隔溫研缽的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明所述的隔溫研缽，涉及一種實(shí)驗(yàn)室用具。
【背景技術(shù)】
[0002]目前現(xiàn)有的研缽內(nèi)壁都為光滑的，不易于研磨藥品，而且在使用時(shí)需要加入液氮的時(shí)候，不具有隔溫作用，容易凍壞手部。針對上述現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題，研究設(shè)計(jì)一種新型的隔溫研缽，從而克服現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題是十分必要的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題，本發(fā)明的目的是研究設(shè)計(jì)一種新型的隔溫研缽。用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的:1、研磨速度慢、不徹底；2、加入液氮不隔溫，易傷手等問題。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)解決方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]本發(fā)明所述的隔溫研缽；其特征在于在研缽的內(nèi)壁底部加工有磨砂網(wǎng)紋；在研缽的外側(cè)裝有把手；在研缽的外壁上涂有隔溫層。
[0006]本發(fā)明所述的磨砂網(wǎng)紋為橫豎交錯網(wǎng)紋，每條網(wǎng)紋的深度及寬度都小于研磨后的成品外徑。
[0007]本發(fā)明所述的隔溫層微納米材料制成。
[0008]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是顯而易見的，主要表現(xiàn)在:
[0009]1、本發(fā)明由于在內(nèi)壁底部加工了磨砂網(wǎng)紋，使得在研磨藥品時(shí)能夠增加研缽內(nèi)的摩擦力，是研磨更徹底；
[0010]2、本發(fā)明在研缽?fù)庋b了把手，是移動研缽更輕松方便；
[0011]3、本發(fā)明在研缽?fù)獗谏贤垦b有隔溫層，在往研缽內(nèi)導(dǎo)入液氮時(shí)，防止將手部凍傷。
[0012]本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)新穎、加工簡便、使用方便、研磨徹底、安全可靠等優(yōu)點(diǎn)，其大批量投入市場必將產(chǎn)生積極的社會效益和顯著的經(jīng)濟(jì)效益。
【附圖說明】
[0013]本發(fā)明共有I幅附圖，其中:
[0014]附圖1本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]在圖中:1、研缽2、磨砂網(wǎng)紋3、把手4、隔溫層。
【具體實(shí)施方式】
[0016]本發(fā)明的具體實(shí)施例如附圖所示，其特征在于在研缽I的內(nèi)壁底部加工有磨砂網(wǎng)紋2 ;在研缽I的外側(cè)裝有把手3 ;在研缽I的外壁上涂有隔溫層4。
[0017]磨砂網(wǎng)紋2為橫豎交錯網(wǎng)紋，每條網(wǎng)紋的深度及寬度都小于研磨后的成品外徑。
[0018]隔溫層4微納米材料制成。
[0019]以上所述，僅為本發(fā)明的較佳的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，所有熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明公開的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其本發(fā)明的構(gòu)思加以等同替換或改變均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種隔溫研缽；其特征在于在研缽(I)的內(nèi)壁底部加工有磨砂網(wǎng)紋(2);在研缽(I)的外側(cè)裝有把手(3);在研缽(I)的外壁上涂有隔溫層(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔溫研缽，其特征在于所述的磨砂網(wǎng)紋(2)為橫豎交錯網(wǎng)紋，每條網(wǎng)紋的深度及寬度都小于研磨后的成品外徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔溫研缽，其特征在于所述的隔溫層(4)微納米材料制成。
【專利摘要】本發(fā)明所述的隔溫研缽，涉及一種實(shí)驗(yàn)室用具。其特征在于在研缽的內(nèi)壁底部加工有磨砂網(wǎng)紋；在研缽的外側(cè)裝有把手；在研缽的外壁上涂有隔溫層。磨砂網(wǎng)紋為橫豎交錯網(wǎng)紋，每條網(wǎng)紋的深度及寬度都小于研磨后的成品外徑。隔溫層微納米材料制成。本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)新穎、加工簡便、使用方便、研磨徹底、安全可靠等特點(diǎn)，故屬于一種集經(jīng)濟(jì)性與實(shí)用性為一體的新型隔溫研缽。
【IPC分類】B02C19-08
【公開號】CN104668068
【申請?zhí)枴緾N201310639275
【發(fā)明人】張星, 石學(xué)華
【申請人】大連民族學(xué)院
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2013年11月29日