專利名稱：處理氣體流的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過(guò)將硫化氯轉(zhuǎn)化為硫代硫酸銨實(shí)現(xiàn)從包含二氧化 碳的氣體中除去硫化氫的處理。
背景技術(shù)：
在能源生產(chǎn)和化學(xué)工業(yè)中的氣體和液體中，硫化氫(H2S)和二 氧化碳(C02)通常是共存的。這些氣體包含從煤炭、石油焦、殘留 油、頁(yè)巖油、瀝青砂、生物量和其它含碳物質(zhì)中合成的碳?xì)浠衔餁?體。硫化氫是有毒的，并且被認(rèn)為是產(chǎn)生酸雨的污染物。因此，必須 防止硫化氫泄露進(jìn)入大氣。從液體或氣體中消除硫化氫的一般方法包 含利用物理溶劑如Sdexd,堿性溶劑如胺溶液或者無(wú)機(jī)堿如氫氧化 鈉，和直接液體氧化技術(shù)如SuIFerox和LoCat。不幸的是在多數(shù)物理 溶劑中二氧化碳也是可溶性的，并且對(duì)于堿性溶劑二氧化碳比硫化氫 具有大的親和性。二氧化碳與硫化氫競(jìng)爭(zhēng)溶劑，需要增加溶劑循環(huán)速 度和再生溫度以消除硫化氫。因此，從包含二氧化碳的混合物中消除 硫化氫的成本大大增加。
除了二氧化碳和硫化氫，氨(NH3)也在能源生產(chǎn)和化學(xué)工業(yè)中 的氣體和液體中被頻繁發(fā)現(xiàn)。象硫化氫一樣，氨也必須分離并吸收以 防止其泄露。從液體和氣體中分離氨通常利用水進(jìn)行水洗。然后在酸 性水汽提裝置內(nèi)從水中分離水中溶解的硫化氫和氨，產(chǎn)生包含氨的廢 氣。氨的處理既昂貴又危險(xiǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種在二氧化碳幾乎為惰性的條件下通過(guò)將硫化氫 變?yōu)榱虼蛩徜@來(lái)從包含二氧化碳的氣體中有效去除硫化氫的處理
6方法。處理產(chǎn)生的硫代硫酸銨產(chǎn)品具有經(jīng)濟(jì)價(jià)值。根據(jù)第6,534,030 號(hào)美國(guó)專利，硫代硫酸銨可以通過(guò)使包含氨和硫化氮的供給氣體與包 含硫酸銨和亞硫酸氫銨的水流接觸制造。有利的是，與使用物理或反 應(yīng)溶劑相比，本發(fā)明的處理過(guò)程降低了去除硫化氪的成本。硫代硫酸 銨產(chǎn)品具有市場(chǎng)價(jià)值，可抵消處理成本。
在一個(gè)實(shí)施例中，處理過(guò)程包括在第--接觸區(qū)域內(nèi)使包含二氧化 碳和硫化氫的第一氣體與包含硫酸鉸和亞硫酸氫銨的洗滌液接觸。第 一接觸區(qū)域生成包含硫代硫酸銨的第一接觸區(qū)域廢水和包含二氧化 碳的第一接觸區(qū)域塔頂氣。在第二接觸區(qū)域內(nèi)使氨和二氧化硫與水溶 液接觸生成洗滌劑。通過(guò)調(diào)整提供給第二接觸區(qū)域的二氧化硫的量， 可以控制第一接觸區(qū)域廢水的硫離子含量。調(diào)整提供給第二接觸區(qū)域 的二氧化硫的量可以通過(guò)響應(yīng)第一接觸區(qū)域廢水的氧化電位或紅外 線分析器測(cè)量的第一接觸區(qū)域廢水的硫含量實(shí)現(xiàn)。
在本發(fā)明處理過(guò)程的另一實(shí)施例中，包含二氧化碳的第一接觸區(qū) 域塔頂氣在第一溶劑洗滌塔內(nèi)與溶劑接觸以去除二氧化碳。然后溶劑 被再生以釋放二氧化碳。如果第一接觸區(qū)域塔頂氣包含硫化氫，那么 可以使用第三接觸區(qū)域使再生塔頂氣與部分第二接觸區(qū)域廢水接觸 以去除硫化氫。
在又一實(shí)施例中，首先在第二溶劑洗滌塔內(nèi)處理提供給第二接觸 區(qū)域的二氧化硫，以減小二氧化硫的含量。可以調(diào)節(jié)提供給第二溶劑 再生器的熱量以控制提供給第二接觸區(qū)域的氣體內(nèi)殘余的二氧化硫 的量。
再一實(shí)施例中，在使用第一分鎦塔去除酸性水中的硫化氫之后， 通過(guò)提取第二分餾塔內(nèi)的酸性水制造提供給第二接觸區(qū)域的氨氣。另 一方面，提供給第二接觸區(qū)域的氨的量可以響應(yīng)第二接觸區(qū)域的pH 值調(diào)整。


圖1為處理過(guò)程一個(gè)實(shí)施例的示意圖；以及
7圖2為處理過(guò)程另-個(gè)實(shí)施例的示翁圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提供一種經(jīng)濟(jì)有效的氣體如碳裟化合物氣體的處理過(guò)程， 其包含硫化氫和二氧化碳污染物。根據(jù)下述總反應(yīng)化學(xué)式采用包含硫 酸銨和亞硫酸氫銨的洗滌液以與硫化氫反應(yīng)形成硫代硫酸銨-
6NH3+4S02+2H2S+H2043(NH4)2S2O3 硫代硫酸銨是易銷產(chǎn)品，并且可以出售以降低氣體處理的成本。此外， 硫化氫被轉(zhuǎn)化成無(wú)害材料。
有利的是，二氧化碳不與洗滌液內(nèi)的硫酸銨和亞硫酸氫銨反應(yīng)。 因此，與多數(shù)物理和堿性溶劑相反，洗滌液選擇性地吸收硫化氫并抵 制氣體內(nèi)的二氧化碳。
如圖1所示，為從包含硫化氫和二氧化碳的氣體中消除含硫化合 物的處理過(guò)程的第一實(shí)施例。本實(shí)施例包含在第一接觸區(qū)域3內(nèi)使第 一氣體1與洗滌液2接觸。為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的，接觸區(qū)域一詞包 含塔、柱、托盤、容器、泵、閥、控制系統(tǒng)以及本領(lǐng)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)氣體與 液體接觸所使用的任何其它裝置的組合。第一氣體1包含硫化氫和二 氧化碳。洗滌液2是含水的，包含硫酸銨和亞硫酸氫銨。本領(lǐng)域技術(shù) 人員易于理解的是在洗滌液內(nèi)硫酸銨和亞硫酸氫銨是離子形式的。或 者，洗滌液2可以通過(guò)在第二接觸區(qū)域6內(nèi)使氨水和二氧化硫與液體 溶劑接觸制成，或者由其它任何適合的供給源提供。
在第一接觸區(qū)域3內(nèi)，硫化氫與硫酸銨和亞硫酸氫銨反應(yīng)生成硫 代硫酸銨。第一接觸區(qū)域3產(chǎn)生第一區(qū)域廢水4和第一區(qū)域塔頂氣5。 第一區(qū)域廢水4包含硫代硫酸銨。第一區(qū)域塔頂氣5包含二氧化碳。 部分第一區(qū)域的廢水可以作為硫代硫酸銨產(chǎn)品29被移除。
在從氣體中消除含硫化合物的處理過(guò)程的第二實(shí)施例中，洗滌液 2可以通過(guò)在第二接觸區(qū)域6內(nèi)使氨水和二氧化硫與液體溶劑接觸制 成。第二實(shí)施例包含在第一接觸區(qū)域3使包含二氧化碳和硫化氫的第 一氣體1與包含硫酸銨和亞硫酸氫銨的洗滌液2接觸。反應(yīng)結(jié)果產(chǎn)生硫代硫酸銨。洗滌液2可能還包括硫代硫酸銨。第--接觸區(qū)域3產(chǎn)生 包含二氧化碳的第一接觸區(qū)域塔頂氣5以及包含硫代硫酸銨的第-接 觸區(qū)域廢水4。至少部分第一接觸區(qū)域廢水4可以作為硫代硫酸銨產(chǎn) 品29被移除。
第二實(shí)施例還包含在第二接觸區(qū)域6使包含二氧化硫的第:氣體 7與包含氨的第三氣體8以及包含至少部分第一接觸區(qū)域廢水4的供 給液接觸。這將產(chǎn)生硫酸銨和亞硫酸氫銨。第二接觸區(qū)域6產(chǎn)生第二 接觸區(qū)域廢水9,其包含硫酸銨和亞硫酸氫銨。第二接觸區(qū)域廢水9 可能還包含硫代硫酸銨。至少部分第二接觸區(qū)域廢水9作為洗滌液2 流回第一接觸區(qū)域3。
從化學(xué)計(jì)量上看，為了在第一接觸區(qū)域3內(nèi)每個(gè)硫化氫分子變?yōu)?硫代硫酸銨，兩個(gè)二氧化硫分子必須在第二接觸區(qū)域6內(nèi)變?yōu)榱蛩徜@ 和亞硫酸氫銨。進(jìn)入第二接觸區(qū)域6的供給液20內(nèi)的硫酸銨和亞硫 酸氫銨的量決定必須進(jìn)入第二接觸區(qū)域6的二氧化硫的量。在第二接 觸區(qū)域6內(nèi)，氨和二氧化硫形成硫酸銨和亞硫酸氫銨。通常，從化學(xué) 計(jì)量上看，進(jìn)入第一接觸區(qū)域3內(nèi)的洗滌液2中的硫酸銨和亞硫酸氫 銨的量保持在超過(guò)第一氣體1中的硫化氫的水平上。
在本發(fā)明的一個(gè)方面中，供給液20的硫含量可以控制。為了實(shí) 現(xiàn)本發(fā)明目的，"硫"包含二價(jià)硫離子、亞硫酸氫根離子、硫酸銨和 /或亞硫酸氫銨的任何組合?？膳c硫化氫反應(yīng)生成硫代硫酸銨的硫的量 是硫濃度和液體的流速的乘積。供給液20的硫濃度可以利用紅外線 分析器測(cè)量，通過(guò)調(diào)整藉由第二氣體7提供給第二接觸區(qū)域6的二氧 化硫的量，在第一接觸區(qū)域廢水4的硫濃度基礎(chǔ)上控制。通常，紅外 線分析器使用紅外線光的吸收來(lái)測(cè)量溶劑中各種化學(xué)成本的濃度。
或者，供給液20的硫酸銨和亞硫酸氫銨的濃度可以通過(guò)響應(yīng)第 —接觸區(qū)域廢水4的氧化電位調(diào)整提供給第二接觸區(qū)域6的二氧化硫 的量來(lái)控制。氧化電位是液體的電勢(shì)，是硫酸銨、亞硫酸氫銨、硫代 硫酸銨及它們的離子形式的濃度的函數(shù)。通常，氧化電位通過(guò)氧化電 位表測(cè)量，其測(cè)量溶劑對(duì)標(biāo)準(zhǔn)參考電極的電勢(shì)?？梢詫?shí)證確定本發(fā)明處理過(guò)程的每個(gè)獨(dú)立應(yīng)用的氧化電位的理想設(shè)置點(diǎn)。
如圖2所示，在本發(fā)明另--實(shí)施例中，在第一接觸區(qū)域內(nèi)的處理
完成后，第---接觸區(qū)域塔頂氣5接觸第--溶劑洗滌塔10內(nèi)的溶劑14,
以從第一接觸區(qū)域塔頂氣5中消除二氧化碳。第--溶劑洗滌塔10內(nèi)
采用的溶劑14可以是已知的能從氣體中消除二氧化碳的技術(shù)中任何
適合的溶劑。這種溶劑的示例是胺溶劑。第一溶劑洗滌塔10產(chǎn)生第
一溶劑洗滌塔頂氣U和第---溶劑洗滌塔廢水12。第一溶劑洗滌塔廢
水12在第一溶劑再生器15內(nèi)被再生，以生成包含二氧化碳的再生塔
頂氣13。再生溶劑14被返回到第一溶劑洗滌塔10。為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明
的目的，洗滌塔是塔、柱、托盤、容器、泵、閥、控制系統(tǒng)以及實(shí)現(xiàn) 氣體與液體接觸所使用的任何其它已知裝置的組合。
第一溶劑洗滌塔頂氣11可包含碳?xì)浠衔铮淇梢栽谑褂没蜃?為使用產(chǎn)品出售前被進(jìn)一步純化。氣體可以利用易反應(yīng)的化合物如 ZriO處理，以進(jìn)一步降低氣體中的硫含量。
在本發(fā)明的另一方面中，第一接觸區(qū)域塔頂氣5除了二氧化碳還 包含硫化氫。在這種情況下，硫化氫可能和二氧化碳一起被吸收進(jìn)溶 劑14內(nèi)并包含于再生塔頂氣流13內(nèi)。第三接觸區(qū)域16可以被用于 消除再生塔頂氣流13內(nèi)的二氧化碳內(nèi)的硫化氫。在第三接觸區(qū)域16 內(nèi)，包含硫化氫和二氧化碳的再生塔頂氣流13與第二接觸區(qū)域廢水9 的至少一部分17接觸。再生塔頂氣流13內(nèi)的硫化氫與與引導(dǎo)到第三 接觸區(qū)域的第二接觸區(qū)域廢水9的至少一部分17內(nèi)的硫酸銨和亞硫 酸氫銨反應(yīng)。第三接觸區(qū)域16產(chǎn)生包含二氧化碳的第三接觸區(qū)域塔 頂氣18和包含硫代硫酸銨的第三接觸區(qū)域廢水19。
第三接觸區(qū)域廢水19可以與至少部分第一接觸區(qū)域廢水4混合， 混合后的液體提供給第二接觸區(qū)域6作為供給液20。部分供給液20 可以作為硫代硫酸銨產(chǎn)品被拿走。在處理過(guò)程的另一方面，測(cè)量供給 液20的氧化電位。然后，通過(guò)調(diào)節(jié)提供給第二接觸區(qū)域6的第二氣 體7內(nèi)的二氧化硫的量來(lái)控制氧化電位。
在本發(fā)明又一實(shí)施例中，包含二氧化硫的第二氣體7從克勞斯置(Clausimit)提供給第二接觸區(qū)域6?？藙谒寡b置為本領(lǐng)域技術(shù)人 員所習(xí)知，其使用克勞斯處理將含硫物質(zhì)變?yōu)樵亓??？藙谒刮矚?8 包含二氧化硫和其它硫形態(tài)。選擇性地，在提供給第二接觸區(qū)域6之 前，克勞斯尾氣28還可以在氧化反應(yīng)器內(nèi)氧化以將含硫物質(zhì)變?yōu)槎?氧化硫。
在其中一方面，在進(jìn)入第二接觸區(qū)域6之前，在第二溶劑洗滌塔 21內(nèi)利用二氧化硫脫除溶劑處理第二氣體7。部分第二氣體7繞著第 二溶劑洗滌塔21旁路以形成旁路氣體22。在另一方面，到第二接觸 區(qū)域6的供給液20的氧化電位可以通過(guò)調(diào)整旁路氣體22的流速控制。 旁路氣體22的流速控制提供給第二接觸區(qū)域6的二氧化硫的量。或 者，可以利用紅外線分析器測(cè)量供給液20內(nèi)的硫濃度。供給液20內(nèi) 的硫濃度可以通過(guò)調(diào)整旁路氣體22的流速控制。
在另一方面，第二溶劑洗滌塔21的二氧化硫去除溶劑在第二溶 劑再生器23內(nèi)再生。再生過(guò)程釋放了溶劑中的二氧化硫30,允許溶 劑循環(huán)到第二溶劑洗滌塔21。再生溶劑24內(nèi)殘余的二氧化硫的量決 定再生溶劑去除二氧化硫的能力。因此，第二溶劑洗滌塔21去除的 第二氣體7內(nèi)二氧化硫的量可以通過(guò)在第二溶劑再生器23內(nèi)的再生 過(guò)程中調(diào)節(jié)二氧化硫去除溶劑釋放的二氧化硫30的量來(lái)控制。在另 —方面，二氧化硫去除溶劑釋放的二氧化硫的量可以通過(guò)調(diào)整給第二 溶劑再生器23再沸器加熱的熱量來(lái)調(diào)節(jié)。在又一方面，給第二溶劑 再生器23再沸器加熱的熱量可以響應(yīng)供給液20的氧化電位或紅外線 分析器測(cè)量的供給液20的硫離子含量來(lái)調(diào)節(jié)。此外，二氧化硫去除 溶劑24還可以被調(diào)整以控制第二溶劑再生器23內(nèi)釋放的二氧化硫30 的量。
在處理過(guò)程的又一個(gè)實(shí)施例中，提供給第二接觸區(qū)域6的第三氣 體8內(nèi)的氨通過(guò)提取分餾塔25和26內(nèi)的酸性水產(chǎn)生。為了實(shí)現(xiàn)本發(fā) 明的目的，分餾塔是塔、柱、托盤、容器、泵、閥、控制系統(tǒng)以及實(shí) 現(xiàn)氣體與液體接觸所使用的任何其它已知裝置的組合。典型地，酸性 水是一種廢蒸汽，這種蒸汽通過(guò)從包含硫化氫的蒸汽中去除氨制成。在另一方面，酸性水在進(jìn)入第二分餾塔25前可以先從第- 分餾塔26 內(nèi)提取。第一分餾塔26產(chǎn)生包含二氧化碳和硫化氯的塔頂氣27。第 二分餾塔25產(chǎn)生第三蒸汽3中的氨氣。
在處理過(guò)程的另外-'個(gè)實(shí)施例中，第三氣體8提供給第二接觸區(qū) 域6的氨的量可以響應(yīng)第二接觸區(qū)域6內(nèi)的pH值調(diào)整。第二接觸區(qū) 域6內(nèi)的pH值代表第二接觸區(qū)域6內(nèi)氨離子與硫離子的比例。pH值 可以通過(guò)pH值探測(cè)器測(cè)量。在處理過(guò)程的—個(gè)實(shí)施例中，第二接觸 區(qū)域6的pH值保持在6.0或大于6.0。
盡管結(jié)合一些實(shí)施例描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)了 解，在不脫離本發(fā)明精神和范圍內(nèi)，可以對(duì)各種形式和細(xì)節(jié)上的做改 變。
權(quán)利要求
1. 一種從氣體內(nèi)選擇性去除含硫化合物的方法，包括在第一接觸區(qū)域內(nèi)使包含二氧化碳和硫化氫的第一氣體與包含硫酸銨和亞硫酸氫銨的洗滌液接觸，生成包含硫代硫酸銨的第一接觸區(qū)域廢水和包含二氧化碳的第一接觸區(qū)域塔頂氣。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其包括在第二接觸區(qū)域內(nèi)使氨和二氧化硫與水溶液接觸生成該洗滌劑。
3. 如權(quán)利要求2所述的方法，其包括，通過(guò)調(diào)整提供給該第二接 觸區(qū)域的氨的量來(lái)控制該第二接觸區(qū)域內(nèi)的pH。
4. 如權(quán)利要求2所述的方法，其中，響應(yīng)該第一接觸區(qū)域廢水的 氧化電位控制提供給該第二接觸區(qū)域的二氧化硫的量。
5. —種從氣體內(nèi)選擇性去除含硫化合物的方法，其包括(a) 在第一接觸區(qū)域內(nèi)使包含二氧化碳和硫化氫的第--氣體與 包含硫酸銨和亞硫酸氫銨的洗滌液接觸，生成硫代硫酸銨，該第一接 觸區(qū)域生成包含二氧化碳的第一接觸區(qū)域塔頂氣和包含硫代硫酸銨 的第一接觸區(qū)域廢水；(b) 在第二接觸區(qū)域內(nèi)使包含二氧化硫的第二氣體與包含氨的 第三氣體和供給液接觸，以生成硫酸銨和亞硫酸氫銨，該第二接觸區(qū) 域產(chǎn)生包括硫酸銨和亞硫酸氫銨的廢水，其中該供給氣體包含至少部 分該第一接觸區(qū)域廢水；以及(c) 提供至少部分該第二接觸區(qū)域廢水給該第一接觸區(qū)域作為 洗滌液。
6. 如權(quán)利要求5所述的方法,其包含控制該供給液的硫含量的步
7. 如權(quán)利要求6所述的方法，其包括 測(cè)量該第一接觸區(qū)域廢水的氧化電位；以及 響應(yīng)該氧化電位調(diào)整提供給該第二g域的二氧化硫的量，以控制該第一接觸區(qū)域廢水的硫含量。
8. 如權(quán)利要求6所述的方法，其包括利用紅外線分析器測(cè)量該第一接觸區(qū)域廢水的硫含量；以及 響應(yīng)測(cè)量到的該第一接觸區(qū)域廢水的硫含量調(diào)整提供給該第二 接觸區(qū)域的二氧化硫的量。
9. 如權(quán)利要求5所述的方法，其包括.*使該第一接觸區(qū)域塔頂氣接觸第一溶劑洗滌塔內(nèi)的溶劑以去除 該第一接觸區(qū)域塔頂氣的二氧化碳，該第一溶劑洗滌塔產(chǎn)生第一溶劑 洗滌塔頂氣和第一溶劑洗滌塔廢水以及再生該第一溶劑洗滌塔廢水以生成包含二氧化碳的再生塔頂氣。
10. 如權(quán)利要求9所述的方法，其包括在第三接觸區(qū)域使包含硫化氫和二氧化碳的再生塔頂氣接觸至 少部分該第二接觸區(qū)域廢水，以生成包含二氧化碳的第三接觸區(qū)域塔 頂氣和包含硫代硫酸銨的第三接觸區(qū)域廢水。
11. 如權(quán)利要求10所述的方法，其包括-混合該第三接觸區(qū)域廢水與至少部分該第一接觸區(qū)域廢水以形 成提供給該第二接觸區(qū)域的該供給液。
12. 如權(quán)利要求ll所述的方法，其包括-測(cè)量該供給液的氧化電位；以及響應(yīng)該氧化電位調(diào)整提供給該第二接觸區(qū)域的二氧化硫的量。
13. 如權(quán)利要求5所述的方法，其中，提供給該第二接觸區(qū)域的 該第二氣體是克勞斯單元尾氣。
14. 如權(quán)利要求13所述的方法，其中，該克勞斯單元尾氣在進(jìn)入 該第二接觸器區(qū)域之前被氧化。
15. 如權(quán)利要求13所述的方法，其中，在該第二氣體進(jìn)入該第二 接觸區(qū)域前，利用第二溶劑洗滌塔內(nèi)的二氧化硫去除溶劑處理該第二 氣體。
16. 如權(quán)利要求15所述的方法，其包括使部分該第二氣體旁路 通過(guò)該第二溶劑洗滌塔以形成旁路氣體。
17. 如權(quán)利要求16所述的方法，其包括，通過(guò)調(diào)整該旁路氣體的流速控制提供給該第二接觸區(qū)域的部分該供給液的氧化電位。
18. 如權(quán)利要求16所述的方法，其包括-利用紅外線分析器測(cè)量該供給液內(nèi)的硫含量；以及 通過(guò)調(diào)整該旁路氣體的流速控制該供給液內(nèi)的硫含量。
19. 如權(quán)利要求15所述的方法，其包括-在第二溶劑再生器內(nèi)再生該二氧化硫去除溶劑；以及 通過(guò)調(diào)整再生過(guò)程中該二氧化硫去除溶劑釋放的二氧化硫的量來(lái)控制從該第二氣體去除二氧化硫的量。
20. 如權(quán)利要求19所述的方法，其中，通過(guò)調(diào)整提供給該第二溶 劑再生器的熱量來(lái)調(diào)節(jié)從該二氧化硫去除溶劑釋放的二氧化硫的量。
21. 如權(quán)利要求19所述的方法，其中，通過(guò)調(diào)整該二氧化硫去除 溶劑的流速來(lái)調(diào)節(jié)該二氧化硫去除溶劑釋放的二氧化硫的量。
22. 如權(quán)利要求19所述的方法，其包括 測(cè)量提供給該第二接觸區(qū)域的該供給液氧化電位以及 響應(yīng)該氧化電位調(diào)整提供給第二溶劑再生器再沸器的熱量。
23. 如權(quán)利要求19所述的方法，其包括-利用紅外線分析器測(cè)量提供給該第二接觸區(qū)域的該供給液的硫 含量；以及響應(yīng)該硫含量控制提供給第二溶劑再生器再沸器的熱量。
24. 如權(quán)利要求5所述的方法，其包括提取第二分餾塔內(nèi)的酸性 水以產(chǎn)生提供給該第二接觸區(qū)域的該第三氣體內(nèi)的氨氣。
25. 如權(quán)利要求24所述的方法,其包括在該酸性水進(jìn)入該第二分 餾塔前在第一分餾塔內(nèi)分餾該酸性水，以產(chǎn)生包括硫化氫的塔頂氣。
26. 如權(quán)利要求5所述的方法，其包括通過(guò)調(diào)整提供給該第二接 觸區(qū)域的氨氣的量來(lái)控制該第二接觸區(qū)域的酸堿值。
27. —種從氣體內(nèi)選擇性去除含硫化合物的方法，其包括-(a)在第一接觸區(qū)域內(nèi)使包含二氧化碳和硫化氫的第一氣體與 包含硫酸銨和亞硫酸氫銨的洗滌液接觸，生成硫代硫酸銨，該第一接 觸區(qū)域生成包含二氧化碳的第一接觸區(qū)域塔頂氣和包含硫代硫酸銨的第一接觸區(qū)域廢水；(b) 在第二接觸區(qū)域內(nèi)使包含二氧化硫的第二氣體與包含氨的 第三氣體和供給液接觸，以生成硫酸銨和亞硫酸氫銨，該第二接觸區(qū) 域產(chǎn)生第二接觸區(qū)域塔頂氣和包含硫酸銨和亞硫酸氫銨的第二接觸 區(qū)域廢水；(c) 提供至少部分該第二接觸區(qū)域廢水給該第一接觸區(qū)域作為 洗滌液；(d〉在第一溶劑洗滌塔內(nèi)使該第一接觸區(qū)域塔頂氣與第一溶劑 接觸，以去除該第一接觸區(qū)域塔頂氣的二氧化碳和硫化氫，該第一溶 劑洗滌塔產(chǎn)生第一溶劑洗滌塔塔頊氣和第一溶劑洗滌塔廢水；(e) 再生該第一溶劑洗滌塔廢水以生成包含二氧化碳和硫化氫 的再生塔頂氣；(f) 在第三接觸區(qū)域使該再生塔頂氣與該第二接觸區(qū)域廢水的第 二部分接觸，以生威包含二氧化碳的第三接觸區(qū)域塔頂氣和包含硫代 硫酸銨的第三接觸區(qū)域廢水；(g) 混合該第三接觸區(qū)域廢水與該第一接觸區(qū)域廢水以形成提 供給該第二接觸區(qū)域的供給液；以及(h) 作為成品去除部分該供給液。
28. 如權(quán)利要求27所述的方法，其包括-測(cè)量該供給液的氧化電位；以及通過(guò)調(diào)整提供給該第二接觸區(qū)域的二氧化硫的量來(lái)控制該供給 液的氧化電位。
29. 如權(quán)利要求27所述的方法，其包括-在迸入該第二接觸區(qū)域前在第二溶劑洗滌塔內(nèi)利用硫去除溶劑 處理該第二氣體；使部分該第二氣體旁路通過(guò)該第二溶劑洗滌塔；以及 通過(guò)調(diào)整該第二氣體的旁路部分的流速控制該供給液的氧化電位。
全文摘要
一種通過(guò)在第一接觸區(qū)域(3)使包含硫化氫和二氧化碳的氣體(1)與包含硫酸銨和亞硫酸氫銨的洗滌液(2)接觸產(chǎn)生硫代硫酸銨的氣體處理過(guò)程。洗滌液可以在第二接觸區(qū)域(6)內(nèi)通過(guò)使氨氣(8)和硫化氫(7)與水溶劑接觸而生成。第一接觸區(qū)域廢水的氧化電位可以通過(guò)調(diào)整提供給第二接觸區(qū)域的二氧化硫的量來(lái)控制?；蛘?，第一接觸區(qū)域的硫含量可以通過(guò)紅外線分析器測(cè)量以及響應(yīng)來(lái)調(diào)整的提供給第二接觸區(qū)域的二氧化硫的量。此外，提供給第二接觸區(qū)域的氨的量可以響應(yīng)第二接觸區(qū)域的pH值調(diào)整。
文檔編號(hào)B01D53/52GK101479022SQ200780024649
公開(kāi)日2009年7月8日 申請(qǐng)日期2007年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月17日
發(fā)明者羅納德·謝弗, 邁克爾·F·雷, 馬克·C·安德森 申請(qǐng)人:賽歐所威有限公司