本發(fā)明涉及環(huán)保設(shè)備領(lǐng)域，特別涉及一種具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備。

背景技術(shù)：

硫?qū)Νh(huán)境的污染比較大，硫氧化物和硫化氫對大氣的污染，硫酸鹽、硫化氫對水體的污染，是目前環(huán)境保護(hù)工作的重點。熱電廠的生產(chǎn)流程中會燃燒大量的煤，而煤中常常含有一定量的硫元素，這些硫元素經(jīng)過燃燒之后會釋放出大量so2，如果不加以治理，就會對環(huán)境造成巨大危害。因此目前電力行業(yè)普遍要使用到脫硫設(shè)備。

是將石灰石粉加水制成漿液作為吸收劑泵入吸收塔與煙氣充分接觸混合，煙氣中的二氧化硫與漿液中的碳酸鈣以及從塔下部鼓入的空氣進(jìn)行氧化反應(yīng)生成硫酸鈣，硫酸鈣達(dá)到一定飽和度后，結(jié)晶形成二水石膏，而漿液隨著與煙氣的反應(yīng)，使?jié){液中的碳酸鈣減少，從而降低凈化效果，一般需要人工添加，且現(xiàn)有的吸收塔攪拌機(jī)構(gòu)單元，使煙氣與漿液混合不均勻，凈化效果低。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備，包括脫硫塔、攪拌機(jī)構(gòu)、plc和漿液循環(huán)機(jī)構(gòu)；

所述脫硫塔包括塔體、進(jìn)氣組件和出氣管，所述出氣管設(shè)置在塔體上部，所述進(jìn)氣組件包括進(jìn)氣管、分流管，所述進(jìn)氣管設(shè)在塔體下方一側(cè)，所述分流管設(shè)置在塔體內(nèi)，所述進(jìn)氣管與分流管連通，所述分流管上設(shè)有多個出氣孔；

所述攪拌機(jī)構(gòu)包括第一電機(jī)、旋轉(zhuǎn)組件和擋板，所述第一電機(jī)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)組件，所述擋板有兩個，兩個擋板分別設(shè)置在旋轉(zhuǎn)組件的兩側(cè)，所述擋板位于塔體內(nèi)；

所述漿液循環(huán)組件包括漿液箱、導(dǎo)管、循環(huán)泵和噴頭，所述漿液箱的一側(cè)通過導(dǎo)管與塔體的上側(cè)連通，所述漿液箱的另一側(cè)通過導(dǎo)管與塔體的下側(cè)連通，所述循環(huán)泵設(shè)置在于塔體上側(cè)連通的導(dǎo)管上，所述噴頭有若干個，各噴頭均設(shè)置在塔體內(nèi)，各噴頭通過導(dǎo)管與循環(huán)泵連通，所述漿液箱上還設(shè)有回流箱、調(diào)配箱和給料機(jī)構(gòu)；

所述第一電機(jī)和循環(huán)泵均與plc電連接。

作為優(yōu)選，為了檢測回流箱中的二水石膏的淤積量，從而分析得出漿液中碳酸鈣的濃度，所述回流箱設(shè)置在漿液箱內(nèi)，所述回流箱包括升降箱、彈簧、上觸塊和下觸塊，所述升降箱與回流箱滑動連接，所述升降箱通過彈簧連接在回流箱的下側(cè)內(nèi)壁上，所述上觸塊設(shè)置在升降箱上，所述下觸塊設(shè)置在回流箱的下側(cè)內(nèi)壁上，所述上觸塊位于下觸塊的正上方，所述上觸塊和下觸塊均與plc電連接。

當(dāng)二水石膏在升降箱內(nèi)淤積時，使升降箱重量增加，從而使升降箱壓縮彈簧后下降，當(dāng)二水石膏達(dá)到一定數(shù)量時，上觸塊與下觸塊抵靠，把電信號發(fā)生給plc，此時說明相對數(shù)量的碳酸鈣與二氧化硫反應(yīng)生成了二水石膏，而導(dǎo)致了漿液中碳酸鈣濃度的不足，plc控制給料機(jī)構(gòu)進(jìn)行給料，并發(fā)出需要清理二水石膏的信號。

作為優(yōu)選，為了方便漿液流進(jìn)調(diào)配箱，而使二水石膏留存在回流箱內(nèi)，所述調(diào)配箱位于漿液箱內(nèi)，所述調(diào)配箱設(shè)置在回流箱的一側(cè)，所述回流箱和調(diào)配箱上側(cè)均設(shè)有開口，所述回流箱的高度大于調(diào)配箱的高度。

重量較輕的漿液從而升降箱上側(cè)開口流出，進(jìn)入調(diào)配箱，而較重的二水石膏則留在升降箱內(nèi)。

作為優(yōu)選，給了方便給料，從而給增加漿液中碳酸鈣的濃度，所述給料機(jī)構(gòu)包括料斗、輸料管、第二電機(jī)和蝸桿，所述料斗與輸料管連通，所述料斗位于輸料管的上方，所述蝸桿位于輸料管內(nèi)，所述第二電機(jī)驅(qū)動蝸桿旋轉(zhuǎn)，所述輸料管的開口位于調(diào)配箱的上方，所述第二電機(jī)與plc電連接。

需要給料時，plc控制第二電機(jī)驅(qū)動蝸桿旋轉(zhuǎn)，把料斗中的碳酸鈣粉運(yùn)輸至調(diào)配箱內(nèi)，調(diào)配箱內(nèi)設(shè)有攪拌組件進(jìn)行攪拌成漿液。

作為優(yōu)選，為了使擋板上下移動，從而增加攪拌效果，所述旋轉(zhuǎn)組件包括上支桿、下支桿和升降單元，所述上支桿的一端穿入下支桿，所述上支桿與下支桿滑動連接，所述升降單元包括第三電機(jī)、半齒輪、驅(qū)動框和條齒輪，所述第三電機(jī)驅(qū)動半齒輪旋轉(zhuǎn)，所述第三電機(jī)設(shè)置在下支桿上，所述驅(qū)動框設(shè)置在上支桿上，所述條齒輪設(shè)置在驅(qū)動框的兩側(cè)內(nèi)壁上，所述條齒輪相對設(shè)置，所述條齒輪豎直設(shè)置，所述半齒輪與條齒輪嚙合，所述第三電機(jī)與plc電連接。

半齒輪為具有一半齒的圓齒輪，在攪拌時，plc控制第三電機(jī)驅(qū)動半齒輪旋轉(zhuǎn)，半齒輪與一側(cè)的條齒輪嚙合，從而使驅(qū)動框和上支桿發(fā)生位移，當(dāng)半齒輪旋轉(zhuǎn)半周后，半齒輪與另一側(cè)的條齒輪嚙合，從而使驅(qū)動框和上支桿相反方向發(fā)生位移，從而通過上下往復(fù)運(yùn)動增加攪拌效果，從而增加二氧化硫的與碳酸鈣的接觸概率。

作為優(yōu)選，為了使?jié){液錯流，從而增加攪拌效果，所述擋板上還設(shè)有錯流孔。

作為優(yōu)選，為了增加噴灑面積，從而增加漿液與二氧化硫的接觸概率，所述噴頭相對設(shè)置，所述噴頭水平設(shè)置。

作為優(yōu)選，為了方便控制，所述第一電機(jī)、第二電機(jī)和第三電機(jī)均為伺服電機(jī)。

作為優(yōu)選，為了便于切割漿液和碳酸鈣粉，增加攪拌效果，所述擋板的外周設(shè)有鋸齒。

作為優(yōu)選，為了密封，所述旋轉(zhuǎn)組件與塔體密封設(shè)置。

本發(fā)明的有益效果是，該具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備設(shè)計結(jié)構(gòu)巧妙，實用性高，通過攪拌機(jī)構(gòu)增加攪拌的效果，增加了二氧化硫的與碳酸鈣的接觸概率，從而高效凈化二氧化硫，通過回流箱的稱重檢測出漿液中碳酸鈣的濃度，當(dāng)碳酸鈣的濃度低時，通過給料機(jī)構(gòu)進(jìn)行給料，從而保障了漿液中碳酸鈣的濃度，從而保障了二氧化硫的凈化效果。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。

圖1是本發(fā)明的具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1的a部放大圖；

圖3是本發(fā)明的具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備的回流箱的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明的具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備的給料機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1.第一電機(jī)，2.分流管，3.出氣孔，4.漿液箱，5.下支桿，6.調(diào)配箱，7.漿液箱，8.輸料管，9.循環(huán)泵，10.塔體，11.出氣管，12.噴頭，13.導(dǎo)管，14.擋板，15.錯流孔，16.上支桿，17.進(jìn)氣管，18.驅(qū)動框，19.條齒輪，20.半齒輪，21.第二電機(jī)，22.彈簧，23.上觸塊，24.下觸塊，25.升降箱，26.料斗，27.蝸桿，28.第三電機(jī)。

具體實施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。

如圖1-4所示，一種具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備，包括脫硫塔、攪拌機(jī)構(gòu)、plc和漿液循環(huán)機(jī)構(gòu)；

所述脫硫塔包括塔體10、進(jìn)氣組件和出氣管11，所述出氣管11設(shè)置在塔體10上部，所述進(jìn)氣組件包括進(jìn)氣管17、分流管2，所述進(jìn)氣管17設(shè)在塔體10下方一側(cè)，所述分流管2設(shè)置在塔體10內(nèi)，所述進(jìn)氣管17與分流管2連通，所述分流管2上設(shè)有多個出氣孔3；

所述攪拌機(jī)構(gòu)包括第一電機(jī)1、旋轉(zhuǎn)組件和擋板14，所述第一電機(jī)1驅(qū)動旋轉(zhuǎn)組件，所述擋板14有兩個，兩個擋板14分別設(shè)置在旋轉(zhuǎn)組件的兩側(cè)，所述擋板14位于塔體10內(nèi)；

所述漿液循環(huán)組件包括漿液箱7、導(dǎo)管13、循環(huán)泵9和噴頭12，所述漿液箱7的一側(cè)通過導(dǎo)管13與塔體10的上側(cè)連通，所述漿液箱7的另一側(cè)通過導(dǎo)管13與塔體10的下側(cè)連通，所述循環(huán)泵9設(shè)置在于塔體10上側(cè)連通的導(dǎo)管13上，所述噴頭12有若干個，各噴頭12均設(shè)置在塔體10內(nèi)，各噴頭12通過導(dǎo)管13與循環(huán)泵9連通，所述漿液箱7上還設(shè)有回流箱4、調(diào)配箱6和給料機(jī)構(gòu)；

所述第一電機(jī)1和循環(huán)泵9均與plc電連接。

通過循環(huán)泵9把含有碳酸鈣的漿液，通過噴頭12噴灑進(jìn)塔體10內(nèi)，再通過到導(dǎo)管13進(jìn)入漿液箱7內(nèi)，把含二氧化硫的氣體通過進(jìn)氣管17進(jìn)入塔體10，使氣體與漿液攪拌，使二氧化硫和碳酸鈣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生產(chǎn)硫酸鈣和二氧化硫，從而凈化空氣中的二氧化硫。

作為優(yōu)選，為了檢測回流箱4中的二水石膏的淤積量，從而分析得出漿液中碳酸鈣的濃度，所述回流箱4設(shè)置在漿液箱7內(nèi)，所述回流箱4包括升降箱25、彈簧22、上觸塊23和下觸塊24，所述升降箱25與回流箱4滑動連接，所述升降箱25通過彈簧22連接在回流箱4的下側(cè)內(nèi)壁上，所述上觸塊23設(shè)置在升降箱25上，所述下觸塊24設(shè)置在回流箱4的下側(cè)內(nèi)壁上，所述上觸塊23位于下觸塊24的正上方，所述上觸塊23和下觸塊24均與plc電連接。

當(dāng)二水石膏在升降箱25內(nèi)淤積時，使升降箱25重量增加，從而使升降箱25壓縮彈簧22后下降，當(dāng)二水石膏達(dá)到一定數(shù)量時，上觸塊23與下觸塊24抵靠，把電信號發(fā)生給plc，此時說明相對數(shù)量的碳酸鈣與二氧化硫反應(yīng)生成了二水石膏，而導(dǎo)致了漿液中碳酸鈣濃度的不足，plc控制給料機(jī)構(gòu)進(jìn)行給料，并發(fā)出需要清理二水石膏的信號。

作為優(yōu)選，為了方便漿液流進(jìn)調(diào)配箱6，而使二水石膏留存在回流箱4內(nèi)，所述調(diào)配箱6位于漿液箱7內(nèi)，所述調(diào)配箱6設(shè)置在回流箱4的一側(cè)，所述回流箱4和調(diào)配箱6上側(cè)均設(shè)有開口，所述回流箱4的高度大于調(diào)配箱6的高度。

重量較輕的漿液從而升降箱25上側(cè)開口流出，進(jìn)入調(diào)配箱6，而較重的二水石膏則留在升降箱25內(nèi)。

作為優(yōu)選，給了方便給料，從而給增加漿液中碳酸鈣的濃度，所述給料機(jī)構(gòu)包括料斗26、輸料管8、第二電機(jī)21和蝸桿27，所述料斗26與輸料管8連通，所述料斗26位于輸料管8的上方，所述蝸桿27位于輸料管8內(nèi)，所述第二電機(jī)21驅(qū)動蝸桿27旋轉(zhuǎn)，所述輸料管8的開口位于調(diào)配箱6的上方，所述第二電機(jī)21與plc電連接。

需要給料時，plc控制第二電機(jī)21驅(qū)動蝸桿27旋轉(zhuǎn)，把料斗26中的碳酸鈣粉運(yùn)輸至調(diào)配箱6內(nèi)，調(diào)配箱6內(nèi)設(shè)有攪拌組件進(jìn)行攪拌成漿液。

作為優(yōu)選，為了使擋板14上下移動，從而增加攪拌效果，所述旋轉(zhuǎn)組件包括上支桿16、下支桿5和升降單元，所述上支桿16的一端穿入下支桿5，所述上支桿16與下支桿5滑動連接，所述升降單元包括第三電機(jī)28、半齒輪20、驅(qū)動框18和條齒輪19，所述第三電機(jī)28驅(qū)動半齒輪20旋轉(zhuǎn)，所述第三電機(jī)28設(shè)置在下支桿5上，所述驅(qū)動框18設(shè)置在上支桿16上，所述條齒輪19設(shè)置在驅(qū)動框18的兩側(cè)內(nèi)壁上，所述條齒輪19相對設(shè)置，所述條齒輪19豎直設(shè)置，所述半齒輪20與條齒輪19嚙合，所述第三電機(jī)28與plc電連接。

半齒輪20為具有一半齒的圓齒輪，在攪拌時，plc控制第三電機(jī)28驅(qū)動半齒輪20旋轉(zhuǎn)，半齒輪20與一側(cè)的條齒輪19嚙合，從而使驅(qū)動框18和上支桿16發(fā)生位移，當(dāng)半齒輪20旋轉(zhuǎn)半周后，半齒輪20與另一側(cè)的條齒輪19嚙合，從而使驅(qū)動框18和上支桿16相反方向發(fā)生位移，從而通過上下往復(fù)運(yùn)動增加攪拌效果，從而增加二氧化硫的與碳酸鈣的接觸概率。

作為優(yōu)選，為了使?jié){液錯流，從而增加攪拌效果，所述擋板14上還設(shè)有錯流孔15。

作為優(yōu)選，為了增加噴灑面積，從而增加漿液與二氧化硫的接觸概率，所述噴頭12相對設(shè)置，所述噴頭12水平設(shè)置。

作為優(yōu)選，為了方便控制，所述第一電機(jī)1、第二電機(jī)21和第三電機(jī)28均為伺服電機(jī)。

作為優(yōu)選，為了便于切割漿液和碳酸鈣粉，增加攪拌效果，所述擋板14的外周設(shè)有鋸齒。

作為優(yōu)選，為了密封，所述旋轉(zhuǎn)組件與塔體10密封設(shè)置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，該具有自動調(diào)節(jié)漿液濃度功能的高效脫硫設(shè)備設(shè)計結(jié)構(gòu)巧妙，實用性高，通過攪拌機(jī)構(gòu)增加攪拌的效果，增加了二氧化硫的與碳酸鈣的接觸概率，從而高效凈化二氧化硫，通過回流箱4的稱重檢測出漿液中碳酸鈣的濃度，當(dāng)碳酸鈣的濃度低時，通過給料機(jī)構(gòu)進(jìn)行給料，從而保障了漿液中碳酸鈣的濃度，從而保障了二氧化硫的凈化效果。

以上述依據(jù)本發(fā)明的理想實施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定其技術(shù)性范圍。