專利名稱：紫外線照射裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明的實施方式涉及ー種紫外線照射裝置。
背景技術(shù)：
紫外線處理被用于上下水道的殺菌/消毒(參照JP，P2004-223502A)。紫外線燈被用于紫外線照射裝置的紫外線光源，紫外線燈利用高頻放電來點亮。在高頻放電的頻率為IOMHz以上的情況下，來自紫外線燈與裝置內(nèi)部的供電線的電波泄漏的主要原因是電場。該情況下，僅通過金屬來遮擋紫外線燈與裝置內(nèi)部的供電線便能基本抑制電波泄漏。但是，在利用大于等于IOkHz且小于等于IOMHz的頻率的高頻放電來點亮紫外線燈的情況下，來自紫外線燈與裝置內(nèi)部的供電線的磁場會泄漏，泄漏到裝置外部的磁場可能使其他機器誤工作。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的課題是提供一種能夠避免來自紫外線燈與裝置內(nèi)部的供電線的電磁波向裝置外部泄漏的紫外線照射裝置。實施方式的紫外線照射裝置具有紫外線照射水槽，具有處理水的給水口和處理水的排水ロ ；保護管，被配置于紫外線照射水槽內(nèi)，貫通紫外線照射水槽的兩端；紫外線燈，被配置于保護管內(nèi)，通過大于等于IOkHz且小于等于IOMHz的高頻放電來點亮，井向處理水照射紫外線；保護罩，被分別設于紫外線照射水槽的兩端，遮擋紫外線和電磁波；電子鎮(zhèn)流器，被配置于保護罩內(nèi)；以及供電線，將紫外線燈與電子鎮(zhèn)流器電連接，被配置于紫外線照射水槽內(nèi)以及保護罩內(nèi)。能夠提供ー種紫外線照射裝置，其中紫外線照射水槽以及保護罩分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料構(gòu)成，且紫外線照射水槽以及保護罩的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。通過上述構(gòu)成的紫外線照射裝置，能夠避免來自紫外線燈與裝置內(nèi)部的供電線的電磁波向裝置外部泄漏。


圖I表示上水處理系統(tǒng)中的處理流程的概要。圖2是第一實施方式的紫外線照射裝置的剖面圖。圖3是第二實施方式的紫外線照射裝置的剖面圖。圖4放大表示圖3的紫外線照射裝置的重要部分。圖5是圖3的示意立體圖。、
圖6是第三實施方式的紫外線照射裝置的剖面圖。圖7是第四實施方式的紫外線照射裝置的剖面圖。圖8是第五實施方式的紫外線照射裝置的剖面圖。圖9表示一般金屬的比電導率(比導電率)X、相對磁導率(比透磁率)Y以及它們之積X · Y。
具體實施例方式以下，對本實施方式的紫外線照射裝置加以說明。另外，本實施方式并不限于下述內(nèi)容。首先，參照圖1，對上水處理系統(tǒng)中的處理流程的概要加以說明。首先，從河川、湖或地下水采集原水(步驟SI)。接著，將所采集的原水導入凝聚沉淀槽，向原水中添加凝聚劑來使微粒子凝聚并沉淀(步驟S2)。接著，將凝聚沉淀槽的上清液送至活性炭過濾槽濾出異物(步驟S3)。接著，將過濾水送至紫外線照射裝置井向過濾水照射紫外線(步驟S4)。接著，將UV (紫外線)消毒處理水送至氯注入槽，向UV消毒處理水中注入氯(步驟S5)。在步驟S5之后，經(jīng)處理的水被配送至一般家庭或企業(yè)等。本實施方式的紫外線照射裝置被用在步驟S4，進行上水道的殺菌、消毒、滅活。本實施方式的紫外線照射裝置也被用于下水道的殺菌、消毒、滅活。在本實施方式的紫外線照射裝置中，紫外線照射水槽以及保護罩分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成，且紫外線照射水槽以及保護罩的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度(表皮深さ)的3倍以上。作為導電性材料，可列舉出金屬、導電性樹脂、導電性鐵素體等。作為金屬，可列舉出例如不銹鋼(SUS316)等。作為導電性樹脂，可列舉出混合了金屬粉的樹脂以及在表面形成了金屬膜的樹脂。圖9表示一般金屬的比電導率X、相對磁導率Y以及它們之積X · Y。由于表皮效應，流過導體的高頻電流的電流密度在導體的表面高，而在遠離表面的位置低。電流密度J由與深度δ相關的下式來表示。J = e_5/d在此，d為表皮深度(μ m)，其為電流成為表面電流的Ι/e (約O. 37)處的深度。表皮深度d如下計算。d = (5. 03 X IO8) X ( P / μ r · f)1/2= (6· 609Χ1(Γ3)バf/σ r)1/2在此，P表示電阻率，μ 1 表示相對磁導率，f表示頻率，σ ^表示比電導率。以下，對具體的實施方式加以說明。(第一實施方式)參照圖2，對第一實施方式的紫外線照射裝置加以說明。筒狀的紫外線照射水槽I具有處理水的給水口 2以及處理水的排水ロ 3。紫外線照射水槽I由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成，紫外線照射水槽I的厚度為高頻電流的表皮深度的3倍以上。紫外線照射水槽I由例如不銹鋼(SUS304，SUS316，SUS316L等)形成。在紫外線照射水槽I內(nèi)配置有貫通紫外線照射水槽I的端部la、lb的筒狀的保護管6。保護管6為例如石英玻璃管。在保護管6內(nèi)配置有向紫外線照、射水槽I內(nèi)的處理水照射紫外線4的紫外線燈5。紫外線燈5利用大于等于IOkHz且小于等于IOMHz的高頻放電來點亮。在紫外線照射水槽I上設置監(jiān)視窗7，未作圖示的紫外線監(jiān)視器介由監(jiān)視窗7監(jiān)視紫外線燈5的紫外線照射量。在紫外線照射水槽I的兩端分別設有遮擋紫外線和電磁波的保護罩8。保護罩8由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成，保護罩8的厚度為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。保護罩8由例如金屬不銹鋼(SUS304，SUS316，SUS316L等)形成。在該實施例中，保護罩8由與紫外線照射水槽I相同的材料形成。在ー側(cè)的保護罩8的內(nèi)側(cè)配置有電子鎮(zhèn)流器(電子安定器)10。電子鎮(zhèn)流器10通過供電線9與紫外線燈5電連接。供電線9由例如鋁(Al)形成。在紫外線照射水槽I內(nèi)與紫外線燈5平行地配置有貫通紫外線照射水槽I的端部la、lb的筒狀的配管11。保護管6 的一側(cè)的端部與配管11的一側(cè)的端部由ー側(cè)的保護罩8覆蓋，并且保護管6的另ー側(cè)的端部與配管11的另ー側(cè)的端部由另ー側(cè)的保護罩8覆蓋。供電線9包含第一供電線9a和第二供電線％。第一供電線9a的一端連接于電子鎮(zhèn)流器10的ー側(cè)的端子，另一端在保護管6內(nèi)連接于紫外線燈5的ー側(cè)的端子。第二供電線9b的一端在保護管6內(nèi)連接于紫外線燈5的另ー側(cè)的端子，另一端通過保護管6、保護罩8以及配管11內(nèi)而連接于電子鎮(zhèn)流器10的另ー側(cè)的端子。第一供電線9a、第二供電線%、紫外線燈5以及電子鎮(zhèn)流器10連接成環(huán)狀。通過配管11內(nèi)的第二供電線9b與紫外線燈5平行地配置。因此，供電線9被配置于紫外線照射水槽I內(nèi)以及保護罩8內(nèi)。根據(jù)第一實施方式，紫外線照射水槽I以及保護罩8分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成。紫外線照射水槽I以及保護罩8厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。因此，能夠避免來自紫外線燈附近以及供電線9的電磁波向裝置外部泄漏，并能夠防止其他機器的誤工作。(第二實施方式)參照圖3 圖5，對第二實施方式的紫外線照射裝置加以說明。圖3表示紫外線照射裝置的剖面圖，圖4表示圖3的重要部分的擴大圖，圖5表示圖4的示意立體圖。但是，為與圖2所示的部件相同的部件賦予與圖2的符號相同的符號，并省略說明。如圖3所示，第二實施方式的紫外線照射裝置的供電線9a、9b在保護管6以及保護罩8內(nèi)以供電線9a、9b、紫外線燈5和電子鎮(zhèn)流器10形成環(huán)狀的方式連接。此外，第二供電線％的與紫外線燈5平行的部分在保護管6內(nèi)與紫外線燈5相接近地配置。如圖4以及圖5所示，紫外線燈5的兩端在保護管6的內(nèi)部被固定于陶瓷制成的引導部件12。第二供電線％貫通兩側(cè)的引導部件12的貫通孔12a，通過固定部件13被固定于ー側(cè)的引導部件12。在圖4中，固定部件13被固定于遠離電子鎮(zhèn)流器10的引導部件12。另外，圖4、圖5中的符號14表不紫外線燈5的電極。根據(jù)第二實施方式，紫外線照射水槽I以及保護罩8分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成，紫外線照射水槽I以及保護罩8的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。因此，第二實施方式的紫外線照射裝置與第一實施方式的紫外線照射裝置同樣地，能夠避免來自紫外線燈附近以及供電線9的電磁波向裝置外部泄漏，并能夠防止其他機器的誤工作。如圖3所示，在利用高頻放電來點亮紫外線照射燈5的情況下，與電子鎮(zhèn)流器10連接的供電線9a、9b和紫外線燈5構(gòu)成環(huán)形天線。因此，不需要的電磁場易于被向裝置的外部放出。但是，第二實施方式中，第二供電線9b的與紫外線燈5平行的一部分在保護管6內(nèi)與紫外線燈5相接近地配置。因此，能夠避免不需要的電磁波向裝置的外部泄漏，并將防止其他機器的誤工作。而且，第二供電線％的一側(cè)的端部側(cè)通過固定部件13被固定于引導部件12，且第二供電線9b的另一端側(cè)以成為貫通引導板12的貫通孔12a的自由端的方式被支撐。即，第二供電線％被支撐于ー側(cè)的引導部件12，且被固定于另ー側(cè)的引導部件12。因此，即使第二供電線9b被來自紫外線燈5的輻射熱加熱膨張而產(chǎn)生熱變形，也能夠保持第二供電線％與紫外線燈5的配置關系。(第三實施方式)參照圖6，對第三實施方式的紫外線照射裝置加以說明。為與圖2所示的部件相同的部件賦予與圖2的符號相同的符號，并省略說明。
如圖6所示，第三實施方式的紫外線照射裝置與圖2相比保護管6的直徑大。此夕卜，連接于紫外線燈5的另ー側(cè)的端子的第二供電線9b在紫外線燈5的另ー側(cè)的端子側(cè)分支為供電線15a、15b。在紫外線燈5的ー側(cè)的端子側(cè)，供電線15a的另一端連接于供電線15b的另一端。這些供電線9a、9b、15a、15b被收納于保護管6以及保護罩8內(nèi)。相對于紫外線燈5線對稱地配置供電線15a、15b。另外，雖未作圖示，在圖6的紫外線照射裝置中，供電線15a、15b與圖4、圖5所示的第二供電線9b同樣地被固定部件支撐，且被固定于固定部件。根據(jù)第三實施方式，紫外線照射水槽I以及保護罩8分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料構(gòu)成，且紫外線照射水槽I以及保護罩8的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。因此，第三實施方式的紫外線照射裝置與第一實施方式的紫外線照射裝置同樣地，能夠避免來自紫外線燈附近以及供電線9的電磁波向裝置外部泄漏，并能夠防止其他機器的誤工作。根據(jù)第三實施方式，連接于紫外線燈5的另ー側(cè)的端子的第二供電線9b分支為供電線15a、15b，相對于紫外線燈5線對稱地配置這些分支的供電線15a、15b。因此，由通過第一供電線9a、紫外線燈5以及第二供電線9b的高頻電流16產(chǎn)生的磁場和由通過分支的供電線15a、15b的高頻電流17產(chǎn)生的磁場彼此抵消。因此，能夠避免合成磁場向裝置的外部泄漏。其結(jié)果是，通過第三實施方式，能夠防止其他機器的誤工作。另外，在第三實施方式中記述了將第二供電線9b分支為2根供電線15a、15b的情況，但并不限于此，也可以將第二供電線9b分支為例如4根的偶數(shù)根的分支供電線，將被分開的各2根分支供電線配置為相對于紫外線燈線對稱。另外，在該實施方式中，作為紫外線燈附近的供電線9b、15a、15b的材質(zhì)，優(yōu)選使用鋁或鋁合金。這是因為下述理由。即，紫外線燈周邊的空氣中的氧元素因紫外線而發(fā)生反應并生成臭氧。此外，由于供電線的金屬表面被臭氧氧化，供電線的金屬表面的導電率將發(fā)生變化。其結(jié)果是，流過被分支為多根的供電線的電流的平衡被破壞。流過供電線15a、15b的不平衡的電流所產(chǎn)生的磁場不能抵消流過第二供電線9b以及紫外線燈5的電流所產(chǎn)生的磁場。但是，鋁以及鋁合金具有耐臭氧性，能夠防止這些問題。(第四實施方式)參照圖7對第四實施方式的紫外線照射裝置加以說明。不過，為與圖2、圖6所示的部件相同的部件賦予與圖2、圖6的符號相同的符號，并省略說明。圖中的符號18、19分別為配置于紫外線照射水槽I的外側(cè)的供電線保護用的配管。配管18、19與紫外線燈5并行配置，且配管18、19的兩端部延伸至保護罩8所形成的空間。配管18、19分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成，且配管18、19的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。從供電線9b分支的ー側(cè)的供電線15a通過保護罩8以及配管18內(nèi)而被連接于電子鎮(zhèn)流器10的ー側(cè)端子。從供電線9b分支的另ー側(cè)的供電線15b通過保護罩8以及配管19在電子鎮(zhèn)流器10的附近連接于供電線15a。相對于紫外線燈5線對稱地配置供電線15a、15b的與紫外線燈5平行的部分。根據(jù)第四實施方式，能夠獲得與第一實施方式相同的效果。另外，在第四實施方式中，記述了將第二供電線9b分支為2根供電線15a、15b的情況，但并不限于此，也可以將第ニ供電線％分支為例如4根的偶數(shù)根的供電線，相對于紫外線燈線對稱地配置被分開的各2根的供電線。該情況下，供電線保護用的多個配管與各供電線相對應地配置。
(第五實施方式)參照圖8，對第五實施方式的紫外線照射裝置加以說明。不過，為與圖2所示的部件相同的部件賦予與圖2的符號相同的符號，并省略說明。第五實施方式的紫外線照射裝置具有配置于紫外線燈5周圍的螺旋狀的第二供電線9b。以下詳細記述第二供電線9b的構(gòu)造。第二供電線9b分別具有多個第一區(qū)域9x、第二區(qū)域9y、第三區(qū)域9z。在平行于紫外線燈5且相對于紫外線燈5線對稱的第一線和第ニ線上配置第一區(qū)域9x和第二區(qū)域9y。第一區(qū)域9x被配置于第一線上，第二區(qū)域9y被配置于第二線上。第一區(qū)域9x和第二區(qū)域9y被交替地配置于各自的線上。第三區(qū)域9z被配置于垂直于紫外線燈5的長度方向的面上。交替配置的第一區(qū)域9x和第二區(qū)域9y由第三區(qū)域9z連接,多個第一區(qū)域9x、第二區(qū)域9y和第三區(qū)域9z形成一個連續(xù)的供電線。該連續(xù)的供電線的一端連接于紫外線燈5的另ー側(cè)的端子20，另一端連接于鎮(zhèn)流器裝置10的另ー側(cè)的端子。根據(jù)第五實施方式，紫外線照射水槽I以及保護罩8分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成，且紫外線照射水槽I以及保護罩8的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。因此，第五實施方式的紫外線照射裝置也與第一實施方式的紫外線照射裝置同樣地，能夠避免來自紫外線燈附近的電磁波向裝置外部泄漏，井能防止其他機器的誤工作。此外，根據(jù)第五實施方式的紫外線照射裝置，通過紫外線燈5中的高頻電流20的朝向與在平行于紫外線燈5的方向上流過第二供電線9b的高頻電流的朝向彼此相反。因此，能夠抵消各電流所產(chǎn)生的磁場。所以，能夠避免合成磁場向紫外線照射水槽6的外部泄漏，并能夠防止其他機器的誤工作。如以上所說明的，根據(jù)各實施方式的紫外線照射裝置，紫外線照射水槽I以及保護罩8分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料形成，且紫外線照射水槽I以及保護罩8的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。因此，各實施方式的紫外線照射裝置能夠避免來自紫外線燈附近的電磁波向裝置外部泄漏，并能夠防止其他機器的誤工作。
雖然已對本發(fā)明的幾個實施方式進行了說明，但這些實施方式只是作為例子示出，其意圖并不在于限定發(fā)明的范圍。這些新穎的實施方式可以通過其他各種形態(tài)得以實施，并可以在不脫離發(fā)明的主g的范圍內(nèi)進行各種省略、置換、變更。這些實施方式或其變形包含于發(fā)明的范圍或主g內(nèi)，并包含于權(quán)利要求內(nèi)所記載的發(fā)明及其 均等的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種紫外線照射裝置，具有 紫外線照射水槽，具有處理水的給水口和處理水的排水口 ； 保護管，被配置于上述紫外線照射水槽內(nèi)，貫通上述紫外線照射水槽的兩端； 紫外線燈，被配置于上述保護管內(nèi)，通過大于等于IOkHz且小于等于IOMHz的高頻放電來點亮，并向上述處理水照射紫外線； 保護罩，被分別設于上述紫外線照射水槽的兩端，遮擋紫外線和電磁波； 電子鎮(zhèn)流器，被配置于上述保護罩內(nèi)；以及 供電線，將上述紫外線燈與上述電子鎮(zhèn)流器電連接，被配置于上述紫外線照射水槽內(nèi)以及上述保護罩內(nèi)， 上述紫外線照射水槽以及保護罩分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料構(gòu)成，且上述紫外線照射水槽以及保護罩的厚度分別為流過上述紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 還具有供電線保護用的配管，上述供電線保護用的配管被配置于上述紫外線照射水槽內(nèi)，貫通上述紫外線照射水槽的兩端部，且與上述紫外線燈并行配置， 上述供電線具有第一供電線，其一端連接于上述電子鎮(zhèn)流器的一個端子，另一端連接于上述紫外線燈的一個端子；和第二供電線，其一端連接于上述紫外線燈的另一個端子，另一端通過上述配管內(nèi)并連接于上述電子鎮(zhèn)流器的另一個端子， 上述第二供電線配置為在上述配管內(nèi)與上述紫外線燈平行，上述第一供電線、上述第二供電線、上述紫外線燈以及上述電子鎮(zhèn)流器連接成環(huán)狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 上述供電線具有第一供電線，被配置于上述保護管內(nèi)，其一端連接于上述電子鎮(zhèn)流器的一個端子，且另一端連接于上述紫外線燈的一個端子；和第二供電線，被配置于上述保護管內(nèi)，其一端連接于上述紫外線燈的另一個端子，且另一端連接于上述電子鎮(zhèn)流器的另一個端子，上述第一供電線、上述第二供電線、上述紫外線燈以及上述電子鎮(zhèn)流器連接成環(huán)狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照明裝置，其特征在于， 上述供電線具有第一供電線，被配置于上述保護管內(nèi)，其一端連接于上述電子鎮(zhèn)流器的一個端子，另一端連接于上述紫外線燈的一個端子；和第二供電線，被配置于上述保護管內(nèi)，其一端連接于上述紫外線燈的另一個端子，另一端分支為偶數(shù)根的分支供電線并連接于上述電子鎮(zhèn)流器的另一個端子， 上述第二供電線中的第奇數(shù)根的分支供電線直接連接于上述電子鎮(zhèn)流器的上述一個端子，第偶數(shù)根的分支供電線在上述電子鎮(zhèn)流器的附近連接于第奇數(shù)根的分支供電線， 第奇數(shù)根的分支供電線與第偶數(shù)根的分支供電線配置為相對于上述紫外線燈線對稱。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 還具有供電線保護用的偶數(shù)的配管，該配管貫通上述紫外線照射水槽的兩端部，與上述紫外線燈并行配置于上述紫外線照射水槽的外側(cè)，上述配管分別由比電導率與相對磁導率之積為I以上的導電性材料構(gòu)成，且上述配管的厚度分別為流過上述紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上，上述供電線具有第一供電線，其一端連接于上述電子鎮(zhèn)流器的一個端子，且另一端連接于上述紫外線燈的一個端子；以及第二供電線，其一端連接于上述紫外線燈的另一個端子，且另一端連接于被分支為偶數(shù)根的分支供電線的第二供電線， 第二供電線中的第奇數(shù)根的分支供電線通過上述保護管、上述保護罩以及第奇數(shù)個的上述配管內(nèi)并直接連接于上述電子鎮(zhèn)流器的另一個端子，第二供電線中的第偶數(shù)根的分支供電線通過上述保護管、上述保護罩以及第偶數(shù)個的上述配管并在上述電子鎮(zhèn)流器的附近連接于第奇數(shù)根的分支供電線， 第奇數(shù)根的分支供電線和第偶數(shù)根的分支供電線配置為相對于上述紫外線燈線對稱。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照明裝置，其特征在于， 上述供電線具有第一供電線，被配置于上述保護管內(nèi)，其一端連接于上述電子鎮(zhèn)流器的一個端子，另一端連接于上述紫外線燈的一個端子；和第二供電線，被配置于上述保護管內(nèi)，其一端連接于上述紫外線燈的另一個端子，另一端連接于上述電子鎮(zhèn)流器的另一個端子，該第二供電線是配置于上述紫外線燈周圍的螺旋狀的供電線。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 上述供電線由鋁或鋁合金形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 還具有引導部件，在上述保護管內(nèi)分別固定上述紫外線燈的兩端；和固定部件，用于將上述第二供電線固定于位于隔著上述紫外線燈與上述電子鎮(zhèn)流器側(cè)相反一側(cè)的一個上述引導部件，上述第二供電線貫通上述兩個引導部件，通過上述固定部件被固定于上述一個引導部件，并被另一個上述引導部件支撐。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 上述導電性材料為金屬、導電性樹脂、或?qū)щ娦澡F素體。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 上述導電性材料為不銹鋼。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外線照射裝置，其特征在于， 上述紫外線照射水槽與上述保護罩由相同的材料形成。
全文摘要
紫外線照射裝置具有紫外線照射水槽，具有處理水的給水口和處理水的排水口；保護管，被配置于紫外線照射水槽內(nèi)，貫通紫外線照射水槽的兩端；紫外線燈，被配置于保護管內(nèi)，通過大于等于10kHz且小于等于10MHz的高頻放電點亮來向上述處理水照射紫外線；保護罩，被分別設于紫外線照射水槽的兩端，遮擋紫外線和電磁波；電子鎮(zhèn)流器(10)，被配置于上述保護罩；以及供電線，將上述紫外線燈與上述電子鎮(zhèn)流器(10)電連接。紫外線照射水槽以及保護罩分別由比電導率與相對磁導率之積為1以上的導電性材料構(gòu)成，且紫外線照射水槽以及保護罩的厚度分別為流過紫外線燈的高頻電流的頻率下的表皮深度的3倍以上。
文檔編號C02F1/32GK102674500SQ20121007072
公開日2012年9月19日 申請日期2012年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月17日
發(fā)明者吉澤直人, 城田昭彥, 小林伸次, 相馬孝浩, 阿部法光 申請人:株式會社東芝