本技術(shù)屬于氧化塔，尤其涉及一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔。

背景技術(shù)：

1、利用微納米泡沫特殊的理化特性，在泡沫破碎瞬間產(chǎn)生高溫高壓及光電效應(yīng)產(chǎn)生高氧化性的氫氧自由基，用以氧化有機(jī)廢氣當(dāng)中的有機(jī)分子使其分解降解甚至礦化為二氧化碳和水，由于氧化破壞作用粘性顆粒物性改變失去粘性，這是氧化裝置的另一用途，可以作為涂裝類含有粘性顆粒物的廢氣的主要前處理工藝。該技術(shù)是在傳統(tǒng)的水洗裝置內(nèi)增加均流結(jié)構(gòu)改善氣流分布方式，在最有利于納米泡沫分布的空間結(jié)構(gòu)下發(fā)揮氧化作用，同時(shí)提供足夠的氧化作用時(shí)間。氣流和納米泡沫呈逆向接觸，破滅后的液滴在重力作用下放回氧化裝置底部循環(huán)利用。

2、然而現(xiàn)有技術(shù)存在一些問題：現(xiàn)有裝置的氧化能力還未達(dá)到處理濃度超過100毫克以上的廢氣的能力，受到泡沫密度極限的限制設(shè)備體積較大成本還是缺乏競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，因在液、氣相工作空間，因此材質(zhì)為不銹鋼，只能單管單控，材料成本高，能力小，因此我們提出一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，通過循環(huán)組件可以將氧化微納米泡沫水霧循環(huán)抽噴灑組件內(nèi)，使噴灑組件可以對(duì)均流組件內(nèi)的氣體進(jìn)行除臭，且通過噴灑組件設(shè)置若干組，使得若干組噴灑組件可以控制噴灑效率的效果。

2、本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，包括：

3、底板，所述底板的上端固定安裝有氧化塔本體，所述氧化塔本體的一側(cè)固定安裝有進(jìn)風(fēng)口，所述氧化塔本體的上端開設(shè)有出風(fēng)口；

4、均流組件，所述均流組件設(shè)置在氧化塔本體的內(nèi)部，所述均流組件表面的兩端均設(shè)置有拆卸組件；

5、循環(huán)組件，所述循環(huán)組件設(shè)置在底板上端的一側(cè)，所述循環(huán)組件的一端與氧化塔本體相連接；

6、噴灑組件，所述噴灑組件設(shè)置在氧化塔本體的外部，所述噴灑組件的一端與循環(huán)組件相連接，所述噴灑組件的另一端穿過氧化塔本體設(shè)置在均流組件內(nèi)。

7、可選地，所述均流組件包括限位板和均流管，所述限位板固定安裝在氧化塔本體的內(nèi)部，所述均流管設(shè)置有若干組，若干組所述均流管均固定安裝在限位板的下端，所述限位板的表面上開設(shè)有若干組通孔，若干組所述通孔與均流管相連通。

8、可選地，所述拆卸組件包括固定器和卡接板，所述固定器固定安裝在限位板上端的一側(cè)，所述卡接板滑動(dòng)安裝在固定器的內(nèi)部，所述氧化塔本體內(nèi)部的兩側(cè)均開設(shè)有卡接槽，所述卡接板的一端設(shè)置在卡接槽內(nèi)。

9、可選地，所述固定器內(nèi)部的一端固定安裝有兩組壓力彈簧，兩組所述壓力彈簧的一端與卡接板固定連接，所述卡接板的兩端均形成有凸塊。

10、可選地，所述循環(huán)組件包括儲(chǔ)水箱和氣溶泵，所述儲(chǔ)水箱固定安裝在氧化塔本體的一端，所述氣溶泵設(shè)置有若干組，若干組所述氣溶泵均固定安裝在儲(chǔ)水箱的一端。

11、可選地，所述噴灑組件包括第一管道和第二管道，所述第一管道設(shè)置有若干組，若干組所述第一管道均固定安裝在氣溶泵的上端，所述第二管道設(shè)置有三組，三組所述第二管道均與第一管道固定連接。

12、可選地，所述限位板的通孔內(nèi)均設(shè)置有噴灑頭，所述噴灑頭的上端固定安裝有第三管道，所述第三管道均與第二管道固定連接。

13、可選地，所述噴灑頭的兩端均固定安裝有支撐桿，所述支撐桿的一端均固定安裝在限位板通孔的內(nèi)壁上。

14、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

15、1、通過底板、氧化塔本體、進(jìn)風(fēng)口、出風(fēng)口、均流組件、拆卸組件、循環(huán)組件和噴灑組件的配合，使用時(shí)通過進(jìn)風(fēng)口可以將氣體輸送到氧化塔本體內(nèi)的底層，而氣體輸送到氧化塔本體內(nèi)的底層后會(huì)流入均流組件內(nèi)，再通過噴灑組件可以將循環(huán)組件內(nèi)的氧化微納米泡沫水霧抽出，使噴灑組件抽出后可以對(duì)均流組件進(jìn)行噴灑，使得均流組件內(nèi)的氣體可以得到脫粘除臭凈化，使得不適用輔助藥劑沒有化學(xué)物添加物，僅利用氧氣為氧化劑的效果。

16、2、通過噴灑組件設(shè)置若干組，而若干組噴灑組件均分布在均流組件的通孔內(nèi)，使得噴灑組件可以合理的氣流空間分布保證微納米氣泡在均勻氣流當(dāng)中均勻分布，且可以將原先的紊亂氣流分布限制在裝置底部，均流組件內(nèi)為均流的效果，并且噴灑組件可以單獨(dú)控制，將發(fā)生器內(nèi)置于單通道中，獨(dú)立處理，從而達(dá)到可以控制效率，并可進(jìn)行組合，增大設(shè)備能力。

17、3、通過均流組件上安裝拆卸組件，使得均流組件通過拆卸組件可以從氧化塔本體內(nèi)進(jìn)行拆卸，使得均流組件便于取出更換的效果。

18、通過以下參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本實(shí)用新型的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。

技術(shù)特征：

1.一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：所述均流組件(5)包括限位板(501)和均流管(502)，所述限位板(501)固定安裝在氧化塔本體(2)的內(nèi)部，所述均流管(502)設(shè)置有若干組，若干組所述均流管(502)均固定安裝在限位板(501)的下端，所述限位板(501)的表面上開設(shè)有若干組通孔，若干組所述通孔與均流管(502)相連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：所述拆卸組件(6)包括固定器(601)和卡接板(602)，所述固定器(601)固定安裝在限位板(501)上端的一側(cè)，所述卡接板(602)滑動(dòng)安裝在固定器(601)的內(nèi)部，所述氧化塔本體(2)內(nèi)部的兩側(cè)均開設(shè)有卡接槽，所述卡接板(602)的一端設(shè)置在卡接槽內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：所述固定器(601)內(nèi)部的一端固定安裝有兩組壓力彈簧(603)，兩組所述壓力彈簧(603)的一端與卡接板(602)固定連接，所述卡接板(602)的兩端均形成有凸塊(604)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：所述循環(huán)組件(7)包括儲(chǔ)水箱(701)和氣溶泵(702)，所述儲(chǔ)水箱(701)固定安裝在氧化塔本體(2)的一端，所述氣溶泵(702)設(shè)置有若干組，若干組所述氣溶泵(702)均固定安裝在儲(chǔ)水箱(701)的一端。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：所述噴灑組件(8)包括第一管道(801)和第二管道(802)，所述第一管道(801)設(shè)置有若干組，若干組所述第一管道(801)均固定安裝在氣溶泵(702)的上端，所述第二管道(802)設(shè)置有三組，三組所述第二管道(802)均與第一管道(801)固定連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：所述限位板(501)的通孔內(nèi)均設(shè)置有噴灑頭(803)，所述噴灑頭(803)的上端固定安裝有第三管道(804)，所述第三管道(804)均與第二管道(802)固定連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，其特征在于：所述噴灑頭(803)的兩端均固定安裝有支撐桿(805)，所述支撐桿(805)的一端均固定安裝在限位板(501)通孔的內(nèi)壁上。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種可以控制效率的多級(jí)發(fā)生器氧化塔，包括：底板，所述底板的上端固定安裝有氧化塔本體，所述氧化塔本體的一側(cè)固定安裝有進(jìn)風(fēng)口，所述氧化塔本體的上端開設(shè)有出風(fēng)口；均流組件，所述均流組件設(shè)置在氧化塔本體的內(nèi)部，所述均流組件表面的兩端均設(shè)置有拆卸組件。本技術(shù)具備過噴灑組件設(shè)置若干組，而若干組噴灑組件均分布在均流組件的通孔內(nèi)，使得噴灑組件可以合理的氣流空間分布保證微納米氣泡在均勻氣流當(dāng)中均勻分布，且可以將原先的紊亂氣流分布限制在裝置底部，均流組件內(nèi)為均流的效果，并且噴灑組件可以單獨(dú)控制，將發(fā)生器內(nèi)置于單通道中，獨(dú)立處理，從而達(dá)到可以控制效率的優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：馮正,曲遠(yuǎn)生,宋金寶,王衛(wèi)杰,姜璀玉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：煙臺(tái)云灃生態(tài)環(huán)境產(chǎn)業(yè)發(fā)展股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240223
技術(shù)公布日：2024/12/19