本技術涉及真空鍍膜，具體為一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)。

背景技術：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

2、在真空鍍膜的過程中，需將待鍍膜卷材表面的浮塵清除。

3、目前真空鍍膜清洗技術以轟擊工件為主，電極產(chǎn)生等離子體轟擊高壓、中頻、射頻等，清洗待鍍膜卷材表面，但是當前的清洗方式在清洗時能量不好控制，會產(chǎn)生的大量的熱，不僅影響卷材的外觀(熱變形)，還使得能量利用率降低，對卷材表面的清洗效果不佳，仍有浮塵殘留，降低了膜的附著力，因此我們需要提出一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，通過射頻旋轉(zhuǎn)陰極的設計，在放膜過程中清洗膜表面，無需在鍍膜傳送輥上進行膜清洗，可增加裝靶數(shù)量，且射頻旋轉(zhuǎn)陰極為旋轉(zhuǎn)式磁控靶，內(nèi)設閉合磁場，可有效清洗膜表面，大量減少浮塵附著，進而提高了膜的附著力，且便于控制能量，不會在鍍膜時產(chǎn)生大量的熱量，不影響膜的外觀，使得能量利用率提高，以解決上述背景技術中提出的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，包括安裝板、轉(zhuǎn)動安裝在安裝板上的放膜機構(gòu)、鍍膜傳送輥和收膜機構(gòu)，放膜機構(gòu)、鍍膜傳送輥和收膜機構(gòu)之間通過待鍍膜卷材傳動連接，所述放膜機構(gòu)包括放膜筒、漲緊導向軸一和兩個射頻旋轉(zhuǎn)陰極，所述漲緊導向軸一位于兩個射頻旋轉(zhuǎn)陰極之間，所述安裝板上連接有空心的固定軸，所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極轉(zhuǎn)動安裝在固定軸上，所述固定軸的內(nèi)部安裝有可產(chǎn)生閉合磁場的磁芯，所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極的側(cè)壁上開設有存儲冷卻水的冷卻腔，所述安裝板上還安裝有中頻旋轉(zhuǎn)靶和柱弧靶。

3、優(yōu)選的，所述收膜機構(gòu)位于放膜機構(gòu)的上端，所述收膜機構(gòu)包括轉(zhuǎn)動設置的收膜筒和兩個漲緊導向軸二。

4、優(yōu)選的，所述磁芯通過第一端板限位在固定軸的內(nèi)部，所述第一端板的一端連接有限位柱，所述固定軸的一端側(cè)壁開設有限位槽，所述限位柱滑動插接在限位槽的內(nèi)部。

5、優(yōu)選的，所述磁芯的一端抵觸在第一端板的側(cè)部，所述磁芯的側(cè)邊連接有滑塊，所述固定軸的內(nèi)壁開設有滑槽，所述滑塊滑動安裝在滑槽的內(nèi)部。

6、優(yōu)選的，所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極的一端螺紋連接有第二端板，所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極的一端安裝有螺紋環(huán)，所述第二端板的一端連接有螺紋套筒，所述螺紋環(huán)螺紋連接在螺紋套筒的內(nèi)部。

7、優(yōu)選的，所述第二端板的一端連接有抵觸在第一端板上的限位組件，所述限位組件包括彈性伸縮桿，所述彈性伸縮桿的一端轉(zhuǎn)動連接有抵觸板。

8、優(yōu)選的，所述中頻旋轉(zhuǎn)靶和柱弧靶均設置有多個，且所述中頻旋轉(zhuǎn)靶和柱弧靶交錯設置。

9、與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是：

10、本實用新型通過射頻旋轉(zhuǎn)陰極的設計，在放膜過程中清洗膜表面，無需在鍍膜傳送輥上進行膜清洗，可增加裝靶數(shù)量，且射頻旋轉(zhuǎn)陰極為旋轉(zhuǎn)式磁控靶，內(nèi)設閉合磁場，可有效清洗膜表面，大量減少浮塵附著，進而提高了膜的附著力，且便于控制能量，不會在鍍膜時產(chǎn)生大量的熱量，不影響膜的外觀，使得能量利用率提高。

技術特征：

1.一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，包括安裝板(1)、轉(zhuǎn)動安裝在安裝板(1)上的放膜機構(gòu)(3)、鍍膜傳送輥(2)和收膜機構(gòu)(4)，放膜機構(gòu)(3)、鍍膜傳送輥(2)和收膜機構(gòu)(4)之間通過待鍍膜卷材傳動連接，其特征在于：所述放膜機構(gòu)(3)包括放膜筒(31)、漲緊導向軸一(33)和兩個射頻旋轉(zhuǎn)陰極(32)，所述漲緊導向軸一(33)位于兩個射頻旋轉(zhuǎn)陰極(32)之間，所述安裝板(1)上連接有空心的固定軸(7)，所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極(32)轉(zhuǎn)動安裝在固定軸(7)上，所述固定軸(7)的內(nèi)部安裝有可產(chǎn)生閉合磁場的磁芯(8)，所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極(32)的側(cè)壁上開設有存儲冷卻水的冷卻腔(9)，所述安裝板(1)上還安裝有中頻旋轉(zhuǎn)靶(5)和柱弧靶(6)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述收膜機構(gòu)(4)位于放膜機構(gòu)(3)的上端，所述收膜機構(gòu)(4)包括轉(zhuǎn)動設置的收膜筒(41)和兩個漲緊導向軸二(42)。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述磁芯(8)通過第一端板(73)限位在固定軸(7)的內(nèi)部，所述第一端板(73)的一端連接有限位柱(74)，所述固定軸(7)的一端側(cè)壁開設有限位槽(71)，所述限位柱(74)滑動插接在限位槽(71)的內(nèi)部。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述磁芯(8)的一端抵觸在第一端板(73)的側(cè)部，所述磁芯(8)的側(cè)邊連接有滑塊(81)，所述固定軸(7)的內(nèi)壁開設有滑槽(72)，所述滑塊(81)滑動安裝在滑槽(72)的內(nèi)部。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極(32)的一端螺紋連接有第二端板(11)，所述射頻旋轉(zhuǎn)陰極(32)的一端安裝有螺紋環(huán)(10)，所述第二端板(11)的一端連接有螺紋套筒(12)，所述螺紋環(huán)(10)螺紋連接在螺紋套筒(12)的內(nèi)部。

6.根據(jù)權利要求5所述的一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述第二端板(11)的一端連接有抵觸在第一端板(73)上的限位組件(13)，所述限位組件(13)包括彈性伸縮桿，所述彈性伸縮桿的一端轉(zhuǎn)動連接有抵觸板。

7.根據(jù)權利要求1所述的一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述中頻旋轉(zhuǎn)靶(5)和柱弧靶(6)均設置有多個，且所述中頻旋轉(zhuǎn)靶(5)和柱弧靶(6)交錯設置。

技術總結(jié)
本技術涉及技術領域，公開了一種針對于卷繞鍍膜的清洗結(jié)構(gòu)，包括安裝板、轉(zhuǎn)動安裝在安裝板上的放膜機構(gòu)、鍍膜傳送輥和收膜機構(gòu)，放膜機構(gòu)、鍍膜傳送輥和收膜機構(gòu)之間通過待鍍膜卷材傳動連接，所述放膜機構(gòu)包括放膜筒、漲緊導向軸一和兩個射頻旋轉(zhuǎn)陰極，本技術通過射頻旋轉(zhuǎn)陰極的設計，在放膜過程中清洗膜表面，無需在鍍膜傳送輥上進行膜清洗，可增加裝靶數(shù)量，且射頻旋轉(zhuǎn)陰極為旋轉(zhuǎn)式磁控靶，內(nèi)設閉合磁場，可有效清洗膜表面，大量減少浮塵附著，進而提高了膜的附著力，且便于控制能量，不會在鍍膜時產(chǎn)生大量的熱量，不影響膜的外觀，使得能量利用率提高。

技術研發(fā)人員：鄭鋒
受保護的技術使用者：深圳市三束科技有限公司
技術研發(fā)日：20240428
技術公布日：2024/12/26