本實用新型涉及噴泉設備領域，特別涉及具有兩種噴水高度的雙壓氣爆噴射裝置。

背景技術：

噴泉是由人工構筑的整形或天然泉池中，以噴射優(yōu)美的水姿，供人們觀賞的水景。噴泉是園林中重要的組成部分?，F(xiàn)代園林中，除了植物景觀外，噴泉也是重要的景觀，它既是一種水景藝術，體現(xiàn)了動、靜結合，形成明朗活潑的氣氛，給人以美的享受；同時，噴泉還可以增加空氣中的負離子含量，起到凈化空氣、增加空氣濕度、降低環(huán)境溫度等作用，因此深受人們的喜愛。

公開號為CN204953229U的中國專利公開了一種具有兩種噴水高度的雙壓氣爆噴射裝置，包括底座，底座上設有缸體，缸體底端兩側對稱設有低壓進氣系統(tǒng)和高壓進氣系統(tǒng)；在低壓進氣系統(tǒng)和高壓進氣系統(tǒng)之間設有止回閥通過法蘭連接進水系統(tǒng)；缸體內(nèi)中部設有氣動活塞噴射系統(tǒng)；該具有兩種噴水高度的雙壓氣爆噴射裝置根據(jù)水柱噴射高度和水柱噴射爆發(fā)力的要求選擇高壓1.6MPa＜P≤3.0MPa進氣系統(tǒng)或低壓1.3MPa≤P≤1.6MPa進氣系統(tǒng)進行工作，該結構復雜。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的是提供一種具有兩種噴水高度的雙壓氣爆噴射裝置，結構簡單，安裝快速。

本實用新型的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現(xiàn)的：一種具有兩種噴水高度的雙壓氣爆噴射裝置，包括支架、固定在支架上的儲水罐、分別位于儲水罐兩側的高壓氣罐和低壓氣罐，所述儲水罐和高壓氣罐、儲水罐和低壓氣罐之間均通過安裝有電磁閥的氣管相連通，所述儲水罐的上端為出水口，下端為進水口，所述進水口設置有無壓取水防倒流組件，所述儲水罐內(nèi)還設置有活塞組件，所述無壓取水防倒流組件包括法蘭盤、開設在法蘭盤上與儲水罐連通的通水孔、開設在法蘭盤上與儲水罐下端配合的環(huán)形槽、位于儲水罐內(nèi)通過第一螺栓固定在法蘭盤上且在受壓情況下能封閉通水孔的止回片，所述儲水罐內(nèi)固定有環(huán)形片，所述法蘭盤通過第二螺栓與環(huán)形片連接。

無壓取水防倒流組件通過螺栓連接的方式可快速安裝在儲水罐上，且環(huán)形槽與儲水罐的下端配合，保證了儲水罐的密封性，使得水僅能從通水孔進入儲水罐內(nèi)；工作的時候，電磁閥打開，氣體從儲氣罐內(nèi)出來進入儲水罐內(nèi)，由于氣體的壓力，止回片受壓變形封閉通水孔，水只能從出水口出來。

進一步的，所述活塞組件和環(huán)形片之間設置有導流片，所述導流片設置兩片且分別位于儲水罐進氣口的下方，所述導流片自與儲水罐的內(nèi)壁連接處傾斜向上之后回折傾斜向下設置，所述導流片始終向儲水罐中心延伸且兩片導流片之間留有供氣體通過的空間。

由于導流片的設置，氣體大部分往上流動用于推動活塞組件運動，小部分氣體封閉無壓取水防倒流組件，因此可提高進氣壓力，通過控制電磁閥的啟閉來控制高壓氣罐進氣或者低壓氣罐進氣，氣體進入儲水罐內(nèi)推動活塞組件運動，活塞組件將儲水罐內(nèi)的水頂出，形成高水柱，并且伴有氣爆聲，氣勢宏大，觀賞性強。

進一步的，所述活塞組件包括可沿儲水罐上下運動并與儲水罐密封配合的大活塞、與大活塞密封滑動配合的呈中空狀的小活塞，所述小活塞沿軸向貫通且小活塞的下端固定有封閉小活塞下端口的擋板，所述小活塞的側壁上開設有與小活塞的中空部分連通的排氣孔，所述小活塞的上端固定有限制小活塞與大活塞分離的限位環(huán)；所述儲水罐的上端固定有用于抵接小活塞的限位塊。

電磁閥關閉時，限位環(huán)抵接大活塞的上端面，擋板與大活塞的下端面間隔設置且排氣孔與儲水罐的內(nèi)部空腔連通，水可以通過無壓取水經(jīng)過排氣孔、小活塞進入儲水罐的上部空間內(nèi)；當電磁閥打開時，氣體進入儲水罐，氣體先推動小活塞使得小活塞下端的擋板與大活塞的下端面緊貼，排氣孔封閉，限位環(huán)與大活塞的上端面間隔；之后大活塞和小活塞一起上下運動，推動儲水罐內(nèi)的水晚上運動從出水口噴出，在大活塞運動到最上端之前，小活塞先與限位塊抵接，如此小活塞相對大活塞向下運動，重新打開排氣孔，氣體經(jīng)排氣孔、小活塞從出水口排出。

進一步的，所述氣管包括與儲氣罐連通的第一管道、一端與第一管道連接且另一端與儲水罐連通的第二管道，所述第一管道與第二管道通過二通接頭連通。

通過二通接頭實現(xiàn)第一管道和第二管道的連接，安裝快速。

綜上所述，本實用新型具有以下有益效果：本實用新型結構簡單，安裝方便，噴射高度高且伴有氣爆聲，氣勢宏大。

附圖說明

圖1是實施例的結構示意圖；

圖2是圖1的A部放大圖；

圖3是圖1的B部放大圖；

圖4是立式氣爆泉噴射時的狀態(tài)示意圖。

附圖標記：1、支架；2、儲水罐；21、進水口；22、出水口；23、限位塊；31、高壓氣罐；32、低壓氣罐；41、第一管道；42、第二管道；43、二通接頭；5、電磁閥；6、法蘭盤；61、環(huán)形槽；62、弧形凸起部；63、止回片；64、第一螺栓；65、限位螺母；66、環(huán)形片；67、第二螺栓；68、通水孔；71、卡管；72、第一連接桿；73、第二連接桿；8、大活塞；81、小活塞；811、排氣孔；812、擋板；813、限位環(huán)；91、定位塊；92、導流片。

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。

本具體實施例僅僅是對本實用新型的解釋，其并不是對本實用新型的限制，本領域技術人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對本實施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻的修改，但只要在本實用新型的權利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護。

一種具有兩種噴水高度的雙壓氣爆噴射裝置，如圖1-4，包括支架1、固定在支架1上的儲水罐2，支架1對應兩側設置有高壓氣罐31和低壓氣罐32。儲水罐2和高壓氣罐31通過氣管連接，氣管包括第一管道41和第二管道42，第一管道41水平設置且一端與高壓氣罐31連通，第一管道41的另一端通過二通接頭43與第二管道42連接，該二通接頭43通過第二連接桿73與儲水罐2連接；第二管道42豎直設置，第二管道42上固定套接一卡管71，卡管71通過第一連接桿72與儲水罐2連接，第二管道42遠離第一管道41的一端連接有二通接頭43，該二通接頭43與固定在儲水罐2上的進氣管連接；第一管道41上還設置有電磁閥5。儲水罐2和低壓氣罐32通過氣管連接，氣管結構與上述氣管相同。

儲水罐2內(nèi)設置有可沿儲水罐2上下運動并與儲水罐2密封配合的大活塞8，儲水罐2內(nèi)設置有定位塊91，大活塞8的下端面抵接定位塊91。呈中空狀的小活塞81穿過大活塞8與大活塞8密封滑動配合，小活塞81沿大活塞8軸心線周向均勻間隔設置四個，小活塞81沿軸向貫通且小活塞81的下端固定有封閉小活塞81下端口的擋板812，擋板812呈倒置的圓臺形，小活塞81的側壁上開設有與小活塞81的中空部分連通的排氣孔811，小活塞81的上端固定有限制小活塞81與大活塞8分離的限位環(huán)813；儲水罐2的上端固定有用于抵接小活塞81的限位塊23；儲水罐2的上端為出水口22，下端為進水口21，進水口21處設置有無壓取水防倒流組件，無壓取水防倒流組件和大活塞8之間設置導流片，導流片92設置兩片且分別位于儲水罐2進氣口的下方，導流片92自與儲水罐2的內(nèi)壁連接處傾斜向上之后回折傾斜向下設置，導流片92始終向儲水罐2中心延伸且兩片導流片92之間留有供氣體通過的空間。

無壓取水防倒流組件包括進水口21處的法蘭盤6，法蘭盤6上開設環(huán)形槽61，環(huán)形槽61的內(nèi)徑與儲水罐2的內(nèi)徑相同，環(huán)形槽61的外徑與儲水罐2的外徑相同，法蘭盤6位于儲水罐2內(nèi)的一端外凸設置形成一弧形凸起部62，通水孔68沿儲水罐2軸向貫穿法蘭盤6的弧形凸起部62與儲水罐2內(nèi)部連通，弧形凸起部62的中心為一平面，弧形凸起部62的中心開設螺紋孔，第一螺栓64與弧形凸起部62中心的螺紋孔連接，止回片63套接在第一螺栓64的栓體上，止回片63和弧形凸起之間設置有限位螺母65，限位螺母65與第一螺栓64螺紋連接，限位螺母65的下端面抵接弧形凸起部62中心的平面，第一螺栓64的栓帽和限位螺母65將止回片63夾緊，止回片63為聚氨酯片。

儲水罐2內(nèi)靠近進水口21一側固定有環(huán)形片66，環(huán)形片66焊接在儲水罐2內(nèi)，環(huán)形片66上沿周向均勻間隔設置個螺紋孔，法蘭盤6上對應開設6個螺紋孔，第二螺栓67穿過法蘭盤6上的螺紋孔與環(huán)形片66上的螺紋孔連接。

電磁閥5關閉時，大活塞8由于重力作用抵接定位塊91，限位環(huán)813抵接大活塞8的上端面，擋板812與大活塞8的下端面間隔設置且排氣孔811與儲水罐2的內(nèi)部空腔連通，水可以通過無壓取水經(jīng)過排氣孔811、小活塞81進入儲水罐2的上部空間內(nèi)；當電磁閥5打開時，氣體進入儲水罐2，氣體先推動小活塞81使得小活塞81下端的擋板812與大活塞8的下端面緊貼，排氣孔811封閉，限位環(huán)813與大活塞8的上端面間隔；之后大活塞8和小活塞81一起上下運動，推動儲水罐2內(nèi)的水晚上運動從出水口22噴出，在大活塞8運動到最上端之前，小活塞81先與限位塊23抵接，如此小活塞81相對大活塞8向下運動，重新打開排氣孔811，氣體經(jīng)排氣孔811、小活塞81從出水口22排出，之后由于重力作用大活塞8和小活塞81下落復位。

通過控制儲水罐2與低壓氣罐32之間第一管道41上的電磁閥5或儲水罐2與高壓氣罐31之間第一管道41上的電磁閥8來實現(xiàn)高壓噴射或低壓噴射。

工作壓力為0.6MPA時，噴射高度為20m；工作壓力為0.8MPA時，噴射高度為30m；工作壓力為1.0MPA時，噴射高度為45m；工作壓力為1.6MPA時，噴射高度為60m；工作壓力為2.0MPA時，噴射高度為75m；工作壓力為2.5MPA時，噴射高度為94m；工作壓力為3.0MPA時，噴射高度為110m；工作壓力為4.0MPA時，噴射高度為125m。