專(zhuān)利名稱(chēng)：污水處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種水處理系統(tǒng)，具體涉及一種污水處理裝置。
背景技術(shù)：
硅屑泥被認(rèn)為是最難處理的無(wú)機(jī)鹽垢之一。濕態(tài)的硅屑泥外觀呈黑色，結(jié)構(gòu)比較 疏松但密度大于水。當(dāng)硅片表面被純水沖刷，硅片表面的硅屑與水混合形成硅屑泥。由于 現(xiàn)有的劃片機(jī)直接連接排水管道，硅屑泥會(huì)與水一起進(jìn)入排水管道內(nèi)。由于排水管道相對(duì) 平直，硅屑泥會(huì)逐漸沉積在排水管道內(nèi)，很容易造成排水管道的堵塞。一旦排水管道堵塞， 會(huì)引起設(shè)備反水，進(jìn)而引發(fā)設(shè)備停機(jī)的事故，這時(shí)就必須疏通排水管道，花費(fèi)大量的時(shí)間、 人力解決管道堵塞的問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種污水處理裝置，它可以將污水中的硅 屑泥與液體分離。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型污水處理裝置的技術(shù)解決方案為包括水槽，水槽一側(cè)設(shè)進(jìn)水口，另一側(cè)設(shè)排水口，進(jìn)水口位于水槽的上部，排水口 位于水槽的下部；水槽內(nèi)的底部設(shè)置有下?lián)跄喟濉Ｋ鏊蹆?nèi)的頂部設(shè)置有上擋泥板，上擋泥板與進(jìn)水口之間的水平距離小于下?lián)?泥板與進(jìn)水口之間的水平距離。所述上、下?lián)跄喟宓目偢叨炔恍∮谒鄣母叨?。所述水槽的底部設(shè)滑輪。所述水槽設(shè)置于硅片劃片機(jī)與其排水管道之間。本實(shí)用新型可以達(dá)到的技術(shù)效果是本實(shí)用新型能夠?qū)⒐杵瑒澠瑱C(jī)排出的污水中的硅屑泥與液體分離，并將硅屑泥暫 存在水槽中，避免硅屑泥進(jìn)入排水管道，能夠從根本上防止排水管道被硅屑泥堵塞，保持排 水管道的通暢。本實(shí)用新型的使用能夠保證排水管道的流量，確保設(shè)備的安全運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)可 持續(xù)生產(chǎn)。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明


圖1是本實(shí)用新型污水處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中附圖標(biāo)記說(shuō)明1為水槽，2為上擋泥板，3為下?lián)跄喟澹?為滑輪，5為進(jìn)水口，6為排水口。
具體實(shí)施方式
如
圖1所示，本實(shí)用新型污水處理裝置，包括水槽1，水槽1 一側(cè)設(shè)進(jìn)水口 5，另一 側(cè)設(shè)排水口 6，進(jìn)水口 5位于水槽1的上部，排水口 6位于水槽1的下部；水槽1底部設(shè)滑 輪4 ；水槽1內(nèi)設(shè)上、下?lián)跄喟?，上擋泥?設(shè)置于水槽1頂部，下?lián)跄喟?設(shè)置于水槽1底 部，上、下?lián)跄喟?、3之間設(shè)有間隙，上擋泥板2與進(jìn)水口 5之間的水平距離小于下?lián)跄喟?3與進(jìn)水口 5之間的水平距離，上、下?lián)跄喟?、3的總高度不小于水槽1的高度。水槽1設(shè)置于硅片劃片機(jī)與其排水管道之間，進(jìn)水口 5與硅片劃片機(jī)之間通過(guò)軟 管連接，出水口 6與排水管道之間通過(guò)法蘭連接。水槽1底部設(shè)有四個(gè)滑輪4，以便于拆卸水槽1進(jìn)行清洗。當(dāng)硅片劃片機(jī)排出的污水從進(jìn)水口 5進(jìn)入水槽1，由于污水中的硅屑泥密度大于 水，在擋泥板2、3的作用下，硅屑泥沉積在水槽1的進(jìn)水側(cè)，實(shí)現(xiàn)硅屑泥與液體的分離；而不 含硅屑泥的液體則通過(guò)上、下?lián)跄喟?、3之間的間隙通過(guò)水槽1的排水側(cè)從排水口 6排出。本實(shí)用新型在使用過(guò)程中只需定期清洗水槽，而無(wú)需再定期對(duì)整個(gè)排水管道進(jìn)行 解體清洗。
權(quán)利要求一種污水處理裝置，其特征在于包括水槽，水槽一側(cè)設(shè)進(jìn)水口，另一側(cè)設(shè)排水口，進(jìn)水口位于水槽的上部，排水口位于水槽的下部；水槽內(nèi)的底部設(shè)置有下?lián)跄喟濉?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污水處理裝置，其特征在于所述水槽內(nèi)的頂部設(shè)置有上擋 泥板，上擋泥板與進(jìn)水口之間的水平距離小于下?lián)跄喟迮c進(jìn)水口之間的水平距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的污水處理裝置，其特征在于所述上、下?lián)跄喟宓目偢叨炔恍?于水槽的高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的污水處理裝置，其特征在于所述水槽的底部設(shè)滑輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的污水處理裝置，其特征在于所述水槽設(shè)置于硅 片劃片機(jī)與其排水管道之間。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種污水處理裝置，包括水槽，水槽一側(cè)設(shè)進(jìn)水口，另一側(cè)設(shè)排水口，進(jìn)水口位于水槽的上部，排水口位于水槽的下部；水槽內(nèi)的底部設(shè)置有下?lián)跄喟?。所述水槽?nèi)的頂部設(shè)置有上擋泥板，上擋泥板與進(jìn)水口之間的水平距離小于下?lián)跄喟迮c進(jìn)水口之間的水平距離。本實(shí)用新型能夠?qū)⒐杵瑒澠瑱C(jī)排出的污水中的硅屑泥與液體分離，并將硅屑泥暫存在水槽中，避免硅屑泥進(jìn)入排水管道，能夠從根本上防止排水管道被硅屑泥堵塞，保持排水管道的通暢。
文檔編號(hào)B01D21/08GK201625442SQ20102003633
公開(kāi)日2010年11月10日 申請(qǐng)日期2010年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月18日
發(fā)明者楊衛(wèi)楓 申請(qǐng)人:上海華虹Nec電子有限公司