專(zhuān)利名稱(chēng)：立式流體磁處理器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種工業(yè)領(lǐng)域的流體處理，特別涉及一種立式流體磁處理器。
背景技術(shù)：
目前在除垢、防垢、滅菌滅藻、防腐防銹等方面的磁處理裝置，一般磁處理裝置的安裝，采用和流體(水、液化氣、石油、成品油、氨液等)方向是平行方向，且多數(shù)為水平方向。 這種安裝方式必須要求安裝現(xiàn)場(chǎng)有比較大的空間，并且現(xiàn)場(chǎng)單根管道長(zhǎng)度比較長(zhǎng)，至少要長(zhǎng)于磁處理裝置的長(zhǎng)度，而且現(xiàn)場(chǎng)管道形狀須筆直等特殊工況條件，對(duì)于彎曲、異形等形狀管道很不容易安裝。如果安裝現(xiàn)場(chǎng)空間狹小、現(xiàn)場(chǎng)單根管道長(zhǎng)度比較短、現(xiàn)場(chǎng)管道形狀為異形等，現(xiàn)有的磁處理裝置無(wú)法安裝使用。另外，在使用平行流體磁處理器時(shí)，由于隨著被處理對(duì)象管道直徑的增大，管道中間易出現(xiàn)磁處理不到的地方，即容易出現(xiàn)“中空”現(xiàn)象，這嚴(yán)重影響磁處理效果。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明正是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種立式流體磁處理器。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器在流體磁化處理時(shí)的流動(dòng)方向上的高度大于流體進(jìn)入和流出所述立式流體磁處理器方向的長(zhǎng)度；導(dǎo)管的管徑總和不小于進(jìn)口法蘭的管徑，且不小于出口法蘭的管徑。所述的立式流體磁處理器包括進(jìn)口法蘭、出口法蘭、隔板、上罐體、下罐體、導(dǎo)管、 流體磁處理器、安裝法蘭；所述的立式流體磁處理器，在其一側(cè)設(shè)置有進(jìn)口法蘭，另一側(cè)設(shè)置有出口法蘭；所述的立式流體磁處理器，在其四周設(shè)置有安裝法蘭，在其內(nèi)部?jī)A斜設(shè)置有隔板，安裝法蘭將其分成上罐體和下罐體，上罐體與下罐體通過(guò)安裝法蘭連接緊固在一起。所述安裝法蘭水平設(shè)置，或者安裝法蘭與隔板在同一平行線上。所述立式流體磁處理器的下罐體的下部設(shè)置有支架。所述導(dǎo)管采用不導(dǎo)磁材質(zhì)制成，優(yōu)先采用不銹鋼管、Pra管和PVC管。所述進(jìn)口法蘭和出口法蘭中心線夾角為0°、45°、60°或90°。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器，把現(xiàn)有平行磁處理的流體分成若干導(dǎo)管進(jìn)行單獨(dú)的磁處理，有效地延長(zhǎng)磁處理行程，避免磁處理過(guò)程中出現(xiàn)的“中空”現(xiàn)象，使得流體能夠完全、充分、有效地磁處理。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器很好解決現(xiàn)有平行安裝的流體磁處理器的不足，其占用空間小，對(duì)現(xiàn)場(chǎng)流體管道長(zhǎng)度要求不高，能適用各種異型的流體管道形狀，適應(yīng)各種工況要求。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例一所述的立式流體磁處理器主剖視圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例一所述的立式流體磁處理器左視圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例一所述的立式流體磁處理器仰視圖；[0013]圖4為本發(fā)明實(shí)施例二所述的立式流體磁處理器主剖視圖；圖5為本發(fā)明實(shí)施例二所述的立式流體磁處理器右視圖；其中1 一進(jìn)口法蘭、2—出口法蘭、3 —隔板、4 一上罐體、5—下罐體、6—導(dǎo)管、7—支架、 8—流體磁處理器、9一安裝法蘭。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合具體的實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的內(nèi)容。實(shí)施例一采用直列式導(dǎo)管的立式流體磁處理器(進(jìn)口管徑不小于200mm)如圖1所示，為本發(fā)明實(shí)施例一所述的立式流體磁處理器主剖視圖，圖2為其左視圖，圖3為其仰視圖。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器包括進(jìn)口法蘭1、出口法蘭2、隔板 3、上罐體4、下罐體5、導(dǎo)管6、支架7、流體磁處理器8、安裝法蘭9。所述的立式流體磁處理器為一個(gè)罐體，其一側(cè)設(shè)置有進(jìn)口法蘭1，另一側(cè)設(shè)置有出口法蘭2，流體沿X方向從進(jìn)口法蘭1進(jìn)入立式流體磁處理器，經(jīng)過(guò)磁處理后再沿X方向從出口法蘭2流出。所述的立式流體磁處理器，在其四周還水平設(shè)置有安裝法蘭9，內(nèi)部?jī)A斜設(shè)置有隔板3，安裝法蘭9將立式流體磁處理器分成兩部分，上部為上罐體4，下部為下罐體5。上罐體4與下罐體5通過(guò)安裝法蘭9連接緊固在一起，隔板3焊接在下罐體5上。在隔板3上設(shè)置有導(dǎo)管6，導(dǎo)管6上設(shè)置有流體磁處理器8。導(dǎo)管6為中空結(jié)構(gòu)，流體在導(dǎo)管6中流動(dòng)時(shí)，由流體磁處理器8對(duì)流體進(jìn)行磁處理。下罐體5的下部還設(shè)置有支架7，用于支撐整個(gè)立式流體磁處理器。本實(shí)施例所述的立式流體磁處理器，其進(jìn)口法蘭1直徑為200毫米以上，其導(dǎo)管6 采用直列式結(jié)構(gòu)，適合對(duì)流量大的流體進(jìn)行磁處理。因此，為了更加省力實(shí)現(xiàn)搬運(yùn)與裝卸， 安裝法蘭9為水平設(shè)置，如圖1和圖2所示。通常情況下，進(jìn)口法蘭1和出口法蘭2中心線在同一水平線上，即兩者中心線夾角為0°，還可以根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)管道的形狀，夾角隨之構(gòu)成45°、60°和90°，這樣更加便于現(xiàn)場(chǎng)安裝。隔板3把立式流體磁處理器內(nèi)的流體分成未處理流體和已處理流體，未處理流體由進(jìn)口法蘭1進(jìn)入，通過(guò)一定壓力穿過(guò)導(dǎo)管6，在流體磁處理器8的處理下，形成已處理流體。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器，其導(dǎo)管6采用不導(dǎo)磁材質(zhì)制成，通常采用不銹鋼管、PPR管(Pentatricop印tide R印eats，三型聚丙烯管或無(wú)規(guī)共聚聚丙烯管)和PVC管 (Polyvinylchloride，聚氯乙烯管)等。導(dǎo)管6上設(shè)置有流體磁處理器8，本實(shí)施例是將流體磁處理器8安裝在導(dǎo)管6的四周，還可以采用一定數(shù)量的強(qiáng)磁棒平行固定于導(dǎo)管6的四周；或者采用瓦狀的磁性材料環(huán)繞固定于導(dǎo)管6的四周；或者是采用圓珠式的磁性材料密布固定于導(dǎo)管6的四周等方式進(jìn)行磁處理。支架7根據(jù)立式流體磁處理器的重量設(shè)置有若干個(gè)。一般情況下，現(xiàn)場(chǎng)管道為水平設(shè)置，支架7設(shè)置在罐體的底部；當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)管道為垂直設(shè)置時(shí)，支架7可以安裝在罐體的一側(cè)。[0027]實(shí)施例二采用螺旋式導(dǎo)管的立式流體磁處理器(進(jìn)口管徑小于200mm)如圖4所示為實(shí)施例二所述的立式流體磁處理器主剖視圖，圖5為其右視圖。導(dǎo)管6可以設(shè)置成直列式、螺旋式或蛇形，以便延長(zhǎng)流體的磁處理行程。本實(shí)施例為采用螺旋式導(dǎo)管的立式流體磁處理器。導(dǎo)管6的數(shù)量可以為單個(gè)導(dǎo)管或多個(gè)導(dǎo)管，但導(dǎo)管6的管徑總和不小于進(jìn)口法蘭1的管徑，且不小于出口法蘭2的管徑，以保證流體的整體流速不受太大影響。本實(shí)施例所述的立式流體磁處理器，其進(jìn)口法蘭1直徑小于200毫米，且導(dǎo)管6采用螺旋式結(jié)構(gòu)，適合對(duì)流量小的流體進(jìn)行磁處理。因此，安裝法蘭9與隔板3在同一水平線上，或者將兩者設(shè)計(jì)成為一個(gè)整體。這樣由安裝法蘭9將立式流體磁處理器分成上罐體4 和下罐體5，如圖4所示。工作時(shí)，流體沿X方向從進(jìn)口法蘭1進(jìn)入立式流體磁處理器，在充滿(mǎn)下罐體5后， 在壓力作用下，流體沿Y方向進(jìn)入導(dǎo)管6，并由流體磁處理器8進(jìn)行磁化處理。處理后的流體溢出導(dǎo)管6，進(jìn)入上罐體4，最后經(jīng)由出口法蘭2沿X方向流出立式流體磁處理器，最終實(shí)現(xiàn)流體的磁處理。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器，其在導(dǎo)管6方向上的高度大于流體進(jìn)入和流出所述立式流體磁處理器方向的長(zhǎng)度，并且導(dǎo)管6的管徑總和不小于進(jìn)口法蘭1的管徑，也不小于出口法蘭2的管徑。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器，把現(xiàn)有平行磁處理的流體分成若干導(dǎo)管進(jìn)行單獨(dú)的磁處理，有效地延長(zhǎng)磁處理行程，避免磁處理過(guò)程中出現(xiàn)的“中空”現(xiàn)象，使得流體能夠完全、充分、有效地磁處理。本發(fā)明所述的立式流體磁處理器很好解決現(xiàn)有平行安裝的流體磁處理器的不足， 其占用空間小，對(duì)現(xiàn)場(chǎng)流體管道長(zhǎng)度要求不高，能適用各種異型的流體管道形狀，適應(yīng)各種工況要求。
權(quán)利要求1.一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述的立式流體磁處理器在流體磁處理時(shí)的流動(dòng)方向上的高度大于流體進(jìn)入和流出所述立式流體磁處理器方向的長(zhǎng)度；導(dǎo)管(6)的管徑總和不小于進(jìn)口法蘭(1)的管徑，且不小于出口法蘭(2)的管徑。
2.如權(quán)利要求1所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述的立式流體磁處理器包括進(jìn)口法蘭(1)、出口法蘭(2)、隔板(3)、上罐體(4)、下罐體(5)、導(dǎo)管(6)、流體磁處理器(8)、安裝法蘭(9)；所述的立式流體磁處理器，在其一側(cè)設(shè)置有進(jìn)口法蘭(1)，另一側(cè)設(shè)置有出口法蘭(2 )；所述的立式流體磁處理器，在其四周設(shè)置有安裝法蘭(9 )，在其內(nèi)部?jī)A斜設(shè)置有隔板(3)，安裝法蘭(9)將其分成上罐體(4)和下罐體(5)，上罐體(4)與下罐體 (5)通過(guò)安裝法蘭(9)連接緊固在一起。
3.如權(quán)利要求2所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述安裝法蘭(9)水平設(shè)置，或者安裝法蘭(9)與隔板(3)在同一平行線上。
4.如權(quán)利要求2所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述立式流體磁處理器的下罐體(5)的下部設(shè)置有支架(7)。
5.如權(quán)利要求2所述的一種立式流體磁處理器，其特征在于，所述進(jìn)口法蘭(1)和出口法蘭(2)中心線夾角為0°、45°、60°或90°。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種立式流體磁處理器。所述的立式流體磁處理器在流體磁化處理時(shí)的流動(dòng)方向上的高度大于流體進(jìn)入和流出所述立式流體磁處理器方向的長(zhǎng)度；導(dǎo)管的管徑總和不小于進(jìn)口法蘭的管徑，且不小于出口法蘭的管徑。所述的立式流體磁處理器包括進(jìn)口法蘭、出口法蘭、隔板、上罐體、下罐體、導(dǎo)管、流體磁處理器、安裝法蘭。本實(shí)用新型所述的立式流體磁處理器，把現(xiàn)有平行磁處理的流體分成若干導(dǎo)管進(jìn)行單獨(dú)的磁處理，很好解決現(xiàn)有平行安裝的流體磁處理器的“中空問(wèn)題”，其占用空間小，對(duì)現(xiàn)場(chǎng)流體管道長(zhǎng)度要求不高，能適用各種異型的流體管道形狀，適應(yīng)各種工況要求。
文檔編號(hào)C02F1/48GK202246197SQ201120384508
公開(kāi)日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2011年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月11日
發(fā)明者孫靖坤 申請(qǐng)人:孫靖坤