一種多用清洗一體機(jī)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及清洗設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種多用清洗一體機(jī)。本實(shí)用新型是通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：一種多用清洗一體機(jī)，包括清洗桶和設(shè)置在清洗桶兩側(cè)或底部或兩側(cè)和底部的超聲波震蕩器，所述清洗桶設(shè)置有若干清洗槽，清洗槽至少設(shè)置成上下兩層設(shè)置，第二層清洗槽設(shè)置在清洗桶中央，所述第一層清洗槽和第二層清洗槽中單一設(shè)置或一體分隔成清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽，所述第一層清洗槽體積小于第二層清洗槽，所述清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽內(nèi)都設(shè)置有清洗盤和進(jìn)液管，清洗盤內(nèi)設(shè)置有晶片清洗槽，清洗槽中心設(shè)置升降軸，升降軸有提升管和甩干軸管組成，提升管設(shè)置聯(lián)動(dòng)橫桿連接清洗盤。
【專利說明】
_種多用清洗_體機(jī)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及清洗設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種多用清洗一體機(jī)?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]隨著晶體行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的日趨激烈，如何提高工作效率、降低成本、提高產(chǎn)品品質(zhì)，以提高在同行業(yè)中的競(jìng)爭(zhēng)力，已經(jīng)成了每個(gè)晶體企業(yè)都將面臨的難題。傳統(tǒng)晶片清洗工藝過程中的漂洗項(xiàng)目，要使用清水、熱水、酒精、清洗液等多個(gè)清洗步驟，這些步驟不能在一個(gè)清洗設(shè)備中完成。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是提供可以一次性投料，一次性在一體設(shè)備中的進(jìn)行全部晶片清洗步驟的一種多用清洗一體機(jī)。
[0004]本實(shí)用新型是通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種多用清洗一體機(jī)，包括清洗桶和設(shè)置在清洗桶兩側(cè)或底部或兩側(cè)和底部的超聲波震蕩器，所述清洗桶設(shè)置有若干清洗槽，清洗槽至少設(shè)置成上下兩層設(shè)置，第二層清洗槽設(shè)置在清洗桶中央，所述第一層清洗槽和第二層清洗槽中單一設(shè)置或一體分隔成清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽，所述第一層清洗槽體積小于第二層清洗槽，所述清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽內(nèi)都設(shè)置有清洗盤和進(jìn)液管，清洗盤內(nèi)設(shè)置有晶片清洗槽，清洗槽中心設(shè)置升降軸，升降軸有提升管和甩干軸管組成，提升管設(shè)置聯(lián)動(dòng)橫桿連接清洗盤。
[0005]作為優(yōu)選所述第一層清洗槽的清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽之間都設(shè)置有溢水管。
[0006]作為優(yōu)選所述水熱沖洗槽至少設(shè)置兩只。
[0007]作為優(yōu)選所述水熱沖洗槽設(shè)置排水孔或排水管。
[0008]作為優(yōu)選所述進(jìn)液管上設(shè)置有止回閥。
[0009]作為優(yōu)選所述溢水管設(shè)置有止回閥。
[0010]作為優(yōu)選所述清洗槽底部設(shè)置波輪。
[0011]本實(shí)用新型與【背景技術(shù)】相比，具有的有益的效果是:清洗桶和超聲波震蕩器的組合能拋棄以往的轉(zhuǎn)筒式清洗方式，使得清洗流程能在一個(gè)清洗桶內(nèi)完成，同時(shí)擁有升降設(shè)備，自動(dòng)提升進(jìn)行加料，或進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行下1個(gè)清洗程序，清洗整機(jī)容易，只需要整個(gè)清洗桶清洗就可，減少因人為問題造成的不清洗或清洗時(shí)間不足，把設(shè)備功能擴(kuò)展，節(jié)約了設(shè)備成本，利用工藝上的改變，節(jié)約了輔材成本?！靖綀D說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖，
[0013]圖2為本實(shí)用新型的實(shí)施結(jié)構(gòu)圖，[〇〇14]圖3為本實(shí)用新型的俯視結(jié)構(gòu)圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0015]下面通過實(shí)施例，結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說明:
[0016]實(shí)施例，如圖1-3所示，一種多用清洗一體機(jī)，包括清洗桶(1)和設(shè)置在清洗桶兩側(cè)或底部或兩側(cè)和底部的超聲波震蕩器(2)，所述清洗桶設(shè)置有若干清洗槽(3)，清洗槽至少設(shè)置成上下兩層設(shè)置，第二層清洗槽設(shè)置在清洗桶中央，所述第一層清洗槽(4)和第二層清洗槽(5 )中單一設(shè)置或一體分隔成清洗液槽(6 )、水熱沖洗槽(7 )、熱水振洗槽(8 )，所述第一層清洗槽體積小于第二層清洗槽，所述清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽內(nèi)都設(shè)置有清洗盤(9)和進(jìn)液管(10)，清洗盤內(nèi)設(shè)置有晶片清洗槽(11)，清洗槽中心設(shè)置升降軸(12)，升降軸有提升管(13)和甩干軸管(14)組成，提升管設(shè)置聯(lián)動(dòng)橫桿(15)連接清洗盤。
[0017]作為優(yōu)選所述第一層清洗槽的清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽之間都設(shè)置有溢水管(16)。
[0018]作為優(yōu)選所述水熱沖洗槽至少設(shè)置兩只。
[0019]作為優(yōu)選所述水熱沖洗槽設(shè)置排水孔或排水管(17)。[〇〇2〇]作為優(yōu)選所述進(jìn)液管上設(shè)置有止回閥(18)。[0021 ]作為優(yōu)選所述溢水管設(shè)置有止回閥。[〇〇22]作為優(yōu)選所述清洗槽底部設(shè)置波輪(19)。[〇〇23]作為優(yōu)選清洗槽至少距離波輪3~10cm，為懸空設(shè)置在清洗桶內(nèi)。
[0024]作為優(yōu)選進(jìn)液管設(shè)置在升降軸內(nèi)。
[0025]本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型精神作舉例說明。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，但并不會(huì)偏離本實(shí)用新型的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:包括清洗桶(I)和設(shè)置在清洗桶兩側(cè)或底部或兩側(cè)和底部的超聲波震蕩器(2)，所述清洗桶設(shè)置有若干清洗槽(3)，清洗槽至少設(shè)置成上下兩層設(shè)置，第二層清洗槽設(shè)置在清洗桶中央，第一層清洗槽(4)和第二層清洗槽(5)中單一設(shè)置或一體分隔成清洗液槽(6)、水熱沖洗槽(7)、熱水振洗槽(8)，所述第一層清洗槽體積小于第二層清洗槽，所述清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽內(nèi)都設(shè)置有清洗盤(9)和進(jìn)液管(10)，清洗盤內(nèi)設(shè)置有晶片清洗槽(11)，清洗槽中心設(shè)置升降軸(12)，升降軸有提升管(13)和甩干軸管(14)組成，提升管設(shè)置聯(lián)動(dòng)橫桿(15)連接清洗盤。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述第一層清洗槽的清洗液槽、水熱沖洗槽、熱水振洗槽之間都設(shè)置有溢水管(16)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述水熱沖洗槽至少設(shè)置兩只。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述水熱沖洗槽設(shè)置排水孔或排水管(I 7)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述進(jìn)液管上設(shè)置有止回閥(18)。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述溢水管設(shè)置有止回閥。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述清洗槽底部設(shè)置波輪(19)。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述清洗槽至少距離波輪3?1cm，為懸空設(shè)置在清洗桶內(nèi)。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用清洗一體機(jī)，其特征是:所述進(jìn)液管設(shè)置在升降軸內(nèi)。
【文檔編號(hào)】B08B3/12GK205570906SQ201620187633
【公開日】2016年9月14日
【申請(qǐng)日】2016年3月12日
【發(fā)明人】丁潔
【申請(qǐng)人】匯隆電子（金華）有限公司