本技術(shù)屬于等離子清洗機(jī)，具體涉及一種旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍。

背景技術(shù)：

1、等離子清洗機(jī)(plasma?cleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

2、為了能在處理工件表面時(shí)具有更大的處理面積，公開號為cn219356589u的實(shí)用新型專利將噴頭設(shè)計(jì)成可旋轉(zhuǎn)式的結(jié)構(gòu)，并通過在噴頭內(nèi)設(shè)置的特定進(jìn)氣通道和偏心通道，但兩個(gè)通道連接處彎曲的內(nèi)壁會對氣流形成一定的阻力，造成高壓氣流在噴出時(shí)氣壓降低，導(dǎo)致離子氣體的噴射距離縮短，影響等離子清洗噴頭對工件表面的處理效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為克服上述缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，偏心通道的的中心線為直線，沒有彎折處，解決了技術(shù)背景中兩個(gè)通道連接處彎曲的內(nèi)壁會對氣流形成一定阻力的技術(shù)問題。

2、為了達(dá)到以上目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：一種旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，包括驅(qū)動組件和噴嘴，所述驅(qū)動組件和所述噴嘴連接，并且所述驅(qū)動組件能驅(qū)動所述噴嘴旋轉(zhuǎn)，所述噴嘴包括靠近所述驅(qū)動組件的c端，和遠(yuǎn)離所述驅(qū)動組件的d端，還包括偏心通道，所述偏心通道一端設(shè)置在c端，另一端向d端延伸，所述偏心通道的中心線為直線，所述偏心通道的中心線和所述噴嘴的中心線不重合。

3、進(jìn)一步地，所述偏心通道的中心線和所述噴嘴的中心線形成噴嘴夾角，所述噴嘴夾角的范圍為15～75°。

4、進(jìn)一步地，所述噴嘴還包括氣流噴孔，所述氣流噴孔位于所述d端并和所述偏心通道連通，所述氣流噴孔的中心線和所述偏心通道的中心線重合。

5、進(jìn)一步地，還包括空氣進(jìn)入管，所述空氣進(jìn)入管和所述驅(qū)動組件連接，所述空氣進(jìn)入管為彎管，其彎折角度不大于120°，優(yōu)選為90°。

6、進(jìn)一步地，還包括主軸，所述主軸內(nèi)部設(shè)置有主軸空腔，所述主軸內(nèi)設(shè)置有軸向的主軸空腔，所述主軸空腔和空氣進(jìn)入管連通，在所述主軸空腔靠近所述噴嘴的一端，設(shè)置有電極固定座，所述電極固定座上設(shè)置有通孔，所述通孔和所述主軸不是平行設(shè)置。

7、進(jìn)一步地，所述電極固定座包括電極固定板和電極連接柱，電極連接柱一端和所述電極固定板連接，另一端和電極連接，遠(yuǎn)離所述電極連接柱的所述電極固定板的側(cè)面為第一側(cè)面，靠近所述電極連接柱的所述電極固定板的側(cè)面為第二側(cè)面，第一側(cè)面和第二側(cè)面相對平行設(shè)置，在第一側(cè)面到第二側(cè)面之間設(shè)置有所述通孔，所述通孔和電極固定板的第一側(cè)面不是垂直設(shè)置，所述通孔和所述電極固定板的第一側(cè)面形成夾角，夾角的范圍為15～75°，優(yōu)選為45°。

8、進(jìn)一步地，所述通孔設(shè)置有多個(gè)，多個(gè)所述通孔以電極固定板的圓心為中心環(huán)形陣列排布。

9、進(jìn)一步地，所述通孔個(gè)數(shù)為4～6個(gè)。

10、進(jìn)一步地，在所述主軸空腔的內(nèi)壁上設(shè)置有環(huán)形凹槽，所述電極固定板卡接的環(huán)形凹槽內(nèi)。

11、進(jìn)一步地，所述驅(qū)動組件和所述噴頭通過護(hù)套連接，所述護(hù)套的長度大于110mm。

12、本實(shí)用新型的有益效果是：本申請中只設(shè)置偏心通道，并且偏心通道的中心線為直線，在偏心通道內(nèi)不存在彎折的內(nèi)部，從而解決了傳統(tǒng)通道中彎折內(nèi)壁會對氣流形成一定的阻力，造成高壓氣流在噴出時(shí)氣壓降低，導(dǎo)致離子氣體的噴射距離縮短，影響等離子清洗噴頭對工件表面的處理效果的技術(shù)問題。

技術(shù)特征：

1.一種旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，包括驅(qū)動組件（2）和噴嘴（7），所述驅(qū)動組件（2）和所述噴嘴（7）連接，并且所述驅(qū)動組件（2）能驅(qū)動所述噴嘴（7）旋轉(zhuǎn)，所述噴嘴（7）包括靠近所述驅(qū)動組件（2）的c端（71），和遠(yuǎn)離所述驅(qū)動組件（2）的d端（72），還包括偏心通道（73），所述偏心通道（73）一端設(shè)置在c端（71），另一端向d端（72）延伸，偏心通道的中心線（731）為直線，所述偏心通道的中心線（731）和噴嘴的中心線（77）不重合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，所述偏心通道的中心線（731）和所述噴嘴的中心線（77）形成噴嘴夾角（78），所述噴嘴夾角（78）的范圍為15~75°。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，所述噴嘴（7）還包括氣流噴孔（74），所述氣流噴孔（74）位于所述d端（72）并和所述偏心通道（73）連通，所述氣流噴孔（74）的中心線和所述偏心通道的中心線（731）重合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，還包括空氣進(jìn)入管（1），所述空氣進(jìn)入管（1）和所述驅(qū)動組件（2）連接，所述空氣進(jìn)入管（1）為彎管，其彎折角度不大于120°。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，還包括主軸（3），所述主軸（3）內(nèi)部設(shè)置有主軸空腔（34），所述主軸空腔（34）和空氣進(jìn)入管（1）連通，在所述主軸空腔（34）靠近所述噴嘴（7）的一端，設(shè)置有電極固定座（4），所述電極固定座（4）上設(shè)置有通孔（413），所述通孔（413）和所述主軸（3）不是平行設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，所述電極固定座（4）包括電極固定板（41）和電極連接柱（42），所述電極連接柱（42）一端和所述電極固定板（41）連接，另一端和電極（5）連接，遠(yuǎn)離所述電極連接柱（42）的所述電極固定板（41）的側(cè)面為第一側(cè)面（411），靠近所述電極連接柱（42）的所述電極固定板（41）的側(cè)面為第二側(cè)面（412），第一側(cè)面（411）和第二側(cè)面（412）平行設(shè)置，在第一側(cè)面（411）到第二側(cè)面（412）之間設(shè)置有所述通孔（413），所述通孔（413）和所述電極固定板（41）的第一側(cè)面（411）形成夾角（414），夾角（414）的范圍為15~75°。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，所述通孔（413）設(shè)置有多個(gè)，多個(gè)所述通孔（413）以電極固定板（41）的圓心為中心環(huán)形陣列排布。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，所述通孔（413）個(gè)數(shù)為4~6個(gè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，在所述主軸空腔（34）的內(nèi)壁上設(shè)置有環(huán)形凹槽，所述電極固定板（41）卡接在所述環(huán)形凹槽內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，其特征在于，所述驅(qū)動組件（2）和噴頭通過護(hù)套（6）連接，所述護(hù)套（6）的長度大于110mm。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴槍，包括驅(qū)動組件和噴嘴，所述驅(qū)動組件和所述噴嘴連接，并且所述驅(qū)動組件能驅(qū)動所述噴嘴旋轉(zhuǎn)，所述噴嘴包括靠近所述驅(qū)動組件的C端，和遠(yuǎn)離所述驅(qū)動組件的D端，還包括偏心通道，所述偏心通道一端設(shè)置在C端，另一端向D端延伸，所述偏心通道的中心線為直線，所述偏心通道的中心線和所述噴嘴的中心線不重合。本申請中只設(shè)置偏心通道，并且偏心通道的中心線為直線，在偏心通道內(nèi)不存在彎折的內(nèi)部，從而解決了傳統(tǒng)通道中彎折內(nèi)壁會對氣流形成一定的阻力，造成高壓氣流在噴出時(shí)氣壓降低，導(dǎo)致離子氣體的噴射距離縮短，影響等離子清洗噴頭對工件表面的處理效果的技術(shù)問題。

技術(shù)研發(fā)人員：徐克佳,徐志強(qiáng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州源永動電子有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240417
技術(shù)公布日：2024/12/17