本實(shí)用新型涉及霧化領(lǐng)域，更具體地說，一種正扣式霧化盤。

背景技術(shù)：

為了起到節(jié)能降溫的作用，空調(diào)節(jié)能霧化器在市場(chǎng)上越來越多的出現(xiàn)。而霧化器的霧化效果的好壞很大程度上取決于霧化盤的霧化效果。

市場(chǎng)上現(xiàn)有的霧化盤有單盤和雙盤組合式。而現(xiàn)有的雙盤組合式是由一個(gè)霧化基盤與一個(gè)阻水盤同向固定而成。阻水盤用來接住霧化基盤的盤邊滴落的水滴并再次霧化。但是，阻水盤的背面對(duì)著霧化基盤的正表面上的出水孔，當(dāng)出水孔出水時(shí)，水珠會(huì)沿著阻水盤的背面直接甩出，霧化效果不佳。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

由于現(xiàn)有技術(shù)存在著上述問題，本實(shí)用新型提出一種正扣式霧化盤，其能有效的解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。

本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案解決上述問題：

一種正扣式霧化盤，其包括一霧化基盤以及一阻水盤，所述阻水盤的直徑小于所述霧化基盤的直徑，所述霧化基盤，所述霧化基盤的正表面上設(shè)有多個(gè)固定孔以及一出水孔；所述阻水盤，該阻水盤與所述霧化基盤相向而設(shè)，所述阻水盤的正表面上設(shè)有與所述固定孔對(duì)應(yīng)的固定螺柱，所述固定螺柱固定于所述固定孔內(nèi)，所述出水孔對(duì)準(zhǔn)所述阻水盤的正表面，在工作時(shí)，所述水由出水孔噴射到所述阻水盤的正表面。

所述固定孔為臺(tái)階式嵌孔，所述固定螺柱按壓嵌入所述固定孔內(nèi)。

所述固定螺柱的長度大于所述臺(tái)階式嵌孔的深度。

所述霧化基盤的盤邊上設(shè)有至少一個(gè)齒牙。

所述霧化基盤的盤邊呈20°至140°的傾斜角度。

所述霧化基盤的盤邊呈45°傾斜。

所述霧化基盤的正表面粗糙或者在所述霧化盤的正表面上設(shè)有凸起。

本申請(qǐng)的霧化盤將阻水盤與霧化基盤設(shè)置為相向，阻水盤將出水孔噴出的水再次霧化并將霧化后的水滴再次作用于霧化基盤的正表面，并由霧化基盤再次霧化，霧化水滴更加細(xì)小，霧化效果得到有效提高。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施方式，詳細(xì)描述本實(shí)用新型。

參見圖1所示，圖1為本實(shí)用新型的一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

本實(shí)施例中的正扣式霧化盤，其包括一霧化基盤1以及一阻水盤2，阻水盤2的直徑小于霧化基盤1的直徑。

其中，所述霧化基盤1的正表面上設(shè)有多個(gè)臺(tái)階式嵌孔11以及一出水孔12。所述霧化基盤的盤邊上設(shè)有至少一個(gè)齒牙。所述霧化基盤1的盤邊呈20°至140°的傾斜角度。較佳的是，所述霧化基盤1的盤邊呈45°傾斜。為了盡可能的延長水滴在霧化基盤正表面上的停留時(shí)間，所述霧化基盤的正表面設(shè)為粗糙面，或者在所述霧化盤的正表面上設(shè)有多處凸起。

所述阻水盤2與所述霧化基盤1相向而設(shè)。所述阻水盤2的正表面上設(shè)有與所述臺(tái)階式嵌孔11對(duì)應(yīng)的固定螺柱21。所述固定螺柱21通過按壓的方式嵌入所述臺(tái)階式嵌孔 11內(nèi)，組裝簡單。所述固定螺柱21的長度大于所述臺(tái)階式嵌孔11的深度，使得阻水盤2與所述霧化基盤1之間保持一間隙。所述出水孔12對(duì)著所述阻水盤2的正表面。

在工作時(shí)，水由出水孔12噴射到所述阻水盤2的正表面，阻水盤2將水進(jìn)行第一次霧化。由于阻水盤2與所述霧化基盤1之間保持一間隙，阻水盤2第一霧化后的水汽噴射到霧化基盤1的正表面上，隨著霧化基盤的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行第二次霧化。同時(shí)，霧化基盤1對(duì)出水孔噴出的水也進(jìn)行著霧化。如此，既可以很好的發(fā)揮阻水盤的作用，有可提高霧化盤霧化的效果。

應(yīng)理解，這些實(shí)施方式僅用于說明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本實(shí)用新型講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型作各種改動(dòng)或修改，這些等價(jià)形式同樣落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求書所限定的范圍。