一種兆聲波槽的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及半導體集成電路設備技術領域，尤其涉及一種用于清洗硅片的兆聲波槽。
【背景技術】
[0002]在半導體硅片的化學機械研磨工藝中，硅片在研磨后，需要經過清洗以去除在研磨過程中遺留在硅片上的顆粒。而清洗的步驟由不同的清洗槽組成，其中包括一個兆聲波槽(或稱兆聲波清洗機)。
[0003]如圖1所示，傳統(tǒng)的兆聲波槽由內槽21、外槽22組成，通過內槽21溢流到外槽22，再由外槽22通過栗23打循環(huán)至內槽21，循環(huán)過程中通過加熱器24對管內藥液加溫，從而達到對內槽21藥液加溫并控溫的效果，同時內槽21裝有兆聲波發(fā)生器25及承載硅片29的三個承載滑輪26。
[0004]清洗過程中，硅片由承載滑輪26帶動旋轉，以達到360度的無死角清洗，兆聲波發(fā)生器25發(fā)生兆聲波震離硅片表面的顆粒，但由于擔心兆聲波及藥液循環(huán)流速會改變硅片在槽內的原本位置，因此，對兆聲波大小及流速有嚴格的控制，這就阻礙了兆聲波槽的最大清洗效果。
[0005]因此，如何對現有兆聲波槽進行改進，以發(fā)揮其最大的清洗效果，而無需調節(jié)兆聲波大小和液體的流速，是本領域技術人員亟待解決的技術問題之一。
【實用新型內容】
[0006]為了解決上述現有技術存在的問題，本實用新型提供一種兆聲波槽，通過在內槽加裝兩個固定滑輪，以對硅片在兆聲波槽內全方位固定、限位，而無需在清洗過程中因避免硅片位移而減小兆聲波和循環(huán)水流的大小，使兆聲波槽發(fā)揮最大清洗效果。
[0007]本實用新型提供的兆聲波槽，其包括內槽和外槽，所述外槽用于接收內槽的溢流并通過加熱器和栗打回至內槽，所述內槽內具有兆聲波發(fā)生器以及用于承載硅片的至少兩個承載滑輪，其中，所述內槽內承載滑輪的上方還具有至少一個固定滑輪，以與承載滑輪圍成容納硅片的圓形空間，以將硅片限位在所述圓形空間內旋轉。
[0008]進一步地，所述固定滑輪具有左右兩個，以與承載滑輪圍成容納硅片的圓形空間。
[0009]進一步地，所述兩個固定滑輪與兩個承載滑輪等距分布于圓形空間的邊界。
[0010]進一步地，所述承載滑輪具有三個。
[0011]進一步地，所述承載滑輪與固定滑輪均為主動輪。
[0012]進一步地，所述固定滑輪為可伸縮滑輪，以使所述圓形空間的上方打開或關閉。
[0013]進一步地，所述固定滑輪通過伸縮軸承設于內槽的內壁。
[0014]進一步地，所述固定滑輪通過氣缸或絲桿驅動伸縮。
[0015]本實用新型提供的兆聲波槽，用于清洗硅片，通過在內槽加裝兩個固定滑輪，與已有的承載滑輪圍成容納硅片的圓形空間，以將硅片限定在圓形空間內僅可旋轉，而無法發(fā)生位移，使清洗過程中無需擔心兆聲波或循環(huán)水流將硅片沖起，脫離原先位置，因此無需調節(jié)，尤其是減小，兆聲波的大小和循環(huán)水流的大小，使得兆聲波槽可以發(fā)揮最大的清洗效果和清洗效率。
【附圖說明】
[0016]為能更清楚理解本實用新型的目的、特點和優(yōu)點，以下將結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細描述，其中:
[〇〇17] 圖1是現有兆聲波槽的結構不意圖；
[0018]圖2是本實用新型一實施例的兆聲波槽的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0019]請參閱圖2,本實施例的兆聲波槽，用于清洗硅片，其包括內槽11和外槽12,外槽12用于接收內槽11的溢流并通過加熱器13和栗14打回至內槽11，內槽11內具有兆聲波發(fā)生器15以及用于承載硅片3的三個承載滑輪16,其中，內槽11內承載滑輪16的上方還具有兩個固定滑輪17,以與承載滑輪16圍成容納硅片3的圓形空間，以將硅片3限位在圓形空間內旋轉，對硅片3進行360度無死角清洗，兆聲波發(fā)生器發(fā)生兆聲波震離硅片表面的顆粒。
[0020]本實施例中，限位硅片的滾輪包括三個承載滑輪16和兩個固定滑輪17,三個承載滑輪16比兩個滑輪能更平穩(wěn)地承載硅片3,左右兩個固定滑輪17則比一個滑輪的限位、固定效果更好，從圖2中可見，兩個固定滑輪17與三個承載滑輪16中的兩個最外面的承載滑輪等距分布于圓形空間的邊界，這樣能最好地限位、固定硅片，防止其在清洗過程中發(fā)生位移、脫落。在其他實施例中，也可以采用其他數量、位置的滑輪，來限位硅片。
[0021]為了使硅片旋轉順暢，本實施例的所有承載滑輪和固定滑輪均采用主動輪。在其他實施例中，也可將其中的幾個滑輪設置為從動輪，但必須要有至少一個主動輪，以帶動硅片旋轉。
[0022]為了便于硅片的取放，本實施例的兩個固定滑輪設置為可伸縮滑輪，以使圓形空間的上方可以打開以取放硅片，或關閉以限位硅片。本實施例中，兩個固定滑輪17通過伸縮軸承18設于內槽11的兩側內壁，實際應用中，固定滑輪可通過氣缸或絲桿驅動伸縮，當需要取放硅片時，兩個固定滑輪向兩邊移動以打開圓形空間，當硅片被放入圓形空間后，兩個固定滑輪向中間移動以關閉圓形空間并限位硅片。在其他實施例中，也可以采用其他現有具有伸縮功能的機構實現固定滑輪的伸縮。
[0023]本實施例的兆聲波槽，通過在內槽加裝兩個固定滑輪，與已有的承載滑輪圍成容納硅片的圓形空間，以將硅片限定在圓形空間內僅可旋轉，而無法發(fā)生位移，使清洗過程中無需擔心兆聲波或循環(huán)水流將硅片沖起，脫離原先位置，因此無需調節(jié)，尤其是減小，兆聲波的大小和循環(huán)水流的大小，使得兆聲波槽可以發(fā)揮最大的清洗效果和清洗效率。
【主權項】
1.一種兆聲波槽，其特征在于:其包括內槽和外槽，所述外槽用于接收內槽的溢流并通過加熱器和栗打回至內槽，所述內槽內具有兆聲波發(fā)生器以及用于承載硅片的至少兩個承載滑輪，其中，所述內槽內承載滑輪的上方還具有至少一個固定滑輪，以與承載滑輪圍成容納硅片的圓形空間，以將硅片限位在所述圓形空間內旋轉。2.根據權利要求1所述的兆聲波槽，其特征在于:所述固定滑輪具有左右兩個，以與承載滑輪圍成容納硅片的圓形空間。3.根據權利要求2所述的兆聲波槽，其特征在于:所述兩個固定滑輪與兩個承載滑輪等距分布于圓形空間的邊界。4.根據權利要求3所述的兆聲波槽，其特征在于:所述承載滑輪具有三個。5.根據權利要求1所述的兆聲波槽，其特征在于:所述承載滑輪與固定滑輪均為主動輪。6.根據權利要求1至5任一項所述的兆聲波槽，其特征在于:所述固定滑輪為可伸縮滑輪，以使所述圓形空間的上方打開或關閉。7.根據權利要求6所述的兆聲波槽，其特征在于:所述固定滑輪通過伸縮軸承設于內槽的內壁。8.根據權利要求7所述的兆聲波槽，其特征在于:所述固定滑輪通過氣缸或絲桿驅動伸縮。
【專利摘要】本實用新型公開了一種兆聲波槽，用于清洗硅片，通過在內槽加裝兩個固定滑輪，與已有的承載滑輪圍成容納硅片的圓形空間，以將硅片限定在圓形空間內僅可旋轉，而無法發(fā)生位移，使清洗過程中無需擔心兆聲波或循環(huán)水流將硅片沖起，脫離原先位置，因此無需調節(jié)，尤其是減小，兆聲波的大小和循環(huán)水流的大小，使得兆聲波槽可以發(fā)揮最大的清洗效果和清洗效率。
【IPC分類】B08B3/12, H01L21/67
【公開號】CN204996772
【申請?zhí)枴緾N201520453972
【發(fā)明人】邢杰, 張弢, 蔣德念
【申請人】上海華力微電子有限公司
【公開日】2016年1月27日
【申請日】2015年6月29日