本發(fā)明涉及研磨設備，尤其涉及一種用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備。

背景技術(shù)：

1、納米活性碳酸鈣（nano?active?calcium?carbonate）是指經(jīng)過表面活性劑處理，顆粒大小在納米尺度范圍內(nèi)的碳酸鈣材料。其外觀通常為白色或淡黃色六方晶體粉末狀，無味、不溶于水和乙醇、能溶于酸并釋放出二氧化碳。

2、在納米活性碳酸鈣的生產(chǎn)過程中，濕磨設備扮演著至關(guān)重要的角色。濕磨設備是專門設計用于在濕潤環(huán)境下對物料進行超細研磨的設備，其工作原理主要基于研磨介質(zhì)與物料漿料之間的摩擦、撞擊和剪切作用。

3、物料漿料是通過在碳化鈣粉末中加入濕磨溶液而生成的，碳化鈣粉末中加入濕磨溶液的方式會影響粉碎效果，如果加入溶液過快，可能會導致顆粒之間的摩擦力減小，反而降低研磨效果，如果加入溶液過多，會使得物料漿料濃度過高，雖然會導致顆粒之間的碰撞頻率增加，但也可能增加顆粒之間的團聚和粘附現(xiàn)象。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、針對上述的缺陷，本發(fā)明本著提供一種納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，可分次加入濕磨溶液，確保物料漿料的濃度處于最佳狀態(tài)，提升濕磨效果。

2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案：一種用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，包括粉碎倉，所述粉碎倉內(nèi)設置有兩條可轉(zhuǎn)動連接的破碎輥，所述破碎輥通過粉碎驅(qū)動裝置驅(qū)動，所述粉碎倉的底部連通至儲料倉，所述儲料倉的底部設置有若干送料管，所述送料管上設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的送料閥，所述儲料倉下方設置有濕磨倉，所述濕磨倉內(nèi)設置有可間歇往復運動的濕磨裝置，所述濕磨裝置電連接至plc控制系統(tǒng)，所述濕磨裝置底部設置有研磨盤，所述研磨盤可活動連接在濕磨倉下部設置的研磨孔內(nèi)，所述研磨孔內(nèi)上部設置有進液孔，所述進液孔通過進液管連通至與plc控制系統(tǒng)電連接的進液泵，所述研磨孔內(nèi)進液孔的下方設置有供料孔，所述供料孔通過所述送料管連通至儲料倉，所述研磨孔底部設置有出料孔，所述出料孔處設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的出料閥，所述研磨孔通過出料孔連通至下方的烘干倉，所述烘干倉內(nèi)設置有加熱裝置，所述烘干倉一側(cè)鉸接有倉門，所述烘干倉連通至下方的排液倉，所述排液倉的一側(cè)設置有排水管。

3、作為本發(fā)明的進一步改進，所述濕磨裝置包括豎直固定連接在濕磨倉頂部的電缸，所述電缸的輸出端固定連接有推板，所述推板底部固定連接有若干組環(huán)形設置的推桿，所述推桿的底部固定連接有內(nèi)套，所述內(nèi)套可活動連接在套筒上部，所述套筒固定連接在濕磨倉中部，所述套筒下部設置有兩條平行設置的限位槽，兩條所述限位槽之間設置有兩條豎直的滑道，兩條所述滑道呈180°設置，所述內(nèi)套內(nèi)部的上、下兩側(cè)均固定連接有卡塊，所述內(nèi)套內(nèi)部可滑動連接有壓桿，所述壓桿上開設有與卡塊相匹配傾斜設置的卡槽，所述壓桿的中部穿出內(nèi)套設置有限位臺，所述限位臺外緣兩側(cè)設置有限位塊，所述限位臺及限位塊可活動連接在套筒底部的限位槽和滑道中，所述壓桿的下部穿出套筒，所述研磨盤固定連接在壓桿的底部。

4、作為本發(fā)明的進一步改進，兩個所述卡塊呈180°設置，所述壓桿上設置的兩條卡槽呈180°設置。作為本發(fā)明的進一步改進，所述加熱裝置固定連接在烘干倉的側(cè)壁上。

5、作為本發(fā)明的進一步改進，所述加熱裝置固定連接在烘干倉的側(cè)壁上。

6、作為本發(fā)明的進一步改進，所述烘干倉內(nèi)遠離倉門的一側(cè)設置有電動推桿，所述電動推桿電連接至plc控制系統(tǒng)，所述電動推桿的輸出端固定連接有推料板。

7、作為本發(fā)明的進一步改進，所述烘干倉的底板為濾網(wǎng)。

8、作為本發(fā)明的進一步改進，所述粉碎驅(qū)動裝置包括粉碎電機，所述粉碎電機的輸出端固定連接至粉碎減速器的輸入端，所述粉碎減速器的輸出端固定連接至其中一根破碎輥的一端，兩條所述破碎輥之間通過齒輪嚙合傳動。

9、作為本發(fā)明的進一步改進，所述齒輪外部設置有保護殼。

10、作為本發(fā)明的進一步改進，所述儲料倉的下部呈斗狀傾斜設置。

11、本發(fā)明的有益效果：

12、1.通過plc控制系統(tǒng)控制供料、供液裝置，使得在對納米活性碳酸鈣的濕磨過程中，分次加入濕磨溶液然后進行反復研磨。分次加入研磨溶液，可以使碳化鈣粉末在研磨過程中逐漸濕潤和分散，有助于減少顆粒之間的團聚現(xiàn)象，提高研磨效率，同時可以調(diào)整研磨介質(zhì)的濃度，使其保持在適宜的范圍內(nèi)，從而提高研磨效果。

13、2.通過設置可上、下運動且能夠轉(zhuǎn)動的研磨盤，可使得研磨盤在下壓過程中對物料產(chǎn)生一個擠壓力，使得在轉(zhuǎn)動研磨時，除了摩擦物料還會對其產(chǎn)生一個剪切力，彌補了不能持續(xù)高速轉(zhuǎn)動所導致可能存在的研磨不充分的問題，確保了濕磨的質(zhì)量。

技術(shù)特征：

1.一種用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，包括粉碎倉（5），所述粉碎倉（5）內(nèi)設置有兩條可轉(zhuǎn)動連接的破碎輥（50），所述破碎輥（50）通過粉碎驅(qū)動裝置（4）驅(qū)動，所述粉碎倉（5）的底部連通至儲料倉（6），所述儲料倉（6）的底部設置有若干送料管（20），所述送料管（20）上設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的送料閥，所述儲料倉（6）下方設置有濕磨倉，所述濕磨倉內(nèi)設置有可間歇往復運動的濕磨裝置，所述濕磨裝置電連接至plc控制系統(tǒng)，所述濕磨裝置底部設置有研磨盤（21），所述研磨盤（21）可活動連接在濕磨倉下部設置的研磨孔（17）內(nèi)，所述研磨孔（17）內(nèi)上部設置有進液孔（19），所述進液孔（19）通過進液管連通至與plc控制系統(tǒng)電連接的進液泵，所述研磨孔（17）內(nèi)進液孔（19）的下方設置有供料孔（18），所述供料孔（18）通過所述送料管（20）連通至儲料倉（6），所述研磨孔（17）底部設置有出料孔，所述出料孔處設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的出料閥（22），所述研磨孔（17）通過出料孔連通至下方的烘干倉（13），所述烘干倉（13）內(nèi)設置有加熱裝置（16），所述烘干倉（13）一側(cè)鉸接有倉門（3），所述烘干倉（13）連通至下方的排液倉，所述排液倉的一側(cè)設置有排水管（14）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述濕磨裝置包括豎直固定連接在濕磨倉頂部的電缸（7），所述電缸（7）的輸出端固定連接有推板（8），所述推板（8）底部固定連接有若干組環(huán)形設置的推桿（9），所述推桿（9）的底部固定連接有內(nèi)套（11），所述內(nèi)套（11）可活動連接在套筒（12）上部，所述套筒（12）固定連接在濕磨倉中部，所述套筒（12）下部設置有兩條平行設置的限位槽，兩條所述限位槽之間設置有兩條豎直的滑道（121），兩條所述滑道（121）呈180°設置，所述內(nèi)套（11）內(nèi)部的上、下兩側(cè)均固定連接有卡塊（111），所述內(nèi)套（11）內(nèi)部可滑動連接有壓桿（10），所述壓桿（10）上開設有與卡塊（111）相匹配傾斜設置的卡槽（100），所述壓桿（10）的中部穿出內(nèi)套（11）設置有限位臺（101），所述限位臺（101）外緣兩側(cè)設置有限位塊（102），所述限位臺（101）及限位塊（102）可活動連接在套筒（12）底部的限位槽和滑道（121）中，所述壓桿（10）的下部穿出套筒（12），所述研磨盤（21）固定連接在壓桿（10）的底部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，兩個所述卡塊（111）呈180°設置，所述壓桿（10）上設置的兩條卡槽（100）呈180°設置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述加熱裝置（16）固定連接在烘干倉（13）的側(cè)壁上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述烘干倉（13）內(nèi)遠離倉門（3）的一側(cè)設置有電動推桿（15），所述電動推桿（15）電連接至plc控制系統(tǒng)，所述電動推桿（15）的輸出端固定連接有推料板。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述烘干倉（13）的底板為濾網(wǎng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述排液倉的底板呈傾斜設置，所述排水管（14）設置在排液倉內(nèi)較低的一側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述粉碎驅(qū)動裝置（4）包括粉碎電機，所述粉碎電機的輸出端固定連接至粉碎減速器的輸入端，所述粉碎減速器的輸出端固定連接至其中一根破碎輥（50）的一端，兩條所述破碎輥（50）之間通過齒輪嚙合傳動。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述齒輪外部設置有保護殼（2）。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，其特征在于，所述儲料倉（6）的下部呈斗狀傾斜設置。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于研磨設備技術(shù)領(lǐng)域，具體提供了一種用于納米活性碳酸鈣生產(chǎn)的濕磨設備，包括設有可轉(zhuǎn)動破碎輥的粉碎倉，粉碎倉連通至儲料倉，儲料倉的底部設有送料管，送料管上設有電連接至PLC控制系統(tǒng)的送料閥，儲料倉底部設有濕磨倉，濕磨倉內(nèi)設有可間歇往復運動的濕磨裝置，濕磨裝置電連接至PLC控制系統(tǒng)，濕磨裝置底部設有研磨盤，研磨盤活動連接在濕磨倉的研磨孔內(nèi)，研磨孔內(nèi)設有進液孔、供料孔，供料孔通過送料管連通至儲料倉，研磨孔底部設置有出料孔，出料孔處設有電連接至PLC控制系統(tǒng)的出料閥，研磨孔連通烘干倉，烘干倉內(nèi)設有加熱裝置，烘干倉一側(cè)鉸接有倉門，烘干倉連通至設有排水管的排液倉。以上可實現(xiàn)分次加入溶液逐次研磨。

技術(shù)研發(fā)人員：胡文茂,竇錦嬌,王磊,竇錦棟,譚永軍
受保護的技術(shù)使用者：山東白石新材料股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19