本實(shí)用新型涉及保潔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)及設(shè)備。

背景技術(shù)：

在氣象、農(nóng)業(yè)領(lǐng)域中使用的許多觀測(cè)儀器和儀表往往暴露在大氣環(huán)境中，而輻射表是最常用的觀測(cè)儀表之一。由于大氣環(huán)境中的灰塵、降雨和降雪等對(duì)輻射表的透光度影響極大，嚴(yán)重影響了輻射表的準(zhǔn)確測(cè)量。現(xiàn)有專(zhuān)利(ZL20132401422)公開(kāi)了一種用于無(wú)人值守輻射表的清潔裝置，該清潔裝置由紅外線感應(yīng)器、單片機(jī)、吹風(fēng)機(jī)控制元件和吹風(fēng)機(jī)組成。清潔裝置安裝在輻射表的斜上方，該清潔裝置可以設(shè)置指定的時(shí)間來(lái)開(kāi)啟吹風(fēng)機(jī)，通過(guò)對(duì)輻射表吹風(fēng)來(lái)進(jìn)行清潔；在有降雨/雪的時(shí)候，單片機(jī)就通過(guò)模擬電子開(kāi)關(guān)給吹風(fēng)機(jī)啟動(dòng)信號(hào)，從而啟動(dòng)吹風(fēng)機(jī)對(duì)輻射表進(jìn)行清潔。

發(fā)明人在研究中發(fā)現(xiàn)，該清潔裝置是長(zhǎng)時(shí)間地安裝在輻射表的斜上方，且安裝位置到輻射表的距離較近。但是，現(xiàn)有的輻射表和早期的輻射表的視場(chǎng)角一般為150°，新版本的輻射表的視場(chǎng)角一般為180°。這意味著該清潔裝置一定會(huì)影響到輻射表的觀測(cè)，并且其對(duì)輻射表清潔所帶來(lái)的數(shù)據(jù)精度提高是不能夠超過(guò)安裝清潔裝置而引起的觀測(cè)誤差的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型實(shí)施例的目的在于提供一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)及設(shè)備，旨在對(duì)輻射表進(jìn)行有效清潔以及提高其觀測(cè)精度。

第一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)，用于清潔輻射表的向上方向的短波輻射，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)包括：清潔短波輻射的清潔裝置，驅(qū)動(dòng)所述清潔裝置進(jìn)行工作且位于所述清潔裝置頂端的轉(zhuǎn)盤(pán)，支撐所述轉(zhuǎn)盤(pán)和清潔裝置的支撐桿，連接在所述支撐桿和轉(zhuǎn)盤(pán)之間的調(diào)節(jié)桿以及連接在所述支撐桿和調(diào)節(jié)桿之間的固定桿，所述支撐桿通過(guò)所述調(diào)節(jié)桿與所述轉(zhuǎn)盤(pán)固定相連，所述支撐桿還通過(guò)所述固定桿與所述調(diào)節(jié)桿固定相連，其中，所述清潔裝置包括具有開(kāi)口結(jié)構(gòu)的半球形的清潔盤(pán)以及貼合于所述清潔盤(pán)內(nèi)側(cè)的清潔布，所述開(kāi)口結(jié)構(gòu)的開(kāi)口方向遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置。

優(yōu)選地，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)還包括與所述轉(zhuǎn)盤(pán)連接的電機(jī)以及與所述電機(jī)電性連接的電源，其中，所述電機(jī)和電源安裝于所述調(diào)節(jié)桿中。

優(yōu)選地，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)還包括設(shè)置在所述調(diào)節(jié)桿上，與所述電源和電機(jī)分別電性連接的控制按鈕。

優(yōu)選地，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)還包括與所述電源電性連接的處理器，所述處理器與一遙控器通信連接，以根據(jù)所述遙控器發(fā)送的控制信號(hào)控制所述電源的工作狀態(tài)。

優(yōu)選地，所述調(diào)節(jié)桿與所述轉(zhuǎn)盤(pán)相連的一端設(shè)置有固定盤(pán)，所述固定盤(pán)與所述調(diào)節(jié)桿一體成型，所述調(diào)節(jié)桿通過(guò)所述固定盤(pán)與所述轉(zhuǎn)盤(pán)固定相連。

優(yōu)選地，所述支撐桿和調(diào)節(jié)桿分別包括至少兩段活動(dòng)桿，相鄰兩段活動(dòng)桿之間為活動(dòng)連接，以分別調(diào)節(jié)所述支撐桿和調(diào)節(jié)桿的總長(zhǎng)度。

優(yōu)選地，相鄰兩段活動(dòng)桿上均勻間隔設(shè)置有孔徑匹配的通孔，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)還包括用于穿入所述通孔中的固定螺桿，以分別調(diào)節(jié)所述支撐桿和調(diào)節(jié)桿的總長(zhǎng)度。

優(yōu)選地，所述相鄰兩段活動(dòng)桿之間采用螺紋方式進(jìn)行連接，每段活動(dòng)桿上設(shè)置有刻度線。

優(yōu)選地，所述轉(zhuǎn)盤(pán)內(nèi)設(shè)置有存儲(chǔ)清潔液的存儲(chǔ)腔室。

第二方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔設(shè)備，包括：

用于清潔輻射表的向下方向長(zhǎng)波輻射的第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)；

用于清潔輻射表的向下方向短波輻射的第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)；

用于清潔輻射表的向上方向長(zhǎng)波輻射的第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)；及

用于清潔輻射表的向上方向短波輻射的輻射表清潔機(jī)構(gòu)，其中：

所述第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)和第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述清潔裝置的上層，所述第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)和輻射表清潔機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述清潔裝置的背面。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)，在清潔裝置的頂端設(shè)置驅(qū)動(dòng)該清潔裝置進(jìn)行工作的轉(zhuǎn)盤(pán)，所述轉(zhuǎn)盤(pán)的頂端與調(diào)節(jié)桿固定相連，以使該調(diào)節(jié)桿對(duì)所述轉(zhuǎn)盤(pán)和清潔裝置進(jìn)行固定。所述調(diào)節(jié)桿還與支撐桿固定相連，以使所述支撐桿對(duì)所述調(diào)節(jié)桿進(jìn)行支撐。在支撐桿和調(diào)節(jié)桿之間還連接有固定桿，該固定桿的一端設(shè)置于所述支撐桿上、另一端設(shè)置于所述調(diào)節(jié)桿上，以對(duì)所述支撐桿和調(diào)節(jié)桿進(jìn)行固定。所述清潔裝置包括半球形的清潔盤(pán)以及貼合于所述清潔盤(pán)內(nèi)側(cè)的清潔布，所述轉(zhuǎn)盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)可帶動(dòng)所述清潔盤(pán)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而利用所述清潔布對(duì)輻射表進(jìn)行清潔。另外，所述半球形的清潔盤(pán)的底部設(shè)置有開(kāi)口結(jié)構(gòu)，所述開(kāi)口結(jié)構(gòu)的開(kāi)口方向遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置，能夠?qū)ο蛏戏较虻亩滩ㄝ椛涞妮椛浔磉M(jìn)行清潔。

進(jìn)一步地，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔設(shè)備，包括設(shè)置于所述清潔裝置的上層的第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)和第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)，能夠?qū)ο蛳路较蜉椛涞妮椛浔磉M(jìn)行有效清潔。另外，該輻射表清潔設(shè)備還包括設(shè)置于所述清潔裝置的背面的第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)和輻射表清潔機(jī)構(gòu)，能夠?qū)ο蛏戏较蜉椛涞妮椛浔磉M(jìn)行有效清潔。

為使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說(shuō)明如下。

附圖說(shuō)明

目前清潔裝置是長(zhǎng)時(shí)間地安裝在輻射表的斜上方，且安裝位置到輻射表的距離較近。但是，現(xiàn)有的輻射表和早期的輻射表的視場(chǎng)角一般為150°，新版本的輻射表的視場(chǎng)角一般為180°。這意味著該清潔裝置一定會(huì)影響到輻射表的觀測(cè)，并且其對(duì)輻射表清潔所帶來(lái)的數(shù)據(jù)精度提高是不能夠超過(guò)安裝清潔裝置而引起的觀測(cè)誤差的。

鑒于此，本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)者通過(guò)長(zhǎng)期的探索和嘗試，以及多次的實(shí)驗(yàn)和努力，不斷的改革創(chuàng)新，設(shè)計(jì)出了一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)及設(shè)備，可以較好地改善上述問(wèn)題。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施方式的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施方式中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本實(shí)用新型的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施方式提供的一種輻射表清潔設(shè)備的組成框圖。

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施方式提供的一種輻射表清潔設(shè)備的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本實(shí)用新型實(shí)施方式提供的一種輻射表清潔設(shè)備的平面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是應(yīng)用于圖3中的固定螺桿的放大結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是本實(shí)用新型實(shí)施方式提供的一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)的爆炸結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中標(biāo)記分別為：

圖標(biāo)：10-輻射表清潔設(shè)備；100-第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)；200-第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)；300-第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)；400-輻射表清潔機(jī)構(gòu)；500-調(diào)節(jié)桿；600-固定桿；401-清潔裝置；402-轉(zhuǎn)盤(pán)；403-支撐桿；404-開(kāi)口結(jié)構(gòu)；405-固定盤(pán)；406-固定螺桿。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施方式的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施方式中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施方式中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施方式是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施方式，而不是全部的實(shí)施方式。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施方式，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施方式，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。因此，以下對(duì)在附圖中提供的本實(shí)用新型的實(shí)施方式的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本實(shí)用新型的范圍，而是僅僅表示本實(shí)用新型的選定實(shí)施方式。

在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的設(shè)備或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。

此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)該特征。在本實(shí)用新型的描述中，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上，除非另有明確具體的限定。

在本實(shí)用新型中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術(shù)語(yǔ)應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通或兩個(gè)元件的相互作用關(guān)系。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。

應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類(lèi)似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步定義和解釋。

如圖1所示，是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔設(shè)備10的組成框圖。該輻射表清潔設(shè)備10可以包括第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)100、第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)200、第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)300以及輻射表清潔機(jī)構(gòu)400。其中，所述第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)100和第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)200位于所述輻射表清潔設(shè)備10的上層區(qū)域。所述第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)300以及輻射表清潔機(jī)構(gòu)400位于所述輻射表清潔設(shè)備10的背面區(qū)域。

本實(shí)施例中，所述第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)100用于清潔輻射表的向下方向長(zhǎng)波輻射，例如：觀測(cè)太陽(yáng)及大氣層向下方向輻射的長(zhǎng)波輻射的輻射表等。所述第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)200用于清潔輻射表的向下方向的短波輻射，例如：觀測(cè)太陽(yáng)及大氣層向下方向輻射的長(zhǎng)波輻射的輻射表等。

另外，所述第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)300用于清潔輻射表的向上方向長(zhǎng)波輻射，例如：觀測(cè)地表反射和發(fā)射的長(zhǎng)波輻射的輻射表等。所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)400用于清潔輻射表的向上方向短波輻射的輻射表，例如：觀測(cè)地表反射和發(fā)射的長(zhǎng)波輻射的輻射表等。

綜上所述，所述輻射表清潔設(shè)備10能夠?qū)Ω鞣N輻射表(向上方向的長(zhǎng)波輻射表、向上方向的短波輻射表、向下方向的長(zhǎng)波輻射表以及向下方向的短波輻射表等)進(jìn)行有效地清潔。

請(qǐng)一并參閱圖2-圖4，該輻射表清潔機(jī)構(gòu)400可用于清潔輻射表的向上方向的短波輻射。其中，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)400可以包括清潔裝置401、轉(zhuǎn)盤(pán)402、支撐桿403、調(diào)節(jié)桿500以及固定桿600等。本實(shí)施例中，所述清潔裝置401可以包括一清潔盤(pán)以及清潔布，所述清潔布貼合于所述清潔盤(pán)的內(nèi)側(cè)，用于對(duì)輻射表進(jìn)行清潔。所述清潔盤(pán)與所述轉(zhuǎn)盤(pán)402固定相連，所述轉(zhuǎn)盤(pán)402位于所述清潔裝置401的頂端，用于驅(qū)動(dòng)所述清潔裝置401進(jìn)行工作。實(shí)施時(shí)，可按照一定的頻率對(duì)輻射表進(jìn)行清潔，有效降低對(duì)輻射數(shù)據(jù)的影響。

在所述調(diào)節(jié)桿500與所述轉(zhuǎn)盤(pán)402相連的一端設(shè)置有固定盤(pán)405，所述調(diào)節(jié)桿500可通過(guò)所述固定盤(pán)405與所述轉(zhuǎn)盤(pán)402固定相連。本實(shí)施例中，所述固定盤(pán)405與所述調(diào)節(jié)桿500一體成型。在所述固定盤(pán)405和轉(zhuǎn)盤(pán)402上設(shè)置有多個(gè)螺紋通孔，通過(guò)將螺絲分別穿入所述固定盤(pán)405與所述轉(zhuǎn)盤(pán)402中的多個(gè)螺紋通孔，實(shí)現(xiàn)所述調(diào)節(jié)桿500與所述轉(zhuǎn)盤(pán)402的固定連接。

另外，為了對(duì)所述調(diào)節(jié)桿500的垂直位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，并對(duì)所述調(diào)節(jié)桿500進(jìn)行支撐，所述調(diào)節(jié)桿500還與所述支撐桿固定連接。其中，所述調(diào)節(jié)桿500和支撐桿可通過(guò)鉚釘或螺栓進(jìn)行連接，且所述調(diào)節(jié)桿500和支撐桿之間的夾角可以為90度。進(jìn)一步地，所述固定桿600連接于所述調(diào)節(jié)桿500和支撐桿之間。本實(shí)施例中，所述固定桿600的一端可通過(guò)鉚釘或螺栓固定連接于所述支撐桿、另一端可通過(guò)鉚釘或螺栓固定連接于所述調(diào)節(jié)桿500，以使所述調(diào)節(jié)桿500、支撐桿和固定桿600之間形成一個(gè)三角結(jié)構(gòu)。由于三角結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，因此所述固定桿600的設(shè)置進(jìn)一步增強(qiáng)了所述支撐桿和調(diào)節(jié)桿500連接的穩(wěn)定性和可靠性等。

為了對(duì)短波輻射的輻射表進(jìn)行清潔，所述清潔盤(pán)制作為半球形，可有效吸收短波輻射，并在所述清潔盤(pán)的底部設(shè)置一開(kāi)口結(jié)構(gòu)404，該開(kāi)口結(jié)構(gòu)404的開(kāi)口方向遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)盤(pán)402設(shè)置。另外，在所述轉(zhuǎn)盤(pán)402內(nèi)還設(shè)置有存儲(chǔ)腔室，該存儲(chǔ)腔室用于存儲(chǔ)清潔液(例如：水、酒精和清潔劑等)，以增加對(duì)所述輻射表進(jìn)行清潔的潔凈度。當(dāng)然，還可以通過(guò)人工將清潔液噴在所述輻射表的表面，從而提高對(duì)所述輻射表進(jìn)行清潔的潔凈度。

本實(shí)施例中，所述支撐桿403和調(diào)節(jié)桿500分別可以包括至少兩段活動(dòng)桿，相鄰兩段活動(dòng)桿之間為活動(dòng)連接。其中，所述相鄰兩段活動(dòng)桿的口徑相匹配，即其中一段活動(dòng)桿可內(nèi)嵌在另一段活動(dòng)桿中，并能夠沿著另一段活動(dòng)桿進(jìn)行滑動(dòng)，從而分別調(diào)節(jié)所述支撐桿403和調(diào)節(jié)桿500的總長(zhǎng)度。所述相鄰兩段活動(dòng)桿之間可采用固定螺桿406或者螺紋進(jìn)行連接固定等。

詳細(xì)地，請(qǐng)參閱圖5，是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)400的爆炸結(jié)構(gòu)示意圖。其中，當(dāng)相鄰兩段活動(dòng)桿之間采用固定螺桿406進(jìn)行連接固定時(shí)，在沿著每段活動(dòng)桿的長(zhǎng)度方向上均勻間隔設(shè)置多個(gè)通孔，所述多個(gè)通孔的孔徑相等，并與所述螺桿的孔徑相對(duì)應(yīng)，以使所述螺桿能夠穿入所述多個(gè)通孔中，從而實(shí)現(xiàn)所述相鄰兩段活動(dòng)桿之間的連接。通過(guò)調(diào)節(jié)所述相鄰兩段活動(dòng)桿之間的相對(duì)位置后再進(jìn)行連接，能夠調(diào)節(jié)所述支撐桿403和調(diào)節(jié)桿500的總長(zhǎng)度。

當(dāng)相鄰兩段活動(dòng)桿之間采用螺紋方式進(jìn)行連接固定時(shí)，在所述其中一段活動(dòng)桿的連接端部區(qū)域的外壁設(shè)置外螺紋，所述另一段活動(dòng)桿的連接端部區(qū)域的內(nèi)壁設(shè)置與該外螺紋相匹配的內(nèi)螺紋，通過(guò)所述外螺紋和內(nèi)螺紋的相互配合，從而實(shí)現(xiàn)所述相鄰兩段活動(dòng)桿之間的連接，并能夠調(diào)節(jié)所述支撐桿403和調(diào)節(jié)桿500的總長(zhǎng)度。

本實(shí)施例中，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)400還可以包括電機(jī)以及電源。其中，所述電機(jī)和電源分別安裝于所述調(diào)節(jié)桿500中，且所述電機(jī)和電源可電性連接，所述電機(jī)與所述轉(zhuǎn)盤(pán)402連接。在所述電源和電機(jī)接通時(shí)，所述電源則所述電機(jī)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，而所述電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)盤(pán)402進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而對(duì)輻射表進(jìn)行清潔。

為了對(duì)所述電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行控制，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)400還包括控制按鈕。所述控制按鈕分別與所述電源和電機(jī)電性相連，用于控制所述電源和電機(jī)的連接狀態(tài)，從而對(duì)所述電機(jī)的工作狀態(tài)進(jìn)行切換。本實(shí)施例中，所述控制按鈕設(shè)置在所述調(diào)節(jié)桿500的側(cè)壁。當(dāng)所述控制按鈕被按下時(shí)，所述電源和電機(jī)為接通狀態(tài)，所述電機(jī)工作。反之，所述電機(jī)不工作。

另外，所述輻射表清潔機(jī)構(gòu)400還可以包括處理器。其中，所述處理器與所述電源電性連接，以及與一遙控器通信連接。所述處理器用于根據(jù)所述遙控器發(fā)射的信號(hào)對(duì)所述電機(jī)和電源的連接狀態(tài)進(jìn)行切換。本實(shí)施例中，所述處理器設(shè)置在所述調(diào)節(jié)桿500內(nèi)。當(dāng)所述處理器檢測(cè)到遙控器發(fā)射的啟動(dòng)工作的信號(hào)時(shí)，將所述電源和電機(jī)接通，所述電機(jī)工作。反之，所述電機(jī)不工作。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔機(jī)構(gòu)400，在清潔裝置401的頂端設(shè)置驅(qū)動(dòng)該清潔裝置401進(jìn)行工作的轉(zhuǎn)盤(pán)402，所述轉(zhuǎn)盤(pán)402的頂端與調(diào)節(jié)桿500固定相連，以使該調(diào)節(jié)桿500對(duì)所述轉(zhuǎn)盤(pán)402和清潔裝置401進(jìn)行固定。所述調(diào)節(jié)桿500還與支撐桿403固定相連，以使所述支撐桿403對(duì)所述調(diào)節(jié)桿500進(jìn)行支撐。在支撐桿403和調(diào)節(jié)桿500之間還連接有固定桿600，該固定桿600的一端設(shè)置于所述支撐桿403上、另一端設(shè)置于所述調(diào)節(jié)桿500上，以對(duì)所述支撐桿403和調(diào)節(jié)桿500進(jìn)行固定。所述清潔裝置401包括半球形的清潔盤(pán)以及貼合于所述清潔盤(pán)內(nèi)側(cè)的清潔布，所述轉(zhuǎn)盤(pán)402的轉(zhuǎn)動(dòng)可帶動(dòng)所述清潔盤(pán)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而利用所述清潔布對(duì)輻射表進(jìn)行清潔。另外，所述半球形的清潔盤(pán)的底部設(shè)置有開(kāi)口結(jié)構(gòu)404，該開(kāi)口結(jié)構(gòu)404的開(kāi)口方向遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置，能夠?qū)ο蛏戏较虻亩滩ㄝ椛涞妮椛浔磉M(jìn)行清潔。

進(jìn)一步地，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輻射表清潔設(shè)備10，包括設(shè)置于所述清潔裝置401的上層的第一輻射表清潔機(jī)構(gòu)100和第二輻射表清潔機(jī)構(gòu)200，能夠?qū)ο蛳路较蜉椛涞妮椛浔磉M(jìn)行有效清潔。另外，該輻射表清潔設(shè)備10還包括設(shè)置于所述清潔裝置401的背面的第三輻射表清潔機(jī)構(gòu)300和輻射表清潔機(jī)構(gòu)400，能夠?qū)ο蛏戏较蜉椛涞妮椛浔磉M(jìn)行有效清潔。

在本實(shí)用新型中，除非另有明確的規(guī)定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接觸，也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過(guò)它們之間的另外的特征接觸。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。

以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。