專利名稱：：使用來自煙氣的SO₂對(duì)氨進(jìn)行酸洗的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種清潔包含二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的方法，所述方法包括借助于以下步驟從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳在第一步驟中，冷卻該工藝氣體，并且在第二步驟中，使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液(ammoniatedsolution)或者漿液4妄觸從而吸收至少一部分的二氧化碳。本發(fā)明還涉及一種氣體清潔系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠被操作用于清潔包含二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體，所述氣體清潔系統(tǒng)包括一種能夠被操作用于冷卻工藝氣體的組合式冷卻與清潔系統(tǒng)、以及一種包括有C02吸收器的二氧化碳去除系統(tǒng)，通過使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液接觸從而吸收至少一部分的二氧化碳，該C02吸收器能夠被操作用于從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳。
背景技術(shù)：
：在燃燒設(shè)備例如發(fā)電設(shè)備中，在例如煤、油、泥煤、廢料之類的燃料燃燒時(shí)產(chǎn)生熱的工藝氣體，這種熱工藝氣體經(jīng)常被稱作煙氣，除了其它成分以外，煙氣特別是包含二氧化碳，co2。將二氧化碳釋放到大氣的負(fù)面環(huán)境效果已經(jīng)得到廣泛共識(shí)，并且已經(jīng)導(dǎo)致對(duì)適于從在上述燃料燃燒時(shí)產(chǎn)生的熱工藝氣體去除二氧化碳的過程展開研究。WO2006/022885描述了用于從煙氣吸收二氧化碳的一種這樣的過程。在WO2006/022885中描述的過程中，首先借助于常規(guī)的空氣污染控制過程如顆粒收集器、NOx和S02控制器、酸霧捕集裝置等處理煙氣。煙氣然后在常規(guī)的空氣污染控制過程之后具有大約40-70°C的溫度。煙氣然后借助于其中利用冷水冷卻煙氣的直接接觸冷卻而被冷卻至優(yōu)選地0-2(TC。煙氣然后被送至C02吸收器，在該C02吸收器中使得煙氣與貧二氧化碳的低溫氨化漿液或者溶液形成接觸。二氧化碳在氨化漿液或者溶液中被吸收，而且包含著非常少量的污染物和二氧化碳的清潔煙氣離開C02吸收器。富二氧化碳的氨化漿液或者溶液在再生器中再生，在該再生器中在大約50-200。C的溫度下并且在高壓下二氧化碳被剝離以形成被濃縮的富二氧化碳流。在WO2006/022885中描述的過程的一個(gè)問題在于，從C02吸收器釋放的清潔煙氣將會(huì)包含相當(dāng)數(shù)量的氨。在WO2006/022885中，描述了借助于在C02吸收器中的低煙氣溫度、在C02吸收器的漿液中的低NH3/C02比率以及在將煙氣釋放到大氣之前對(duì)煙氣進(jìn)行的冷水清洗，能夠?qū)⑶鍧崯煔獾陌睗舛缺３譃楸M可能得低。這種水清洗能夠?qū)⑶鍧崯煔庵械陌睗舛冉抵链蠹s100至1000ppm的范圍，并且優(yōu)選地降至大約100至400ppm的范圍，對(duì)于將這種煙氣排放到大氣而言，該濃度仍然太高。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種有效率和在環(huán)境方面可接受的、用于從工藝氣體去除二氧化碳的方法。借助于一種清潔包含著二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的方法實(shí)現(xiàn)了這個(gè)目的，所述方法包括借助于以下步驟從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳，在第一步驟中，冷卻該工藝氣體，并且在第二步驟中，使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液接觸從而吸收至少一部分的二氧化碳，該方法特征在于，所述第一步驟包括借助于使得工藝氣體與冷卻液體直接接觸而冷卻工藝氣體，并且將工藝氣體的至少一部分二氧化硫吸收到冷卻液體中，從而獲得包含硫酸鹽的冷卻液體，所述第二步驟包括將已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液相接觸，以從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳，并且形成包含氨的工藝氣體，并且在第三步驟中，借助于使得包含氨的工藝氣體與包含硫酸鹽的冷卻液體直接接觸而從包含氨的工藝氣體至少部分地去除氨。這種方法的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，以有效率方式從工藝氣體去除了二氧化碳，而不使得其它物質(zhì)例如氨被排放到環(huán)境。在第一步驟中冷卻的工藝氣體的二氧化硫被吸收并且被作為這樣一種物質(zhì)而加以利用，所述物質(zhì)使得有可能在第三步驟中有效地從包含氨的工藝氣體去除氨。工藝氣體的一種酸性成分即二氧化硫因此被利用來吸收一種堿性成分，即氨，可以說，氨形成了在第二步驟中被添加到工藝氣體的污染物，從而這兩種成分事實(shí)上相互中和。因此，利用二氧化碳、二氧化硫和氨，工藝氣體被非常有效地清潔，從而工藝氣體可以隨后被釋放到大氣而不引起對(duì)于環(huán)境或者人類健康的負(fù)面效果。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，包含著硫酸鹽的冷卻液體在第三步驟中借助于包含著氨的工藝氣體而被冷卻，由此被冷卻的冷卻液體在第一步驟中被利用來冷卻工藝氣體。在第三步驟中，對(duì)于包含著硫酸鹽的冷卻液體的冷卻使其更加適于作為所述第一步驟中的冷卻介質(zhì)而被再次使用，由此在大的程度上關(guān)閉該過程的液體平衡。包含氨著的工藝氣體將被包含著硫酸鹽的冷卻液體加熱，從而使得工藝氣體更加適于被釋放到大氣。根據(jù)另一實(shí)施例，所述第一步驟包括借助于第一氣體-液體接觸裝置冷卻該工藝氣體并且吸收冷卻液體中的二氧化碌u，并且所述第三步驟包括借助于第二氣體-液體接觸裝置而利用包含著硫酸鹽的冷卻液體從包含著氨的工藝氣體去除氨。該氣體-液體接觸裝置改進(jìn)了在氣體與液體之間的直接接觸，并且增加了在液體與氣體之間的熱交換，以及在冷卻液體中對(duì)二氧化硫和氨的吸收。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，在所述第三步驟中，包含著氨的工藝氣體中的氨和包含著硫酸鹽的冷卻液體中的硫酸鹽在水溶液中至少部分地反應(yīng)以形成硫酸銨。硫酸銨對(duì)于人類健康而言的確是無害的，并且它還是相當(dāng)惰性的，從而是不大可能發(fā)生二氧化硫從冷卻液體的再蒸發(fā)。在適當(dāng)處理之后，石危酸銨可以^皮用作肥料。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，在第一步驟中被利用來冷卻工藝氣體的冷卻液體在熱交換器中被處理以再生能量。這個(gè)實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，可以在該過程的另一個(gè)部分中(例如在其中再生來自C02吸收器的富C02漿液或者溶液的再生器中)使用該能量。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，在第一步驟中獲得的包含著硫酸鹽的冷卻液體的pH值，被控制在大約4至6的pH范圍中。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，這個(gè)pH范圍適合于獲得包含著低濃度的污染物(包括氨)的清潔工藝氣體。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，該工藝氣體在于所述第一步驟中被冷卻之前，在二氧化硫去除裝置中被處理以去除它的二氧化硫含量的一部分，二氧化硫去除裝置的效率受到控制以獲得包括著一定數(shù)量二氧化硫的、將在所述第一步驟中被處理的工藝氣體，基于摩爾數(shù)，所述二氧化硫數(shù)量與將在所述第三步驟中被處理的、包含著氨的工藝氣體中的氨的數(shù)量具有大約1:2的關(guān)系。這個(gè)實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，在第一步驟中被去除的二氧化硫的數(shù)量能夠被控制以對(duì)應(yīng)于包含著硫酸鹽用于在第三步驟中吸收氨的冷卻液體中所需要的數(shù)量。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第二步驟包括借助于水清洗裝置從包含著氨的工藝氣體部分地去除氨，該水清洗裝置的效率受到控制以獲得包括一定數(shù)量氨的、將在所述第三步驟中被處理的包含著氨的工藝氣體，基于摩爾數(shù)，所述氨的數(shù)量與將在所述第一步驟中被處理的工藝氣體的二氧化硫數(shù)量具有大約2:1的關(guān)系。這個(gè)實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，將在第三步驟中被去除的氨的數(shù)量能夠被控制以對(duì)應(yīng)于在第一步驟中在冷卻液體中4皮吸收并且形成包含著斬^酸鹽的冷卻液體的二氧化硫的數(shù)量。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，碌u酸被添加到冷卻液體以控制它的pH值。這個(gè)實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，例如在當(dāng)考慮到將在第三步驟中將要去除的氨的數(shù)量時(shí)在第一步驟中去除的二氧化硫的數(shù)量不足的情況下，硫酸為包含著硫酸鹽的冷卻液體提供了增加的、快速的和低成本的除氨能力。本發(fā)明又一目的在于提供一種氣體清潔系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠被操作用于以有效率和在環(huán)境方面可接受的方式從工藝氣體去除二氧化碳。借助于一種能夠被操作用于清潔包含著二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的氣體清潔系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了這個(gè)目的，所述氣體清潔系統(tǒng)包括一種能夠被操作用于冷卻工藝氣體的組合式冷卻與清潔系統(tǒng)，和一種包括有C02吸收器的二氧化碳去除系統(tǒng)，通過使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液接觸從而吸收至少一部分的二氧化碳，該C02吸收器能夠被操作用于從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳，該氣體清潔系統(tǒng)特征在于，該組合式冷卻與清潔系統(tǒng)包括第一氣體-液體接觸裝置，該第一氣體-液體接觸裝置相對(duì)于工藝氣體的流動(dòng)方向位于C02吸收器的上游，并且能夠被操作用于借助于使得工藝氣體與冷卻液體直接接觸而冷卻工藝氣體，并且將工藝氣體的至少一部分二氧化硫吸收到冷卻液體中，從而獲得包含著^5危酸鹽的冷卻液體，該組合式冷卻與清潔系統(tǒng)進(jìn)一步包括第二氣體-液體接觸裝置，該第二氣體-液體接觸裝置相對(duì)于工藝氣體的流動(dòng)方向位于CCb吸收器的下游，并且能夠被操作用于借助于使得包含著氨的工藝氣體與包含著疏酸鹽并且已被形成于所述第一氣體-液體接觸裝置中的冷卻液體直接接觸而從在co2吸收器中已被處理并且包括著氨的工藝氣體至少部分地去除氨。這個(gè)氣體清潔系統(tǒng)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，對(duì)于去除二氧化硫并且對(duì)于利用形式為包含于冷卻液體中的硫酸鹽的、已被去除的二氧化硫來從工藝氣體去除氨而言，它是有效率的，所述工藝氣體已在二氧化碳去除系統(tǒng)中被處理，并且由于這種處理而包含氨。因此，對(duì)于外部添加劑例如硫酸的需要將是非常有限的。除了分別地作為用于二氧化硫和氨的吸收器，該兩個(gè)氣體-液體接觸裝置還將用作熱傳遞裝置，該熱傳遞裝置能夠被分別地操作用于在工藝氣體于二氧化碳去除系統(tǒng)中被處理之前冷卻工藝氣體，以及，在被釋放到大氣之前加熱工藝氣體。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，第二氣體-液體接觸裝置能夠被操作用于借助于包含著氨的工藝氣體來冷卻包含著硫酸鹽的冷卻液體，液體輸送裝置能夠被操作用于從第二氣體-液體接觸裝置到第一氣體-液體接觸裝置再循環(huán)至少一部分已被冷卻的冷卻液體。這個(gè)實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，液體平衡幾乎是關(guān)閉的，從而在該冷卻液體于第二氣體-液體接觸裝置中被冷卻之后，該冷卻液體在第一氣體-液體接觸裝置中被再次使用。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，該組合式冷卻與清潔系統(tǒng)包括控制裝置，該控制裝置能夠被操作用于控制包含著硫酸鹽的冷卻液體的pH值?？刂瓢蛩猁}的冷卻液體的pH值改進(jìn)了在第二氣體-液體接觸裝置中對(duì)于從包含著氨的工藝氣體去除氨的控制。根據(jù)說明和權(quán)利要求，本發(fā)明進(jìn)一步的目的和特征將會(huì)顯而易見。.參考以下附圖能夠更好地理解本發(fā)明的很多方面。在圖中的構(gòu)件未必按照比例，而是在清楚地圖解本發(fā)明的原理時(shí)予以強(qiáng)調(diào)。而且，在圖中，相似的引用數(shù)字在所有的幾個(gè)視圖中標(biāo)識(shí)相對(duì)應(yīng)的部件?，F(xiàn)在將參考附圖更加詳細(xì)地描述本發(fā)明，其中圖1是描繪電力設(shè)備的一個(gè)實(shí)例的概略側(cè)視圖。圖2是描繪組合式冷卻與清潔系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)例的概略側(cè)視圖。圖3是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的方法的主要步驟的概略示意圖。具體實(shí)施例方式如在本說明全文中使用地，單位"ppm"指的是按照體積的每百萬份數(shù)。圖1是概略側(cè)視圖并且圖示從其一側(cè)看到的電力設(shè)備1。電力設(shè)備1包括鍋爐2。在例如煤或者油這樣的燃料燃燒期間，在鍋爐2中產(chǎn)生經(jīng)常被稱作煙氣的熱工藝氣體。包含污染物質(zhì)(包括塵土顆粒、二氧化硫S02、三氧化硫S03、和二氧化碳C02)的煙氣經(jīng)由氣體管道4離開鍋爐2。氣體管道4能夠被操作用于將煙氣轉(zhuǎn)送到常規(guī)的空氣污染控制系統(tǒng)6。該常規(guī)的空氣污染控制系統(tǒng)6包括形式為例如靜電除塵器這樣的塵土收集器8,在US4,502，872中描述了靜電除塵器的一個(gè)實(shí)例。進(jìn)而，常規(guī)的空氣污染控制系統(tǒng)6包括管道10，管道10能夠被操作用于將煙氣從塵土收集器8轉(zhuǎn)送到形式為濕式洗滌器的、有時(shí)被稱作煙氣脫硫系統(tǒng)(FGD)的二氧化硫去除裝置12。能夠在EP0162536Al中發(fā)現(xiàn)濕式洗滌器的一個(gè)實(shí)例。在這種濕式洗滌器中，借助于使得煙氣與石灰漿接觸而從煙氣去除二氧化硫。在燃煤或者燃油的電力設(shè)備中的煙氣包含著當(dāng)富硫煤或者油燃燒時(shí)形成的S02。在典型的電力設(shè)備中，在二氧化硫去除裝置12中捕集到大約90至98%的S02,并且煙氣在離開這種二氧化硫去除裝置12時(shí)通常包含大約20至200ppm的S02。二氧化硫去除裝置12也能夠是所謂的干式系統(tǒng)，在WO2004/026443Al中例解了它的一個(gè)實(shí)例，其中煙氣與被潤濕的吸收性材料相接觸。常規(guī)的空氣污染控制系統(tǒng)6能夠包括另外的裝置，諸如用于從煙氣去除氮氧化物的例如在US5,555,849中所述類型的選4奪性催化還原反應(yīng)器，為了使得圖示清楚的原因，這種另外的裝置在圖1中未示出。包括有非常少量的大多數(shù)種類的污染物、但是其中大部分為具有初始濃度二氧化碳的煙氣經(jīng)由管道14離開常規(guī)的空氣污染控制系統(tǒng)6。管道14能夠被操作用于將煙氣轉(zhuǎn)送到將在下文中更加詳細(xì)地描述的組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16。在管道14中轉(zhuǎn)送的煙氣通常具有49至60。C(120至14(TF)的溫度、處于環(huán)境壓力下，并且是水飽和的。煙氣經(jīng)由管道18離開組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16。在管道18中的煙氣具有0至20。C、優(yōu)選地為0至l(TC的溫度。管道18能夠被操作用于將煙氣轉(zhuǎn)送到二氧化碳去除系統(tǒng)20。二氧化碳去除系統(tǒng)20相當(dāng)?shù)仡愃朴趨⒖季哂猩暾?qǐng)?zhí)朠CT/US2005/012794的WO2006/022885的圖1而說明的二氧化碳去除系統(tǒng)。在WO2006/022885中說明的那種二氧化碳去除系統(tǒng)類型有時(shí)被稱作冷氨過程(ChilledAmmoniaProcess)CAP。0至20。C、優(yōu)選地為0至l(TC的煙氣溫度適用于二氧化碳去除系統(tǒng)20。因此，參考本申請(qǐng)的圖1，二氧化碳去除系統(tǒng)20包括C02吸收器22,其中以與在WO2006/022885中所述類似的方式使得煙氣與氨化漿液或者溶液形成接觸。管路24能夠被操作用于借助于高壓泵(為了清楚起見在圖1中未示意)將富C02漿液或者溶液從C02吸收器22轉(zhuǎn)送到再生器26。利用加熱器30中的加熱流28向再生器26供熱。在再生器26中的高壓和高溫引起高壓氣態(tài)C02流32被釋放。管路34能夠被操作用于將已在冷卻器(圖1中未示意)中冷卻的貧C02氨化溶液或者漿液從再生器26返回到C02吸收器22。管道36能夠被操作用于將具有低濃度二氧化碳的煙氣從C02吸收器22轉(zhuǎn)送到水清洗容器38,水清洗容器38是可選的并且能夠被操作用于從已在C02吸收器22中經(jīng)過處理的煙氣去除氨，NH3。水清洗容器38能夠與在WO2006/022885中參考那件申請(qǐng)的圖3作為附圖標(biāo)記356所描述的水清洗容器具有類似的設(shè)計(jì)。返回本申請(qǐng)的圖1，冷水或者冷的并且稍;微酸性的溶液的液流40在熱交換器42中被冷卻并且被供應(yīng)到水清洗容器38。管道44能夠被操作用于將已在水清洗容器38中經(jīng)過清潔的煙氣轉(zhuǎn)送到組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16,用以如將在下文中更加詳細(xì)描述的那樣進(jìn)行進(jìn)一步的清潔。管道46能夠被操作用于將已在組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16中被進(jìn)一步清潔的煙氣轉(zhuǎn)送到將已被清潔的煙氣釋放到大氣的煙道48。圖2更加詳細(xì)地示意組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16。來自二氧化硫去除裝置12的煙氣經(jīng)由在前文中已經(jīng)參考圖1說明的管道14進(jìn)入組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16。煙氣首先到達(dá)形式為具有塔形的第一直接接觸冷卻器50的第一氣體-液體接觸裝置。通過使其與形式為經(jīng)由管路52供應(yīng)的、具有例如20.5。C[69下]的溫度的冷卻水的冷卻液體直接地接觸，第一直接接觸冷卻器50能夠被操作用于有效率地冷卻煙氣。一組噴嘴54能夠被操作用于在能夠具有結(jié)構(gòu)填料或者另一種適當(dāng)類型的氣體-液體接觸填充物的形式的接觸裝置56之上分配冷卻水。具有例如57。C[135下]的溫度的煙氣經(jīng)由氣體進(jìn)口58進(jìn)入第一直接接觸冷卻器50并且通過接觸裝置56而被向上轉(zhuǎn)送。煙氣經(jīng)由氣體出口60在2rC[70。F]的溫度下離開第一直接接觸冷卻器50。在熱交換下，冷卻水和煙氣在接觸裝置56中相互接觸。在位于第一直接接觸冷卻器50的底部處的罐62中收集暖熱的冷卻水。在罐62中收集的冷卻水具有例如55.5。C[132。F]的溫度。薄霧消除器64位于該組噴嘴54上方，其目的在于收集被煙氣夾帶的水滴。第一直接接觸冷卻器50是一種被設(shè)計(jì)成在容器的兩端上實(shí)現(xiàn)低的溫差的逆流氣體-液體接觸容器。在第一直接接觸冷卻器50的頂部處，即，在經(jīng)由管路52供應(yīng)的冷的冷卻水與將要經(jīng)由氣體出口60離開第一直接接觸冷卻器50的煙氣之間的溫差被設(shè)計(jì)成小于3°C[5下]，并且優(yōu)選地大約0.6。C[1。F]。類似地，在第一直接接觸冷卻器50的底部處，即，在收集于罐62中以進(jìn)一步輸送的暖熱的冷卻水與將要經(jīng)由氣體進(jìn)口58進(jìn)入第一直接接觸冷卻器50的煙氣之間的溫差被設(shè)計(jì)成小于3'C[5。F]，并且優(yōu)選地大約0.6。C[1。F]。降低溫差引起煙氣的最大冷卻和冷卻水的最大加熱。降低將要經(jīng)由氣體出口60離開第一直接接觸冷卻器50的煙氣的溫度節(jié)約了在該過程下游處的冷卻電力。管道66能夠被操作用于將來自氣體出口60的煙氣轉(zhuǎn)送到第一間接冷卻器68和第二間接冷卻器70。管路72將冷卻液體供應(yīng)到第一間接冷卻器68并且供應(yīng)到致冷器74。致冷器74在將冷卻液體供應(yīng)到第二間^接冷卻器70之前進(jìn)一步冷卻該冷卻液體。管^各76^人第一和第二間接冷卻器68、70返回已被用過的冷卻液體。能夠在圖2中未示出的冷卻塔中對(duì)于在管道72、76中循環(huán)著的冷卻液體進(jìn)行冷卻在前文已經(jīng)參考圖1而描述的管道18能夠被操作用于將具有0至20°C、優(yōu)選地為0至l(TC的所需溫度的煙氣從第二間接冷卻器70轉(zhuǎn)送到也已經(jīng)在前面參考圖1描述的二氧化碳去除系統(tǒng)20。泵78能夠被操作用于經(jīng)由管路80將收集于第一直接接觸冷卻器50的罐62中的暖熱冷卻水轉(zhuǎn)送到熱交換器82。在熱交換器82中，暖熱的冷卻水被從大約55.5。C[132。F]冷卻至例如大約35。C[95。F]。因此，暖熱的冷卻水被用作在該過程中將要在別處利用的熱源。因此，否則將被浪費(fèi)并且在冷卻塔84中排除的熱量被轉(zhuǎn)移到熱交換器82并且被用于再生。在管路80中轉(zhuǎn)送的、較高溫度的暖熱的冷卻水改進(jìn)了廢能利用并且因此改進(jìn)了電力設(shè)備1的總體能量效率。管路86能夠被操作用于將冷卻水從熱交換器82轉(zhuǎn)送到冷卻塔84。在熱交換器82中出于有用目的而未被排除的熱量在冷卻塔84中作為廢能而被排除。周邊空氣經(jīng)由進(jìn)口管道88而被供應(yīng)到冷卻塔84并且根據(jù)為人熟知的冷卻塔原理而對(duì)暖熱的冷卻水進(jìn)行冷卻。被加熱的周邊空氣經(jīng)由出口管道90離開冷卻塔84。具有大約25。C[77。F]的溫度的已被冷卻的冷卻液體經(jīng)由管路92離開冷卻塔84。組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16還包括形式為具有塔形的第二直接接觸冷卻器94的第二氣體-液體接觸裝置。第二直接接觸冷卻器94能夠卻借助于管路92而;皮供應(yīng)到第li接接觸冷卻器94的冷卻液體，所述冷卻煙氣已經(jīng)流經(jīng)參考圖1說明的整個(gè)二氧化碳去除系統(tǒng)20并且利用在前文中已經(jīng)參考圖1描述的管道44而被轉(zhuǎn)送到第二直接接觸冷卻器94的氣體入口96。已經(jīng)在二氧化碳去除系統(tǒng)20中去除煙氣中的大多數(shù)二氧化碳，當(dāng)該煙氣進(jìn)入氣體入口96時(shí)，具有例如5。C[41下]的溫度。一組噴嘴98能夠被操作用于在可以類似于接觸裝置56的接觸裝置100之上分配由管^各92供應(yīng)的冷卻水。經(jīng)由氣體入口96進(jìn)入的煙氣被向上轉(zhuǎn)送，通過接觸裝置100，并且經(jīng)由氣體出口102在24.5。C[76°F]的溫度下離開第二直接接觸冷卻器94。氣體出口102被連接到管道46,該管道46在前文中已經(jīng)參考圖l描述的并且能夠被操作用于將來自組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16的清潔煙氣轉(zhuǎn)送到煙道48。在熱交換下，冷卻水和煙氣在接觸裝置100中相互接觸。在位于第二直*接接觸冷卻器94的底部處的罐104中收集已被冷卻的冷卻水。如在前文參考管路52所述，在罐104中收集的冷卻水具有例如20.5°C[69。F]的溫度。泵106能夠被操作用于經(jīng)由管路52將冷卻水從罐104轉(zhuǎn)送到第一直接接觸冷卻器50。薄霧消除器108位于該組噴嘴98上方，其目的在于收集被煙氣夾帶的水滴。第二直接接觸冷卻器94是被設(shè)計(jì)成在容器的兩端上實(shí)現(xiàn)低的溫差的一種逆流氣體-液體接觸容器。在第二直接接觸冷卻器94的頂部處，即，在經(jīng)由管路92供應(yīng)的冷卻水與將要經(jīng)由氣體出口102離開第二直接接觸冷卻器94的煙氣之間的溫差被設(shè)計(jì)成小于3°C[5°F],并且優(yōu)選地為大約0.6。C[1。F]。清潔煙氣的較高溫度改進(jìn)了它的浮力并且降低了再加熱負(fù)荷，該再加熱負(fù)荷即，如果需要的話，將清潔煙氣加熱到特定溫度所需的熱量輸入。下表總結(jié)了冷卻水和煙氣在經(jīng)過組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16時(shí)經(jīng)歷的溫度變化<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>表格2:在不同位置處的冷卻水溫度總之，第一直接接觸冷卻器50借助于冷卻水和冷卻塔84冷卻來自在前文中參考圖1描述的常規(guī)的空氣污染控制系統(tǒng)6的煙氣，該冷卻水在熱交換器82中被冷卻。借助于與來自在前面參考圖1描述的二氧化碳去除系統(tǒng)20的冷卻煙氣4妻觸，該冷卻水在第二直接接觸冷卻器94中被進(jìn)一步冷卻。在管道14中轉(zhuǎn)送的煙氣包含著在前文中參考圖1描述的二氧化硫去除裝置12中未被捕集的殘余二氧化硫，S02。第一直接接觸冷卻器50也是一種在低溫下并且在大約4至6的pH范圍中操作的高效率S02吸收器。將S02吸收到包含水的冷卻液體中使得冷卻液體是稍微酸性的。以下主要反應(yīng)能夠例解所述吸收S02(g)+H20=>H2S03(aq)實(shí)際上，將會(huì)在第一直接接觸冷卻器50中捕集煙氣中的全部殘余S02,以及大部分的三氧化石危S03。pH控制要求將在以后解釋的平衡作用。由于S02在煙氣中的濃度低，如前所述，在管道14中轉(zhuǎn)送的煙氣中的S02的濃度將通常為20至200ppm，所以通過在冷卻水中吸收S02而在第一直接接觸冷卻器50中形成的亞硫酸鹽S032-(aq)將自然地被氧化成硫酸鹽。能夠通過借助于空氣管路110將少量的空氣以氣泡形式輸送至第一直接接觸冷卻器50的底部而提供氧化增強(qiáng)作用，如果需要。氧化反應(yīng)能夠按照以下主要反應(yīng)發(fā)生H2S03(aq)+1/202(g)=>H2S04(aq)如此形成的硫酸H2S04將在水溶液中分離，并且將降低冷卻水的pH。由于S02吸收，經(jīng)由管路80離開第一直接接觸冷卻器50的冷卻水具有相當(dāng)?shù)偷膒H，并且如將在下文中描述地，被利用來在第二直接接觸冷卻器94中從經(jīng)由管道44而被/人二氧化碳去除系統(tǒng)20轉(zhuǎn)送的煙氣去除氨。已經(jīng)被去除了大部分二氧化碳的煙氣經(jīng)由氣體入口96進(jìn)入第二直接接觸冷卻器94。根據(jù)氨清洗系統(tǒng)，即，在前面參考圖l描述的水清洗容器38的設(shè)計(jì)和操作條件，進(jìn)入第二直接接觸冷卻器94的煙氣包含大約100至1000ppm的氨，NH"并且更加一般地為200至400ppm的煙氣的氨濃度應(yīng)該低于大約10ppm,并且優(yōu)選地小于大約lppm。這能夠在第二直接接觸冷卻器94中實(shí)現(xiàn)。在管路92中從冷卻塔84被轉(zhuǎn)送到第二直接接觸冷卻器94的冷卻水具有大約4至6的pH,這是因?yàn)槔鋮s水已經(jīng)在第一直接接觸冷卻器50中吸收了二氧化硫，S02。因此，酸源是煙氣中的S02。稍微酸性的冷卻水被用于從經(jīng)由氣體入口96進(jìn)入第二直接接觸冷卻器94的煙氣捕集氨并且用于在將其釋放到大氣之前再次加熱這個(gè)煙氣。因此，第二直接接觸冷卻器94被利用來對(duì)于來自已經(jīng)流經(jīng)在前文參考圖1描述的二氧化碳去除系統(tǒng)20的煙氣的氨進(jìn)行酸洗，并且利用在這種煙氣進(jìn)入二氧化碳去除系統(tǒng)20之前已從煙氣去除的、并且在第一直接接觸冷卻器50中已被氧化成硫酸鹽的S02作為這個(gè)酸洗二氧化硫的來源。經(jīng)由管路92供應(yīng)到第二直接接觸冷卻器94的稍微酸性的冷卻水是用于經(jīng)由管道44和氣體入口96供應(yīng)的煙氣的高度可溶的低濃度氣態(tài)氨的優(yōu)良吸收劑。如由以下反應(yīng)所示意地，經(jīng)由管道44供應(yīng)的煙氣的氨NH3與經(jīng)由管路92供應(yīng)的冷卻水的、已被氧化的S02即硫酸鹽反應(yīng)以形成被溶解的硫酸銨鹽(NH4)2S04,:2NH3(g)+H2S04(aq)=〉(NH4)2S04(aq)為與從1摩爾的S02形成的硫酸反應(yīng)，需用2摩爾的氨，即，按照摩爾數(shù)，在經(jīng)由管道14供應(yīng)到第一直接接觸冷卻器50的煙氣中的S02與經(jīng)由管道44供應(yīng)到第二直接接觸冷卻器94的氨之間的理想關(guān)系優(yōu)選地是l:2。經(jīng)由管道14供應(yīng)到第一直接接觸冷卻器50的煙氣流的體積比經(jīng)由管道44供應(yīng)到第二直接接觸冷卻器94的煙氣流的體積大出大約10%(干燥體積)。據(jù)此，當(dāng)被供應(yīng)到第一直接接觸冷卻器50的煙氣包含著例如100ppm(基于干燥狀態(tài))的S02時(shí)，它將與大約220ppm(基于干燥狀態(tài))的、經(jīng)由管道"被供應(yīng)到第二直接接觸冷卻器94的煙氣的氨反應(yīng)并且將其中和。如果經(jīng)由管道14被供應(yīng)到第一直接接觸冷卻器50的煙氣的二氧化硫S02的數(shù)量小于與被從該過程(即在前文中參考圖1說明的二氧化碳去除系統(tǒng)20中發(fā)生的二氧化碳去除過程)排出的、并且被包含于供應(yīng)到第二直接接觸冷卻器94的煙氣中的氨進(jìn)行反應(yīng)和中和所需的數(shù)量，則需要平衡作用。兩種選擇是優(yōu)選的1.調(diào)節(jié)(降低)在前文中參考圖1說明的二氧化硫去除系統(tǒng)12的去除效率，從而允許它以與氨充分反應(yīng)所需的足夠濃度排放更多的S02。因此，二氧化硫去除系統(tǒng)12的去除效率^皮特意地降低，從而在第一直接接觸冷卻器50中去除較多的二氧化硫S02,以使得經(jīng)由管路92^皮供應(yīng)到第二接觸反應(yīng)器94的冷卻水更加酸性。2.將硫酸添加到循環(huán)以保持pH。酸能夠在循環(huán)的任何位置處被添加，并且優(yōu)選地被添加到第一直接接觸冷卻器50的底部。在圖2中，管路112能夠被操作用于將硫酸供應(yīng)到罐62。如果經(jīng)由管道44被供應(yīng)到第二直接接觸冷卻器94的煙氣中的NH3的數(shù)量小于與從在前文中參考圖1說明的二氧化疏去除系統(tǒng)12排出的S02所形成的硫酸進(jìn)行反應(yīng)并且中和該硫酸所需的數(shù)量，則能夠通過調(diào)節(jié)在前文中參考圖1描述的氨的水洗、即水清洗容器38的操作而增加氨濃度，從而使得進(jìn)入第二直接接觸冷卻器94的煙氣包含更多的氨?？商娲?，或者另外地，能夠通過提高二氧化硫去除裝置12的效率而降低S02的濃度。作為經(jīng)由管路114離開第二直接接觸冷卻器94的罐104的漏液流，從組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16去除在冷卻水中形成的疏酸銨。可以作為補(bǔ)充而供應(yīng)新鮮的水以在組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16中保持液體體積恒定?？刂蒲b置116可以是能夠被操作用于控制組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16的操作的。pH計(jì)118能夠被操作用于測量經(jīng)由管路80離開第一直接接觸冷卻器50的暖熱的冷卻水的pH并且用于向控制裝置116發(fā)送包含著有關(guān)測得pH信息的信號(hào)。響應(yīng)于這種信號(hào)，控制裝置116可以控制經(jīng)由管路112的硫酸供應(yīng)。另外地，或者作為可替代方案，控制裝置116可以控制二氧化硫去除裝置12和/或水清洗容器38,在前面已經(jīng)參考圖l對(duì)這兩者進(jìn)行了說明。再進(jìn)一步，在當(dāng)測得pH變得太低并且必須被快速地增加時(shí)的情形中，控制裝置116還可以經(jīng)由管路112或者優(yōu)選地經(jīng)由分離的管路控制堿(例如氫氧化鈉溶液)的供應(yīng)?？刂蒲b置116還可以接收來自氨濃度分析器120的信號(hào)，分析器120能夠被操作用于測量在離開組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16的煙氣中的氨的濃度。根據(jù)從pH計(jì)118接收到的信號(hào)，控制裝置116可以如在以下表格3中所示意地給出不同的命令<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>低于設(shè)定點(diǎn)命令增加二氧化硫去除裝置12的效率，和/或命令降低水洗容器38的效率，和/或命令向冷卻液體供應(yīng)磁<表格3:控制裝置116作出的決定如果來自氨濃度分析器120的信號(hào)示意氨的濃度正在接近排放限制，則控制裝置116可以決定降低pH設(shè)定點(diǎn)，例如，降低至設(shè)定點(diǎn)pH4.5,以提高第二直接接觸冷卻器94的氨去除效率。因此，第一直接接觸冷卻器50用于冷卻經(jīng)由管道14供應(yīng)的煙氣，以從這個(gè)煙氣去除二氧化硫S02,并且產(chǎn)生稍微酸性的并且被加熱的冷卻水，在熱交換器82中能夠從該冷卻水中恢復(fù)熱量。第二直接接觸冷卻器94用于加熱經(jīng)由管道44供應(yīng)的煙氣，以利用在第一直^t矣接觸冷卻器50中獲得的稍微酸性的冷卻水從這個(gè)煙氣去除氨NH3，該稍微酸性的冷卻水由此被中和，并且冷卻經(jīng)由管路92供應(yīng)的冷卻水。圖3以概略方式示出本發(fā)明方法的一個(gè)實(shí)施例的主要步驟。所述清潔工藝氣體的方法包括三個(gè)主要步驟。在第一氣體-液體接觸裝置250中執(zhí)行的第一步驟包括借助于使得工藝氣體與經(jīng)由管路252供應(yīng)的冷卻液體直接接觸而冷卻經(jīng)由管道214供應(yīng)的工藝氣體。在冷卻期間，工藝氣體的二氧化^e危的至少一個(gè)部分被冷卻液體吸收，從而形成包含著硫酸鹽的冷卻液體。包含著硫酸鹽的這個(gè)冷卻液體經(jīng)由管路280離開第一氣體-液體接觸裝置250。具有大約0至2(TC的溫度的已冷卻工藝氣體經(jīng)由管道218離開第一氣體-液體接觸裝置250。在C02吸收器222中執(zhí)行的第二步驟中，使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液形成接觸。C02吸收器222的操作能夠與在文獻(xiàn)WO2006/022885中參考在該篇文獻(xiàn)中具有附圖標(biāo)記134的C02吸收器所述的類似，并且也與在前面已經(jīng)參考本說明的圖l所述的類似。再生器將被利用，但是為了圖示清楚的原因，在圖3中未被示出。已經(jīng)被去除至少一部分的二氧化碳的工藝氣體經(jīng)由管道244離開C02吸收器222。由于在C。2吸收器222中發(fā)生的過程，經(jīng)由管道244離開C02吸收器222的工藝氣體將包含一些氨，通常為大約100至1000ppm的氨。在第二氣體-液體接觸裝置294中執(zhí)行的第三步驟中，使得經(jīng)由管道244供應(yīng)的包含著氨的工藝氣體與借助于管路280而被供應(yīng)到第二氣體-液體接觸裝置294的、包含著硫酸鹽的冷卻液體形成接觸。冷卻器282(例如熱交換器和/或冷卻塔)被連接到管路280并且能夠被操作用于在包含著硫酸鹽的冷卻液體被引入第二氣體-液體接觸裝置294之前冷卻該冷卻液體。在第二氣體-液體接觸裝置294中，包含著氨的工藝氣體中的氨被至少部分地吸收到包含著硫酸鹽的冷卻液體中。同時(shí)，包含著氨的工藝氣體冷卻包含著硫酸鹽的冷卻液體。包含著硫酸鹽的冷卻液體經(jīng)由管路252離開第二氣體-液體接觸裝置294，并且被再循環(huán)以返回第一氣體-液體接觸裝置250。已經(jīng)被去除氨的工藝氣體經(jīng)由清潔氣體管道246離開第二氣體-液體接觸裝置294,并且可以被釋放到大氣。將會(huì)理解，在循環(huán)冷卻液體中的硫酸銨的濃度將隨著時(shí)間增加，并且將需要一種在圖3中未圖示的漏泄裝置(bleed-off)。進(jìn)而，并且在圖3中也未示出，可能有必要添加一些液體以補(bǔ)償在漏泄裝置中損失的液體?？傊軌虮徊僮饔糜谇鍧嵃趸己投趸虻墓に嚉怏w的氣體清潔系統(tǒng)1包括組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16和C02吸收器22。組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16包括第一氣體-液體接觸裝置50，第一氣體-液體接觸裝置50位于C02吸收器22上游并且能夠被操作用于借助于冷卻液體來冷卻工藝氣體，并且用于將工藝氣體的二氧化硫吸收到冷卻液體中，從而獲得包含著硫酸鹽的冷卻液體。組合式冷卻與清潔系統(tǒng)16還包括第二氣體-液體接觸裝置94,第二氣體-液體接觸裝置94位于C02吸收器22的下游并且能夠被操作用于借助于使得包含著氨的工藝氣體與包含著硫酸鹽的冷卻液體接觸而從已在C02吸收器22中經(jīng)過處理的工藝氣體去除氨。雖然已經(jīng)參考多個(gè)優(yōu)選實(shí)施例描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，可以作出各種改變，并且等價(jià)形式可以替代其元件而不偏離本發(fā)明的范圍。另外，可以作出很多修改以使得具體情況或者材料適合于本發(fā)明的教導(dǎo)而不偏離其實(shí)質(zhì)范圍。因此，期望本發(fā)明不被限于作為為了執(zhí)行本發(fā)明而被考慮的最佳模式披露的具體實(shí)施例，而是本發(fā)明將包括落入所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有實(shí)施例。而且，術(shù)語"第一"、"第二"等等的使用并不表示任何次序或者重要性，而是實(shí)際上術(shù)語"第一"、"第二"等等被用于將元件相互區(qū)分開來。權(quán)利要求1.一種清潔包含著二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的方法，所述方法包括，通過冷卻工藝氣體并且使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液接觸以吸收至少一部分的二氧化碳，而從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳，所述方法包括以下步驟通過使得工藝氣體與冷卻液體直接接觸而冷卻工藝氣體，并且將工藝氣體的至少一部分二氧化硫吸收到冷卻液體中，從而獲得包含著硫酸鹽的冷卻液體，使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液相接觸，以從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳，并且形成包含著氨的工藝氣體，和通過使得包含著氨的工藝氣體與包含著硫酸鹽的冷卻液體直接接觸而從包含著氨的工藝氣體至少部分地去除氨。2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，利用包含著氨的工藝氣體冷卻包含著硫酸鹽的冷卻液體，在冷卻工藝氣體時(shí)利用由此所冷卻的冷卻液體。3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，通過使用第一氣體-液體接觸裝置(50;250)冷卻工藝氣體并且吸收冷卻液體中的二氧化石克，并且其中，通過使用第二氣體-液體接觸裝置(94;294)而利用包含著硫酸鹽的冷卻液體來從包含著氨的工藝氣體去除氨。4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，包含著氨的工藝氣體中的氨和包含著碌u酸鹽的冷卻液體中的硫酸鹽在水溶液中至少部分地反應(yīng)以形成》克酸銨。5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，被利用來冷卻工藝氣體的冷卻液體在熱交換器(82)中被處理以恢復(fù)能量。6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，包含著硫酸鹽的冷卻液體的pH值被控制在大約4至6的pH范圍中。7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，工藝氣體在被冷卻之前，在二氧化硫去除裝置(12)中被處理以去除它的二氧化硫含量的一部分，二氧化硫去除裝置(12)的效率受到控制以獲得包括一定數(shù)量的二氧化硫的工藝氣體，基于摩爾數(shù)，所述二氧化硫的數(shù)量與包含著氨的工藝氣體中的氨的數(shù)量具有大約1:2的關(guān)系。8.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，利用水清洗裝置(38)從包含著氨的工藝氣體部分地去除氨，水清洗裝置(38)的效率受到控制以獲得包括一定數(shù)量的氨的工藝氣體，基于摩爾數(shù)，所述氨的數(shù)量與工藝氣體中的二氧化硫的數(shù)量具有大約2:l的關(guān)系。9.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，硫酸被添加到冷卻液體以控制冷卻液體的pH值。10.—種用于清潔包含著二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的氣體清潔系統(tǒng)，所述氣體清潔系統(tǒng)包括能夠被操作用于冷卻工藝氣體的組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16);二氧化碳去除系統(tǒng)(20);C02吸收器(22),通過使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液接觸從而吸收至少一部分的二氧化碳，所述co2吸收器能夠被操作用于從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳；組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16)包括第一氣體-液體接觸裝置(50;250),所述第一氣體-液體接觸裝置相對(duì)于工藝氣體的流動(dòng)方向位于002吸收器(22;222)的上游，并且能夠被操作用于通過使得工藝氣體與冷卻液體直接接觸而冷卻工藝氣體，并且將工藝氣體的至少一部分二氧化硫吸收到冷卻液體中，從而獲得包含著碌^酸鹽的冷卻液體，組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16)還包括第二氣體-液體接觸裝置(94;294),所述第二氣體-液體接觸裝置相對(duì)于工藝氣體的流動(dòng)方向位于C02吸收器(22;222)的下游，并且能夠被操作用于通過使得包含著氨的工藝氣體與包含硫酸鹽并且已形成于第一氣體-液體接觸裝置(50;250)中的冷卻液體直接接觸而從已在C02吸收器(22;222)中經(jīng)過處理并且包括氨的工藝氣體中至少部分地去除氨。11.根據(jù)權(quán)利要求10的氣體清潔系統(tǒng)，其中，第二氣體-液體接觸裝置(94;294)能夠被操作用于利用包含著氨的工藝氣體來冷卻包含著硫酸鹽的冷卻液體，并且其中，液體輸送裝置(52，106)能夠被操作用于從第二氣體-液體接觸裝置(94;294)到第一氣體-液體接觸裝置(50;250)再循環(huán)至少一部分已被冷卻的冷卻液體。12.根據(jù)權(quán)利要求10的氣體清潔系統(tǒng)，其還包括二氧化硫去除裝置(12),所述二氧化硫去除裝置相對(duì)于工藝氣體的流動(dòng)方向位于第一氣體-液體接觸裝置(50;250)的上游，并且能夠被操作用于去除工藝氣體的二氧化硫含量的一部分，二氧化硫去除裝置(12)的效率能夠受到控制以獲得包括一定數(shù)量的二氧化硫的、將在所述第一氣體-液體接觸裝置(50;250)中被處理的工藝氣體，基于摩爾數(shù)，所述二氧化硫數(shù)量與將在第二氣體-液體接觸裝置(94;294)中被處理的、包含著氨的工藝氣體中的氨的數(shù)量具有大約1:2的關(guān)系。13.根據(jù)權(quán)利要求IO的氣體清潔系統(tǒng)，其中所述二氧化碳去除裝置(20)還包括水清洗裝置(38)，所述水清洗裝置相對(duì)于工藝氣體的流動(dòng)方向位于第二氣體-液體接觸裝置(94;294)的上游，并且能夠被操作用于去除包含著氨的工藝氣體中的氨含量的一部分，水清洗裝置(38)的效率能夠受到控制以獲得包括一定數(shù)量的氨的、將在所述第二氣體-液體接觸裝置(94;294)中被處理的工藝氣體，基于摩爾數(shù)，所述氨的數(shù)量與將在所述第一氣體-液體接觸裝置(50;250)中被處理的工藝氣體中的二氧化硫的數(shù)量具有大約2:1的關(guān)系。14.根據(jù)權(quán)利要求IO的氣體清潔系統(tǒng)，其中組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16)包括控制裝置(116),所述控制裝置能夠被操作用于控制包含著硫酸鹽的冷卻液體的pH值。15.根據(jù)權(quán)利要求IO的氣體清潔系統(tǒng)，其中組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16)包括熱交換器(82)，所述熱交換器能夠被操作用于從已在第一氣體-液體接觸裝置(50;250)中被利用來冷卻工藝氣體的冷卻液體恢復(fù)能量。16.—種清潔包含著二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的方法，所述方法包括以下步驟通過冷卻工藝氣體而從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳；和使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液接觸，以吸收至少一部分的二氧化碳。17.—種清潔包含著二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的方法，所述方法包括以下步驟通過使得工藝氣體與冷卻液體直接接觸而冷卻工藝氣體，并且將工藝氣體的至少一部分二氧化硫吸收到冷卻液體中，從而獲得包含著碌,酸鹽的冷卻液體，使得已冷卻工藝氣體與氨化溶液或者漿液相接觸，以從工藝氣體至少部分地去除二氧化碳，并且形成包含著氨的工藝氣體，和通過使得包含著氨的工藝氣體與包含著硫酸鹽的冷卻液體直接接觸而從包含著氨的工藝氣體至少部分地去除氨。全文摘要一種能夠被操作用于清潔包含著二氧化碳和二氧化硫的工藝氣體的氣體清潔系統(tǒng)，包括組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16)和CO₂吸收器。組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16)包括第一氣體-液體接觸裝置(50)，該第一氣體-液體接觸裝置位于CO₂吸收器的上游，并且能夠被操作用于借助于冷卻液體來冷卻工藝氣體，并且將工藝氣體的二氧化硫吸收到冷卻液體中，從而獲得包含著硫酸鹽的冷卻液體。組合式冷卻與清潔系統(tǒng)(16)還包括第二氣體-液體接觸裝置(94)，該第二氣體-液體接觸裝置位于CO₂吸收器的下游，并且能夠被操作用于通過使得包含著氨的工藝氣體與包含著硫酸鹽的冷卻液體接觸而從已在CO₂吸收器中經(jīng)過處理的工藝氣體去除氨。文檔編號(hào)B01D53/50GK101600489SQ200880003750公開日2009年12月9日申請(qǐng)日期2008年1月21日優(yōu)先權(quán)日2007年1月31日發(fā)明者E·加爾申請(qǐng)人:阿爾斯托姆科技有限公司