)濾裝置（102)和第二粉塵過(guò)濾裝置 (103)，且經(jīng)過(guò)過(guò)濾后的臭氣又通過(guò)管道進(jìn)入到離子處理器裝置內(nèi)，所述離子處理器裝置內(nèi) 設(shè)多個(gè)離子發(fā)生器（106)，且離子發(fā)生器連接有離子管（105)，通過(guò)多個(gè)離子管后的臭氣， 所述離子處理器裝置又連接出風(fēng)口，且出風(fēng)口連接到風(fēng)機(jī)（108 )，通過(guò)所述風(fēng)機(jī)將經(jīng)過(guò)離子 除臭后的臭氣抽出。
[0007] 進(jìn)一步地，優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是，所述離子處理器裝置內(nèi)設(shè)導(dǎo)流板（107)，通過(guò)所述導(dǎo)流 板改變所述臭氣在所述離子處理器裝置內(nèi)的流動(dòng)方向。
[0008] 本實(shí)用新型采取了上述方案以后，其通過(guò)離子發(fā)生器產(chǎn)生的離子進(jìn)行去臭，效果 非常好，相比較以往設(shè)備本設(shè)計(jì)增加了防霧水裝置，與氣體導(dǎo)流板。因離子管不能接觸水設(shè) 計(jì)過(guò)濾層與離子反應(yīng)室分開(kāi)進(jìn)而達(dá)到水霧與粉塵分開(kāi)處理的效果。
[0009] 本實(shí)用新型的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說(shuō)明書(shū)中闡述，并且，部分地從說(shuō)明書(shū) 中變得顯而易見(jiàn)，或者通過(guò)實(shí)施本實(shí)用新型而了解。本實(shí)用新型的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過(guò) 在所寫(xiě)的說(shuō)明書(shū)、權(quán)利要求書(shū)、以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。
【附圖說(shuō)明】
[0010] 下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述，以使得本實(shí)用新型的上述優(yōu)點(diǎn)更加 明確。
[0011] 圖1是本實(shí)用新型離子除臭裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012] 下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
[0013] 苯乙酸、丁酯、苯、甲苯、硫化氫、烴類(lèi)、胺類(lèi)等氣體為本實(shí)用新型離子除臭裝置所 要控制的主要污染物。
[0014] 其中，氣體排放標(biāo)準(zhǔn)如下：
[0015] 1、滿(mǎn)足《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》GB14554-93中廠界（防護(hù)帶邊緣）廢氣排放二級(jí) 標(biāo)準(zhǔn)(新改擴(kuò)建)。
[0016] 表1臭氣處理后排放指標(biāo)
[0017]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種離子除臭裝置，其特征在于，包括：與臭氣相連接的進(jìn)風(fēng)口和與進(jìn)風(fēng)口相連接 的防霧水裝置（101)，且防霧水裝置的后方又設(shè)置有第一粉塵過(guò)濾裝置（102)和第二粉塵 過(guò)濾裝置（103 )，且經(jīng)過(guò)過(guò)濾后的臭氣又通過(guò)管道進(jìn)入到離子處理器裝置內(nèi)，所述離子處理 器裝置內(nèi)設(shè)多個(gè)離子發(fā)生器（106)，且離子發(fā)生器連接有離子管（105)，通過(guò)多個(gè)離子管后 的臭氣，所述離子處理器裝置又連接出風(fēng)口，且出風(fēng)口連接到風(fēng)機(jī)（108 )，通過(guò)所述風(fēng)機(jī)將 經(jīng)過(guò)離子除臭后的臭氣抽出。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子除臭裝置，其特征在于，所述離子處理器裝置內(nèi)設(shè)導(dǎo)流 板（107)，通過(guò)所述導(dǎo)流板改變所述臭氣在所述離子處理器裝置內(nèi)的流動(dòng)方向。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種離子除臭裝置，包括：與臭氣相連接的進(jìn)風(fēng)口和與進(jìn)風(fēng)口相連接的防霧水裝置（101），且防霧水裝置的后方又設(shè)置有第一粉塵過(guò)濾裝置（102）和第二粉塵過(guò)濾裝置（103），且經(jīng)過(guò)過(guò)濾后的臭氣又通過(guò)管道進(jìn)入到離子處理器裝置內(nèi)，所述離子處理器裝置內(nèi)設(shè)多個(gè)離子發(fā)生器（106），且離子發(fā)生器連接有離子管（105），通過(guò)多個(gè)離子管后的臭氣，所述離子處理器裝置又連接出風(fēng)口，且出風(fēng)口連接到風(fēng)機(jī)（108），通過(guò)所述風(fēng)機(jī)將經(jīng)過(guò)離子除臭后的臭氣抽出。相比較以往設(shè)備本設(shè)計(jì)增加了防霧水裝置，與氣體導(dǎo)流板。因離子管不能接觸水設(shè)計(jì)過(guò)濾層與離子反應(yīng)室分開(kāi)進(jìn)而達(dá)到水霧與粉塵分開(kāi)處理的效果。
【IPC分類(lèi)】B01D50-00, B01D53-32
【公開(kāi)號(hào)】CN204447700
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520117122
【發(fā)明人】崔翔
【申請(qǐng)人】甘肅眾潤(rùn)環(huán)保有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月8日
【申請(qǐng)日】2015年2月27日