一種含氰廢水處理裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種含氰廢水處理裝置，包括一級(jí)破氰反應(yīng)單元、水解混凝沉淀單元、二級(jí)破氰反應(yīng)單元和余氯還原單元，其中，一級(jí)破氰反應(yīng)單元、二級(jí)破氰反應(yīng)單元、余氯還原單元內(nèi)均設(shè)置了攪拌機(jī)，水解混凝沉淀單元內(nèi)設(shè)置了斜管填料。其特征在于一級(jí)破氰反應(yīng)單元位于裝置的前端，余氯還原單元位于裝置的后端，水解混凝沉淀單元位于一級(jí)破氰反應(yīng)單元和二級(jí)破氰反應(yīng)單元之間，二級(jí)破氰反應(yīng)單元位于水解混凝沉淀單元和余氯還原單元之間，各單元通過管道或孔洞聯(lián)通。
【專利說明】一種含氰廢水處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于廢水處理領(lǐng)域，特別涉及電鍍等行業(yè)廢水處理的一種含氰廢水處
理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]氰化物是劇毒物質(zhì)，氰化物可在生物體內(nèi)產(chǎn)生氰化氫，使細(xì)胞呼吸受到麻痹引起窒息死亡。自然環(huán)境中普遍存在微量氰化物，主要來自肥料及有機(jī)質(zhì)。但高濃度的氰化物來自含氰工業(yè)污水，主要有電鍍污水、焦?fàn)t和高爐的煤氣洗滌廢水及冷卻水、一些化工污水和選礦污水等，其濃度可在l-180mg/l以上。電鍍工業(yè)是氰化物的主要來源之一，電鍍操作使用高濃度氰化物電鍍液以使鎘、銅和鋅等溶解在溶液中，含有氰離子以及金屬氰化物絡(luò)合離子的電鍍液隨鍍件帶出時(shí)會(huì)污染漂洗水。含氰廢水必需先經(jīng)處理，才可排入市政排水管網(wǎng)或地表水體。含氰廢水通常的處理方法有堿性氯化法、電解法、離子交換法、活性炭法。而堿性氯化法以其運(yùn)行成本低、處理效果穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)廣泛在工程中采用。堿性氯化法工藝也分兩種，一種是一級(jí)破氰工藝，控制反應(yīng)pH值在10~11，使廢水中氰化物降低到0.5mg/L，把反應(yīng)控制在氰化物不完全氧化(局部氧化)階段。另一種是二級(jí)破氰工藝，在不同的pH值條件下，第一步使氰化物在堿性條件下氧化為氰酸鹽，第二步使氰酸鹽氧化為氮?dú)夂吞妓猁}，徹底消除氰化物的毒性。一級(jí)破氰工藝簡(jiǎn)單、氯耗小，但因該工藝為不完全氧化，其出水中仍含有大量氰酸鹽，水質(zhì)指標(biāo)不符合目前最新的排放標(biāo)準(zhǔn)，現(xiàn)已很少使用。二級(jí)破氰工藝對(duì)氰化物的處理較為徹底，其反應(yīng)機(jī)理如下:
[0003]一級(jí)破氰反應(yīng):
[0004]CN>0Cr+H20 — CNC1+20F
[0005]CNC1+20F — CN0>Cr+H20
[0006]二級(jí)破氰反應(yīng):
[0007]2CN0>40r+3Cl2 — 2C02+N2+6Cr+2H20
[0008]現(xiàn)有二級(jí)破氰堿性氯化法含氰廢水處理工藝，在一級(jí)破氰階段，為避免CNCl有毒氣體逸出，通常將反應(yīng)PH控制在10以上，在二級(jí)破氰階段，氰酸鹽氧化分解反應(yīng)的關(guān)鍵是控制反應(yīng)PH值，pH > 8時(shí)，反應(yīng)速度會(huì)很慢，但pH值過低時(shí)，不僅CN0_水解生產(chǎn)生氨，會(huì)造成氨污染，而且氨與次氯酸也有生成氯胺的可能性。氯胺的毒性比氨大，反應(yīng)PH值越低，生成的氨越多，所以生成氯胺的可能性越大，耗氯越多。因此，通常將反應(yīng)PH控制在71之間。根據(jù)理論計(jì)算，一級(jí)破氰處理氯耗(Cl2 / CN_)為2.73，兩級(jí)處理總氯耗((:12/^【)大于
6.83。為了使氰化物降低到0.5mg/L，必須加入過量的氯，致使處理后廢水中存在較高的余氯，由于加氯尤其是加入漂白粉、漂粉精或次氯酸鈉這些含有效氯低但氯離子濃度高的藥劑，使外排水中氯離子濃度達(dá)0.5~15kg/m3，此外，二級(jí)破氰工藝處理后的廢水由于pH值低，重金屬含量高，必須再提高PH值以沉淀重金屬。 [0009]綜上所述，現(xiàn)有二級(jí)破氰堿性氯化法含氰廢水處理工藝，雖然對(duì)氰化物處理較為徹底，但存在氯耗較高導(dǎo)致處理費(fèi)用高，處理出水中余氯和氯離子含量較高導(dǎo)致二次污染，以及無法同步去除重金屬，還需后續(xù)再次加堿提高PH值以去除重金屬，從而使廢水處理系統(tǒng)總投資和運(yùn)行費(fèi)用增加等缺點(diǎn)，這些缺點(diǎn)和問題亟待解決。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]本實(shí)用型新的目的在于提供電鍍等行業(yè)廢水處理的一種含氰廢水處理裝置。該裝置將現(xiàn)有二級(jí)破氰堿性氯化法含氰廢水處理工藝進(jìn)行了優(yōu)化升級(jí)，通過在一級(jí)破氰反應(yīng)單元和二級(jí)破氰反應(yīng)單元之間增加水解混凝沉淀單元，在二級(jí)破氰反應(yīng)單元之后增加余氯還原單元，克服了現(xiàn)有技術(shù)氯耗量大、出水余氯和氯離子含量高及無法同步去除重金屬等缺點(diǎn)，相較現(xiàn)有技術(shù)，有效提高了廢水處理系統(tǒng)的出水水質(zhì)，降低了廢水處理系統(tǒng)的總投資和運(yùn)行費(fèi)用。
[0011]本實(shí)用新型的一種含氰廢水處理裝置，包括一級(jí)破氰反應(yīng)單元、水解混凝沉淀單元、二級(jí)破氰反應(yīng)單元和余氯還原單元，其中，一級(jí)破氰反應(yīng)單元、二級(jí)破氰反應(yīng)單元、余氯還原單元內(nèi)均設(shè)置了攪拌機(jī)，水解混凝沉淀單元內(nèi)設(shè)置了斜管填料。其特征在于一級(jí)破氰反應(yīng)單元位于裝置的前端，余氯還原單元位于裝置的后端，水解混凝沉淀單元位于一級(jí)破氰反應(yīng)單元和二級(jí)破氰反應(yīng)單元之間，二級(jí)破氰反應(yīng)單元位于水解混凝沉淀單元和余氯還原單元之間，各單元通過管道或孔洞聯(lián)通，待處理廢水依次流經(jīng)所述的四個(gè)單元，在一級(jí)破氰反應(yīng)單元內(nèi)，含氰廢水中的氰化物被氧化為氰酸鹽，在水解混凝沉淀單元內(nèi)，廢水中的氰酸鹽部分水解生成氨(nh3、NH4+)和碳酸鹽，從而減少了二級(jí)破氰時(shí)的氯耗量，同時(shí)，廢水中的重金屬離子如Cu2+等在堿性條件下生成氫氧化物或碳酸鹽沉淀物，在絮凝劑的作用下從廢水中分離出來，并沉積到水解混凝沉淀單元的泥斗中，從而實(shí)現(xiàn)同步去除重金屬離子的作用，此外，在混凝沉淀過程中，廢水中的部分還原性物質(zhì)也會(huì)得到去除，從而進(jìn)一步減少了二級(jí)破氰時(shí)的氯耗量。在二級(jí)破氰反應(yīng)單元內(nèi)，廢水中的氰酸鹽被氧化成二氧化碳和氮?dú)?。在余氯還原單元內(nèi)，廢水中殘留的余氯被還原劑還原，從而使系統(tǒng)出水余氯控制在允許的范圍內(nèi)。所述的一級(jí)破氰反應(yīng)單元水力停留時(shí)間控制在3(T40min內(nèi)，所述的二級(jí)破氰反應(yīng)單元水力停留時(shí)間控制在3(T40min內(nèi)，所述的水解混凝沉淀單元水力停留時(shí)間控制在4(T60min,所述的余氯還原單元水力停留時(shí)間控制在l(Tl5min,所述的攪拌機(jī)轉(zhuǎn)速為400?700rpm,所述的斜管填料內(nèi)徑為50?80mm。
[0012]【專利附圖】

【附圖說明】:圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]【具體實(shí)施方式】:下面結(jié)合附圖的具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，圖1所示結(jié)構(gòu)為本實(shí)用新型其中的一個(gè)優(yōu)選結(jié)構(gòu)，它是一種含氰廢水處理裝置，主要包括:一級(jí)破氰反應(yīng)單元1、水解混凝沉淀單元2、二級(jí)破氰反應(yīng)單元3和余氯還原單元4，其中，一級(jí)破氰反應(yīng)單元I內(nèi)設(shè)置了攪拌機(jī)5、二級(jí)破氰反應(yīng)單元2內(nèi)設(shè)置了攪拌機(jī)6、余氯還原單元4內(nèi)設(shè)置了攪拌機(jī)7，水解混凝沉淀單元3內(nèi)設(shè)置了斜管填料8。一級(jí)破氰反應(yīng)單元I位于裝置的前端，余氯還原單元4位于裝置的后端，水解混凝沉淀單元2位于一級(jí)破氰反應(yīng)單元I和二級(jí)破氰反應(yīng)單元3之間，二級(jí)破氰反應(yīng)單元3位于水解混凝沉淀單元2和余氯還原單元4之間，各單元通過管道或孔洞聯(lián)通，一級(jí)破氰反應(yīng)單元I水力停留時(shí)間控制在3(T40min內(nèi)，二級(jí)破氰反應(yīng)單元3水力停留時(shí)間控制在3(T40min內(nèi)，水解混凝沉淀單元2水力停留時(shí)間控制在4(T60min，余氯還原單元4水力停留時(shí)間控制在l(Tl5min，攪拌機(jī)5、6、7轉(zhuǎn)速為400?700rpm，斜管填料8內(nèi)徑為50?80mm。
【權(quán)利要求】
1.一種含氰廢水處理裝置，其特征在于包括一級(jí)破氰反應(yīng)單元、水解混凝沉淀單元、二級(jí)破氰反應(yīng)單元和余氯還原單元，其中，一級(jí)破氰反應(yīng)單元、二級(jí)破氰反應(yīng)單元、余氯還原單元內(nèi)均設(shè)置了攪拌機(jī)，水解混凝沉淀單元內(nèi)設(shè)置了斜管填料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含氰廢水處理裝置，其特征在于所述的一級(jí)破氰反應(yīng)單元位于裝置的前端，余氯還原單元位于裝置的后端，水解混凝沉淀單元位于一級(jí)破氰反應(yīng)單元和二級(jí)破氰反應(yīng)單元之間，二級(jí)破氰反應(yīng)單元位于水解混凝沉淀單元和余氯還原單元之間，各單元通過管道或孔洞聯(lián)通，待處理廢水依次流經(jīng)所述的四個(gè)單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含氰廢水處理裝置，其特征在于所述的一級(jí)破氰反應(yīng)單元水力停留時(shí)間控制在3(T40min內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含氰廢水處理裝置，其特征在于所述的二級(jí)破氰反應(yīng)單元水力停留時(shí)間控制在3(T40min內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含氰廢水處理裝置，其特征在于所述的水解混凝沉淀單元水力停留時(shí)間控制在4(T60min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含氰廢水處理裝置，其特征在于所述的余氯還原單元水力停留時(shí)間控制在10?15min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含氰廢水處理裝置，其特征在于所述的攪拌機(jī)轉(zhuǎn)速為400 ?700rpm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含氰廢水處理裝置，其特征在于所述的斜管填料內(nèi)徑為50?80mm。
【文檔編號(hào)】C02F103/16GK203754534SQ201420164677
【公開日】2014年8月6日 申請(qǐng)日期:2014年4月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月7日
【發(fā)明者】王冬梅, 張亮 申請(qǐng)人:無錫博美環(huán)境工程有限公司