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等離子廢氣凈化器的制作方法

文檔序號(hào):11670755閱讀:371來(lái)源:國(guó)知局
等離子廢氣凈化器的制造方法與工藝

本實(shí)用新型涉及廢氣凈化器技術(shù)領(lǐng)域,特指一種等離子廢氣凈化器。



背景技術(shù):

現(xiàn)有的等離子廢氣凈化器,基本都是大型設(shè)備,不適合小型場(chǎng)所使用,例如:申請(qǐng)?zhí)枺?01510048282.7的中國(guó)專利文獻(xiàn)中公開(kāi)了一種廢氣凈化裝置及使用其凈化廢氣的方法,該廢氣凈化裝置包括殼體和等離子凈化區(qū),殼體具有廢氣流入和流出的入口和出口。廢氣凈化裝置還包括多級(jí)氣動(dòng)過(guò)濾凈化區(qū)和多孔活性炭吸附凈化區(qū),多級(jí)氣動(dòng)過(guò)濾凈化區(qū)、等離子凈化區(qū)和多孔活性炭吸附凈化區(qū)依次設(shè)置在殼體內(nèi),其中廢氣從殼體的入口流入,依次經(jīng)過(guò)多級(jí)氣動(dòng)過(guò)濾凈化區(qū)、等離子凈化區(qū)和多孔活性炭吸附凈化區(qū),并最終從殼體的出口流出。

因此,基于上述現(xiàn)有的等離子廢氣凈化器的缺陷,需要對(duì)現(xiàn)有的等離子廢氣凈化器進(jìn)行改進(jìn)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種等離子廢氣凈化器,該等離子廢氣凈化器解決了現(xiàn)有的廢氣凈化器所存在的:不適合小型場(chǎng)合使用等缺陷。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:等離子廢氣凈化器,包括本體,本體具有進(jìn)風(fēng)口、出風(fēng)口,本體內(nèi)設(shè)置有多個(gè)等離子電場(chǎng),每一個(gè)等離子電場(chǎng)的出風(fēng)端都縱向設(shè)置有活性炭過(guò)濾層,等離子電場(chǎng)內(nèi)插設(shè)有多個(gè)等離子發(fā)生器。

進(jìn)風(fēng)口外設(shè)置有金屬過(guò)濾層,金屬過(guò)濾層有多塊,首尾相接呈“V”字型連續(xù)分布。

本體外配設(shè)有三個(gè)高壓箱、一個(gè)低壓箱。

本實(shí)用新型的有益效果在于:采用抽屜式等離子發(fā)生器,可以很方便的進(jìn)行更換、維修,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,適合小型場(chǎng)所使用。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的外形示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。

見(jiàn)圖1——圖2,本實(shí)用新型等離子廢氣凈化器包括:本體,本體具有進(jìn)風(fēng)口1、出風(fēng)口2,本體外還配設(shè)有三個(gè)高壓箱、一個(gè)低壓箱。

本實(shí)用新型進(jìn)風(fēng)口外設(shè)置有金屬過(guò)濾層5,金屬過(guò)濾層5有多塊,首尾相接呈“V”字型連續(xù)分布。

本實(shí)用新型的本體內(nèi)設(shè)置有多個(gè)等離子電場(chǎng)6,每一個(gè)等離子電場(chǎng)6的出風(fēng)端都縱向設(shè)置有活性炭過(guò)濾層8。

本實(shí)用新型的等離子電場(chǎng)6內(nèi)設(shè)置有多個(gè)等離子發(fā)生器7,等離子電場(chǎng)6的頂部、底部具有導(dǎo)槽,等離子發(fā)生器7插設(shè)于對(duì)應(yīng)的導(dǎo)槽之間。

本實(shí)用新型的等離子電場(chǎng)6的頂部、底部具有導(dǎo)槽,活性炭過(guò)濾層8插設(shè)于對(duì)應(yīng)的導(dǎo)槽之間。

本實(shí)用新型的活性炭過(guò)濾層8、等離子發(fā)生器7采用抽屜式結(jié)構(gòu),每一個(gè)等離子電場(chǎng)6也采用單元式結(jié)構(gòu),方便更換維修。

本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,尤其適合小型場(chǎng)所使用。

當(dāng)然,以上所述之實(shí)施例,只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)例而已,并非限制本實(shí)用新型實(shí)施范圍,故凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾,均應(yīng)包括于本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍內(nèi)。

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