一種氣化反應(yīng)裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于一種氣化反應(yīng)裝置，包括壓力殼、氣化片、氣孔、霧化器，氣化片設(shè)置在壓力殼上，氣化片上陣列設(shè)有氣孔，壓力殼進(jìn)氣端設(shè)有霧化器。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有氣化速度快，結(jié)構(gòu)簡單，生產(chǎn)成本低，使用壽命長，便于維護(hù)，氣化產(chǎn)生的工質(zhì)氣體氣壓大。
【專利說明】一種氣化反應(yīng)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于加熱氣化裝置領(lǐng)域，尤其是將液態(tài)有機(jī)工質(zhì)氣化成氣態(tài)的氣化反應(yīng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]熱能傳遞通常借助有機(jī)工質(zhì)(導(dǎo)熱介質(zhì))進(jìn)行，有機(jī)工質(zhì)具有低沸點(diǎn)、高壓力的特性，被利用在有機(jī)朗肯循環(huán)代替水蒸汽，在蒸發(fā)器中氣化，在汽輪機(jī)中進(jìn)行膨脹做功；如CN201310674641.0中介紹的蒸發(fā)器是在導(dǎo)熱管中增加片狀散熱片(翅片)進(jìn)行氣化吸熱，應(yīng)用在冰箱中制冷，但是還存在氣化速度慢，氣化后的氣體壓力不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)對(duì)有機(jī)工質(zhì)氣化速度慢，氣化后的氣體氣壓不高的技術(shù)問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、能快速氣化有機(jī)工質(zhì)、產(chǎn)生高壓氣體的氣化反應(yīng)裝置。
[0004]本發(fā)明采用的技術(shù)方案是，一種氣化反應(yīng)裝置，包括壓力殼、氣化片、氣孔、霧化器，氣化片設(shè)置在壓力殼上，氣化片上陣列設(shè)有氣孔，壓力殼進(jìn)氣端設(shè)有霧化器。
[0005]進(jìn)一步，所述壓力殼內(nèi)設(shè)有至少一層氣化片。
[0006]進(jìn)一步，所述氣化片間隙分布。
[0007]進(jìn)一步，所述間隙分布的氣化片間隙距離為l_15mm。
[0008]進(jìn)一步，所述間隙分布的氣化片上的氣孔交錯(cuò)分布。
[0009]進(jìn)一步，壓力殼內(nèi)設(shè)有三層間隙分布的氣化片；所述三層間隙分布的氣化片間隙距離為l_15mm。
[0010]進(jìn)一步，所述氣孔大小設(shè)置是上一層氣化片上的氣孔是相鄰下一層氣化片上的氣
孔直徑一半。
[0011]進(jìn)一步，上述壓力殼間隙設(shè)置三層氣化片。
[0012]進(jìn)一步，所述第一層氣化片上的氣孔是第二層氣化片上的氣孔直徑一半；第二層氣化片上的氣孔是第三層氣化片上的氣孔直徑一半。
[0013]進(jìn)一步，所述第一層氣化片上的氣孔直徑為1-1Omm ;所述第二層氣化片上的氣孔直徑為2-20mm ;所述第三層氣化片上的氣孔直徑為4_40mm。
[0014]進(jìn)一步，所述氣化片的厚度為0.15_15mm。
[0015]進(jìn)一步，所述氣化片最后一層下方的壓力殼出氣端開口。
[0016]進(jìn)一步，所述氣化片上設(shè)有導(dǎo)熱管，導(dǎo)熱管成S型分布或者直列分布在氣化片上。
[0017]進(jìn)一步，所述氣化片是金屬導(dǎo)熱材料制成；所述壓力殼是金屬導(dǎo)熱材料制成。
[0018]有機(jī)工質(zhì)通過壓力殼進(jìn)氣端上的霧化器霧化，進(jìn)入到第一層氣化片，熱能通過壓力殼和氣化片使霧化的有機(jī)工質(zhì)快速氣化，霧化氣和氣態(tài)有機(jī)工質(zhì)進(jìn)入到第二層氣化片繼續(xù)氣化，形成一定氣壓后進(jìn)入到第三層氣化片繼續(xù)氣化增壓排除。由于第一層至第三層的氣孔直徑逐級(jí)增大，氣態(tài)有機(jī)工質(zhì)膨脹速度逐級(jí)加快，氣壓逐漸增大。[0019]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有氣化速度快，結(jié)構(gòu)簡單，生產(chǎn)成本低，使用壽命長，便于維護(hù)，氣化產(chǎn)生的工質(zhì)氣體氣壓大。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1是本發(fā)明的剖視圖；
圖2是本發(fā)明氣化片結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是本發(fā)明第一層氣化片和第二層氣化片上的氣孔分布圖；
圖4是本發(fā)明導(dǎo)熱管分布圖；
圖5是本發(fā)明導(dǎo)熱管分布圖；
圖中1.壓力殼2.氣化片3.氣孔4.霧化器5.導(dǎo)熱管6.調(diào)節(jié)閥。
【具體實(shí)施方式】
[0021 ] 參照附圖，詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
[0022]實(shí)施例1
一種氣化反應(yīng)裝置，包括壓力殼1、氣化片2、氣孔3、霧化器4，氣化片2設(shè)置在壓力殼I上，氣化片2上陣列設(shè)有氣孔3，三層氣化片2間隙設(shè)置在壓力殼I上，壓力殼I進(jìn)氣端設(shè)有霧化器4 ;壓力殼I內(nèi)設(shè)有三層間隙分布的氣化片2 ;三層間隙分布的氣化片2間隙距離為Imm ;第一層氣化片2上的氣孔是第二層氣化片2上的氣孔直徑一半；第二層氣化片2上的氣孔是第三層氣化片2上的氣孔直徑一半；第一層氣化片2-1上的氣孔直徑為Imm ;第二層氣化片2-2上的氣孔直徑為2mm ;第三層氣化片2_3上的氣孔直徑為4mm ;氣化片2厚度是 0.25mm。
[0023]實(shí)施例2
上述實(shí)施例1中三層間隙分布的氣化片2間隙距離為1.5mm ;第一層氣化片2上的氣孔是第二層氣化片2上的氣孔直徑一半；第二層氣化片2上的氣孔是第三層氣化片2上的氣孔直徑一半；第一層氣化片2-1上的氣孔直徑為Imm ;第二層氣化片2_2上的氣孔直徑為2mm ;第三層氣化片2-3上的氣孔直徑為4mm，；氣化片2厚度是0.25mm。
[0024]實(shí)施例3
上述實(shí)施例1或2中三層間隙分布的氣化片2間隙距離為2mm ;第一層氣化片2上的氣孔是第二層氣化片2上的氣孔直徑一半；第二層氣化片2上的氣孔是第三層氣化片2上的氣孔直徑一半；第一層氣化片2-1上的氣孔直徑為1.5mm ;第二層氣化片2_2上的氣孔直徑為3mm ;第三層氣化片2-3上的氣孔直徑為6mm ;氣化片2厚度是0.5mm ;氣化片2上設(shè)有導(dǎo)熱管5 ;氣化片2是金、銀、銅或者合金制成的片狀；壓力殼2是耐壓力的不銹鋼材質(zhì)制成。
[0025]實(shí)施例4
上述實(shí)施例3中三層間隙分布的氣化片2間隙距離為2.5mm ;第一層氣化片2上的氣孔是第二層氣化片2上的氣孔直徑一半；第二層氣化片2上的氣孔是第三層氣化片2上的氣孔直徑一半；第一層氣化片2-1上的氣孔直徑為2mm ;第二層氣化片2_2上的氣孔直徑為4mm ;第三層氣化片2-3上的氣孔直徑為8臟，；氣化片2厚度是1mm。
[0026]實(shí)施例5
上述氣化反應(yīng)裝置，壓力殼I內(nèi)設(shè)置一層氣化片2，氣孔3直徑為10mm，氣化片2與霧化器4間隙為15mm，氣化片2厚度是5mm或IOmm或15mm。
[0027]實(shí)施例6
上述氣化反應(yīng)裝置，壓力殼I內(nèi)設(shè)有大于三層間隙分布的氣化片2 ;氣化片2厚度是
0.15mm ;氣化片2間隙距離為3.5mm。
【權(quán)利要求】
1.一種氣化反應(yīng)裝置，包括壓力殼、氣化片、氣孔、霧化器，氣化片設(shè)置在壓力殼上，氣化片上陣列設(shè)有氣孔，壓力殼進(jìn)氣端設(shè)有霧化器。
2.如權(quán)利要求1所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述壓力殼內(nèi)設(shè)有至少一層氣化片；所述氣化片間隙分布。
3.如權(quán)利要求2所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述間隙分布的氣化片間隙距離為
4.如權(quán)利要求2或3所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述間隙分布的氣化片上的氣孔交錯(cuò)分布。
5.如權(quán)利要求4所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述氣孔大小設(shè)置是上一層氣化片上的氣孔是相鄰下一層氣化片上的氣孔直徑一半。
6.如權(quán)利要求5所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述壓力殼上間隙設(shè)置三層氣化片。
7.如權(quán)利要求6所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述第一層氣化片上的氣孔是第二層氣化片上的氣孔直徑一半；第二層氣化片上的氣孔是第三層氣化片上的氣孔直徑一半。
8.如權(quán)利要求6所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述第一層氣化片上的氣孔直徑為1-1Omm ;所述第二層氣化片上的氣孔直徑為2-20mm ;所述第三層氣化片上的氣孔直徑為4-40mmo
9.如權(quán)利要求8所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述氣化片的厚度為0.15-15mm。
10.如權(quán)利要求9所述氣化反應(yīng)裝置，其特征是，所述氣化片最后一層下方的壓力殼出氣端開口 ；所述氣化片上設(shè)有導(dǎo)熱管，導(dǎo)熱管成S型分布或者直列分布在氣化片上；所述氣化片是金屬導(dǎo)熱材料制成；所述壓力殼是金屬導(dǎo)熱材料制成。
【文檔編號(hào)】B01D1/00GK103949075SQ201410177528
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月30日
【發(fā)明者】郭遠(yuǎn)軍 申請人:郭遠(yuǎn)軍