專利名稱：一種高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置。
背景技術(shù)：
節(jié)能減排技術(shù)是當(dāng)前電路板行業(yè)的前沿技術(shù)，電路板電鍍廢水現(xiàn)用裝置對處理不同廢水(鍍銅、鍍錫等)要用到不同的物料(比如膜分離技術(shù)要用到不同的生物膜，每種生物膜的價格相當(dāng)昂貴)要加多套反滲透系統(tǒng)，并定期換膜，導(dǎo)致運行廢水處理設(shè)備的成本較大，高頻電路板電鍍工藝簡單，工藝時間短，產(chǎn)生的廢水如利用廢水處理設(shè)備處理，成本較高,水還無法回用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，它能使高頻電路板電鍍清洗工序產(chǎn)生的廢水做到零排放或微排放，通過本發(fā)明方法處理后，水可以再次回·用，達到減少廢水用量70% -80%，減少污水處理量50% -60%，運行成本比其他廢水處理方法能降低90%。本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案一種高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，其特征是它包括電鍍缸、清洗缸I、回收缸I、清洗缸II、回收缸II、清洗缸III、回收缸III、斜管沉淀池、活性碳吸附塔、收集回收池和細沙過濾水池，電鍍缸的出水口依次與清洗缸I、回收缸I、清洗缸II、回收缸II、清洗缸III和回收缸III連通，回收缸III的輸出口與斜管沉淀池的入口相連通，斜管沉淀池的出口與活性碳吸附塔的輸入口相連通，活性碳吸附塔的輸出口分為兩條支路，一條支路與收集回收池的輸入口連通，收集回收池的輸出口與細沙過濾水池輸入口連通，細沙過濾水池的輸入口分別與清洗缸I和清洗缸III回流口連通，另一條支路也與清洗缸I和清洗缸III回流口連通。所述的電鍍缸與清洗缸I之間設(shè)有清洗板I。所述的回收缸I與清洗缸II之間設(shè)有清洗板II。所述的回收缸II與清洗缸III之間設(shè)有清洗板III。本發(fā)明具有以下有益效果采用了以上技術(shù)方案后，本發(fā)明能使高頻電路板電鍍清洗工序產(chǎn)生的廢水做到零排放或微排放，在不經(jīng)過污水處理系統(tǒng)的情況下，水可以再次回用，達到減少廢水用量70% -80%，減少污水處理量50% -60%，運行成本比其他廢水處理方法能降低90%，回用水制備使用的酸堿再用于污水處理，不產(chǎn)生費用，清洗缸中清洗水多次循環(huán)使用后，在重金屬富集到一定濃度后(不符合清洗水標準)將清洗缸中的廢水通過斜管沉淀，活性碳吸附后排至收集回收池，采用化學(xué)法進行處理，處理后的清洗液經(jīng)細沙過濾可以再次使用，從而達到了電鍍廢水零排放的目的。


圖I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式在圖I中，本發(fā)明提供了一種高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，它包括電鍍缸、清洗缸I、回收缸I、清洗缸II、回收缸II、清洗缸III、回收缸III、斜管沉淀池、活性碳吸附塔、收集回收池和細沙過濾水池，電鍍缸的出水口依次與清洗缸I、回收缸I、清洗缸II、回收缸II、清洗缸III和回收缸III連通，電鍍缸與清洗缸I之間設(shè)有清洗板I，回收缸I與清洗缸II之間設(shè)有清洗板II，回收缸II與清洗缸III之間設(shè)有清洗板III，回收缸III的輸出口與斜管沉淀池的入口相連通，斜管沉淀池的出口與活性碳吸附塔的輸入口相連通，活性碳吸附塔的輸出口分為兩條支路，一條支路與收集回收池的輸入口連通，收集回收池的輸出口與細沙過濾水池輸入口連通，細沙過濾水池的輸入口分別與清洗缸I和清洗缸III回流口連通，另一條支路也與清洗缸I和清洗缸III回流口連通。應(yīng)用本發(fā)明采用的高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用方法，它包括以下步驟步驟一，I、廢水由電鍍缸內(nèi)通過清洗板后進入清洗缸I水清洗,通過清洗缸I溢流口溢流進入回收缸I，然后依次進入清洗缸II、回收缸II、清洗缸III、回收缸III，通過斜管沉淀池沉淀后進入活性碳吸附塔吸附后；步驟二，斜管沉淀池沉淀，活性碳吸附塔吸附后將水中 的雜質(zhì)直接分離，以H+離子置換水中的陽離子，以O(shè)IT根離子置換水中的陰離子，置換出的H++0F = H2O ;步驟三，然后將經(jīng)過活性碳吸附塔內(nèi)吸附的水一部分回流到清洗缸I和清洗缸III，另一部分排至收集回收池，采用化學(xué)法進行處理，處理后的清洗液經(jīng)細沙過濾可以再次使用，最后將過濾后的水也回流到清洗缸I、清洗缸I，水回用使用，本步驟所述的是化學(xué)法處理采用硫酸亞鐵處理高頻電路板電鍍銅廢水，將銅還原為Cu2O,而鐵是以二價或三價氫氧化物形式存在，利用鐵的氫氧化物的凝聚作用，將Cu2O吸附，斜管沉淀后網(wǎng)捕，從而達到除銅的目的，發(fā)生的主要反應(yīng)式為
Fe2++20r= Fe (OH)2,
I
Fe (OH) 2+ r-e-= Fe (OH)3,
I
2CuS04+20H_+2e_=Cu20+2S042_-+H20,
處理掉Cu2_后的廢水經(jīng)加堿調(diào)整PH后可由細沙過濾澄清后返回至清洗缸當(dāng)清水用。
權(quán)利要求
1.一種高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，其特征是它包括電鍍缸、清洗缸I、回收缸I、清洗缸II、回收缸II、清洗缸III、回收缸III、斜管沉淀池、活性碳吸附塔、收集回收池和細沙過濾水池，電鍍缸的出水口依次與清洗缸I、回收缸I、清洗缸II、回收缸II、清洗缸III和回收缸III連通，回收缸III的輸出口與斜管沉淀池的入口相連通，斜管沉淀池的出口與活性碳吸附塔的輸入口相連通，活性碳吸附塔的輸出口分為兩條支路，一條支路與收集回收池的輸入口連通，收集回收池的輸出口與細沙過濾水池輸入口連通，細沙過濾水池的輸入口分別與清洗缸I和清洗缸III回流口連通，另一條支路也與清洗缸I和清洗缸III回流口連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，其特征是所述的電鍍缸與清洗缸I之間設(shè)有清洗板I。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，其特征是所述的回收缸I與清洗缸II之間設(shè)有清洗板II。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，其特征是所述的回收缸II與清洗缸III之間設(shè)有清洗板III。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種高頻電路板電鍍廢水化學(xué)處理水的回用裝置，它的電鍍缸的出水口依次與清洗缸Ⅰ、回收缸Ⅰ、清洗缸Ⅱ、回收缸Ⅱ、清洗缸Ⅲ和回收缸Ⅲ連通，回收缸Ⅲ的輸出口與斜管沉淀池的入口相連通，斜管沉淀池的出口與活性碳吸附塔的輸入口相連通，活性碳吸附塔的輸出口分為兩條支路，一條支路與收集回收池的輸入口連通，收集回收池的輸出口與細沙過濾水池輸入口連通，細沙過濾水池的輸入口分別與清洗缸Ⅰ和清洗缸Ⅲ回流口連通，另一條支路也與清洗缸Ⅰ和清洗缸Ⅲ回流口連通。
文檔編號C02F103/16GK102745847SQ20121022037
公開日2012年10月24日 申請日期2012年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月29日
發(fā)明者倪新軍, 徐萌 申請人:倪新軍