專利名稱：流體處理系統(tǒng)和用于其中的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
在本發(fā)明的一個(gè)方面，本發(fā)明涉及輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，特別是一種紫外輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件。在本發(fā)明的另一個(gè)方面，還涉及到流體處理系統(tǒng)，尤其是一種紫外輻射水處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
流體處理系統(tǒng)在其技術(shù)領(lǐng)域中已經(jīng)廣為人知。更具體地說(shuō)，紫外(UV)輻射流體處理系統(tǒng)在其技術(shù)領(lǐng)域中已經(jīng)廣為人知。早期的處理系統(tǒng)包括一種完全封閉的腔室設(shè)計(jì)，其中包括一個(gè)或多個(gè)輻射(優(yōu)選UV)燈。但是，在這些早期的設(shè)計(jì)中存在著一些問(wèn)題。在將這些設(shè)計(jì)應(yīng)用于大型的開(kāi)放流體處理系統(tǒng)中時(shí)，所存在的問(wèn)題尤其明顯。大型開(kāi)放流體處理系統(tǒng)的代表是大型市政廢水或飲用水處理工廠。因此，與這些處理系統(tǒng)相關(guān)的反應(yīng)器具有以下問(wèn)題·反應(yīng)器具有相對(duì)高的資本成本；·很難接近淹沒(méi)的反應(yīng)器和/或浸泡的設(shè)備(燈、套管清潔器等)；·與去除流體處理設(shè)備的污物相關(guān)的困難；和/或·為了對(duì)浸泡的元件(套管、燈等)進(jìn)行維護(hù)，需要將整個(gè)設(shè)備替換。
這些存在于傳統(tǒng)封閉反應(yīng)器中的缺點(diǎn)導(dǎo)致了所謂的“明渠”反應(yīng)器的發(fā)展。
例如，美國(guó)專利4,482,809，4,872,980和5,006,244(都在Maarschalkerweerd的名下并且都轉(zhuǎn)讓給本發(fā)明的受讓人，之后稱之為Maarschalkerweerd #1專利)都描述了利用紫外(UV)輻射的重力自流入流體處理系統(tǒng)。
這樣的系統(tǒng)包括UV燈標(biāo)準(zhǔn)組件(例如框架)的陣列，每個(gè)UV燈標(biāo)準(zhǔn)組件包括幾個(gè)UV燈，每個(gè)UV燈都安裝在套管內(nèi)，套管在一對(duì)支撐腿之間延伸并且由支撐腿支撐，而支撐腿則安裝在橫梁上。將這樣支撐的套管(包含UV燈)浸入要被處理的流體中，然后使流體按照需要被輻射。流體所受到的輻射量根據(jù)以下因素確定流體與燈的接近程度、燈的輸出功率和流體經(jīng)過(guò)燈的流動(dòng)速率。具有代表性地，利用一個(gè)或多個(gè)UV傳感器監(jiān)測(cè)燈的UV輸出，并且利用位于處理裝置下游一些的水位閘門(mén)等控制流體水位。
Maarschalkerweerd #1所描述的流體處理系統(tǒng)的特征在于它提高了將設(shè)備從淹沒(méi)或浸入的狀態(tài)取出的能力而無(wú)須完全的設(shè)備替換。這些設(shè)計(jì)將燈陣列劃分為行和/或列，并且其特征在于在自由流動(dòng)頂部敞開(kāi)的渠道中，反應(yīng)器的頂部開(kāi)放。
Maarschalkerweerd #1所描述的流體處理系統(tǒng)的特征在于具有自由流體流動(dòng)表面(有代表性地是不有意限制或控制頂部流體表面)。因此，系統(tǒng)具有特色的地方在于它將遵循明渠水力學(xué)的特性。由于系統(tǒng)的設(shè)計(jì)包括固有的自由流動(dòng)流體表面，在一列或其它水力相鄰的列受到水位變化的不利影響之前，對(duì)每個(gè)燈或每個(gè)燈陣列所能處理的最大流動(dòng)有一定的限制。如果流體水位過(guò)高或者流動(dòng)中有很大的變化，不受限制的或者自由流動(dòng)流體表面能夠改變流體流動(dòng)的處理容積和橫截面形狀，因此導(dǎo)致反應(yīng)器的效率相對(duì)低下。假若對(duì)陣列中的每盞燈提供的功率較低，每盞燈的流體流動(dòng)相對(duì)較低。在這些較低功率的燈和隨后的較低水力負(fù)載處理系統(tǒng)中，完全明渠流體處理系統(tǒng)的概念就足夠了。這里的問(wèn)題是由于燈的功率較低，處理同樣的流動(dòng)就需要相對(duì)大量的燈。因此，系統(tǒng)的固有成本會(huì)過(guò)大和/或即使與自動(dòng)燈套管清潔和大流體容積處理系統(tǒng)的其它特點(diǎn)結(jié)合起來(lái)，仍然沒(méi)有競(jìng)爭(zhēng)性。
這導(dǎo)致了所謂的“半封閉”流體處理系統(tǒng)。
美國(guó)專利5,418,370，5,539,210和Re36,896(都在Maarschalkerweerd的名下并且都轉(zhuǎn)讓給本發(fā)明的受讓人，之后稱之為Maarschalkerweerd #2專利)都描述了在利用紫外(UV)輻射的重力自流入流體處理系統(tǒng)中的改進(jìn)的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件。概括地說(shuō)，改進(jìn)的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件包括密封地懸臂于支撐件上的輻射源組件(具有代表性地，包括一個(gè)輻射源和一個(gè)保護(hù)(例如，石英)套管)。支撐件可以進(jìn)一步包括適當(dāng)?shù)难b置以在自流入流體處理系統(tǒng)中固定輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件。
因此，為了處理具有大量燈和與每盞燈相關(guān)的清潔方面的增加的高花費(fèi)，將具有高輸出的燈應(yīng)用于UV流體處理。其結(jié)果是可以大幅度減少燈的數(shù)目和每盞燈的長(zhǎng)度。這導(dǎo)致自動(dòng)燈套管清潔設(shè)備的經(jīng)濟(jì)性并且減少了處理系統(tǒng)所需的空間以及其它好處。為了使用功率更高的燈(如中壓UV燈)，如果對(duì)反應(yīng)器的所有表面都不加以限制，在系統(tǒng)的應(yīng)用過(guò)程中每盞燈的水力負(fù)載會(huì)增加到反應(yīng)器中的流體處理容積/橫截面面積有很大改變的程度，這會(huì)使得系統(tǒng)具有相對(duì)低的效率。因此Maarschalkerweerd #2專利的特征在于在反應(yīng)器的處理面積中具有限制所處理流體的閉合表面。封閉處理系統(tǒng)具有開(kāi)放的、放置于明渠中的端部。利用回轉(zhuǎn)樞軸、滑動(dòng)器和各種裝置可以將浸沒(méi)或浸入的設(shè)備(UV燈，清潔器等)從半封閉的反應(yīng)器中將設(shè)備移出到自由表面。
Maarschalkerweerd #2專利中描述的流體處理系統(tǒng)的特征在于燈的長(zhǎng)度相對(duì)短，這些燈懸臂于基本上垂直的支撐臂上(即只在一端支撐燈)。這允許燈從半封閉反應(yīng)器中旋轉(zhuǎn)出來(lái)或者用其它的方法取出。當(dāng)考慮到將電能轉(zhuǎn)換為UV能的效率時(shí)，這些非常短并且功率更高的燈在本質(zhì)上具有低效的特征。與物理接觸并且支撐這些燈的所需設(shè)備相關(guān)的成本很高。
Maarschalkerweerd #1和#2專利代表了在流體處理技術(shù)上的重要進(jìn)展，特別是關(guān)于水的紫外輻射處理。盡管有了這些進(jìn)展，仍然有進(jìn)一步發(fā)展的空間。隨著時(shí)間的流逝，UV光源或者燈的基本技術(shù)已經(jīng)有了進(jìn)一步的發(fā)展。具體地說(shuō)，燈的制造商正在發(fā)展功率更強(qiáng)的燈，在將電能轉(zhuǎn)換為UV能的方面它們也比中壓燈更有效。這些效率更高的光源其典型實(shí)際長(zhǎng)度比中壓燈長(zhǎng)，為了利用這些燈，必須處理兩個(gè)問(wèn)題。首先，由于燈更長(zhǎng)了，有必要在不大幅度增加流體處理系統(tǒng)成本的前提下能夠很容易地將燈從反應(yīng)器中取出。其次，燈的功率更大并且其尺寸更長(zhǎng)引起了新的危險(xiǎn)，即流體的整體速度可能超過(guò)明渠或自由表面水力反應(yīng)器設(shè)計(jì)所能夠接受的數(shù)值。
因此，需要具有能夠應(yīng)用新近發(fā)展的所謂“低壓、高輸出”(LPHO)和/或汞齊燈的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和流體處理系統(tǒng)，同時(shí)能夠很容易地將燈從流體處理系統(tǒng)中取出以進(jìn)行維護(hù)等，并且具有在Maarschalkerweerd #2專利中所描述的流體處理系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種新穎的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，它能夠避免或減輕上面描述的現(xiàn)有技術(shù)中的至少一個(gè)缺點(diǎn)。
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種新穎的流體處理系統(tǒng)，它能夠避免或減輕上面描述的現(xiàn)有技術(shù)中的至少一個(gè)缺點(diǎn)。
因此，在本發(fā)明的一個(gè)方面，本發(fā)明提供一種輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，它包括一個(gè)支撐件，一個(gè)與支撐件連接的輻射源組件和一個(gè)放置在標(biāo)準(zhǔn)組件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和與第一表面相鄰的第二表面之間提供流體基本上不能透過(guò)的密封。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，本發(fā)明提供一種輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，它包括多個(gè)輻射源，每個(gè)輻射源(i)具有和相鄰輻射源的同心縱向軸線大致平行排列的同心縱向軸線，和(ii)放置在與每個(gè)相鄰輻射源離開(kāi)預(yù)定距離的位置上并且在相鄰輻射源的同心縱向軸線之間限定了預(yù)定的中心到中心的距離，輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件進(jìn)一步包括一個(gè)限制件，它具有一個(gè)放置在離開(kāi)相鄰輻射源一定距離的表面，這個(gè)距離是中心到中心距離的一個(gè)預(yù)定部分。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，本發(fā)明提供一種流體處理系統(tǒng)，它包括一個(gè)承接流體流動(dòng)的明渠，放置在明渠中的至少一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，至少一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件的一個(gè)表面把要被處理的流體限制在封閉流體處理區(qū)域內(nèi)，輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件包括至少一個(gè)放置在流體處理區(qū)域中的輻射源組件。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，本發(fā)明提供一種流體處理系統(tǒng)，它包括一個(gè)承接流體流動(dòng)的明渠，一個(gè)可以在限定了封閉區(qū)域的第一位置和限定了開(kāi)放區(qū)域的第二位置之間移動(dòng)的限制件，至少一個(gè)放置在明渠中的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，該輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件具有至少一個(gè)輻射源元件，至少一部分輻射源元件放置在封閉區(qū)域內(nèi)。
因此，本發(fā)明已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了一種流體處理系統(tǒng)，它具有Maarschalkerweerd #2專利所描述的系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)可以相對(duì)容易地在Maarsehalkerweerd #1專利所陳述的明渠中實(shí)施。另外，本流體處理系統(tǒng)易于安裝多系列(如連續(xù)放置)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件(例如裝入了LPHO型或其它類型的輻射燈)。另外，本流體處理系統(tǒng)允許輻射源具有更近的間距-在處理低級(jí)流體時(shí)這是需要的。另外，本流體處理系統(tǒng)易于裝入混合器或混合元件以方便流體處理。在本發(fā)明的流體處理系統(tǒng)中，有效地提供了一個(gè)限制件，它可以在第一位置和第二位置之間移動(dòng)，在第一位置流過(guò)流體處理系統(tǒng)的流體流動(dòng)被限制在一個(gè)相對(duì)封閉的橫截面內(nèi)，反之，基本上在限制件上游和下游的流體流動(dòng)被稱為開(kāi)放流動(dòng)(即在所有側(cè)都不受限制)。
在整個(gè)說(shuō)明書(shū)中，涉及了一些術(shù)語(yǔ)，如“封閉區(qū)域”、“封閉橫截面”和“受限制的“。這些術(shù)語(yǔ)在本質(zhì)上是可以交換使用的并且用來(lái)包含一種結(jié)構(gòu)，這個(gè)結(jié)構(gòu)以類似于Maarschalkerweerd #2專利所描述的形式包圍流體流動(dòng)。在本流體處理系統(tǒng)的情況中，在一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)相鄰放置的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件的組合提供限制件，每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件具有它自己的所謂限制件，從而通過(guò)組合在一起，在明渠中提供了一個(gè)整體的限制件。
另外，在本說(shuō)明書(shū)中，術(shù)語(yǔ)“標(biāo)準(zhǔn)組件”的應(yīng)用與輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和隔板標(biāo)準(zhǔn)組件相聯(lián)系，它包括一個(gè)能夠在整個(gè)系統(tǒng)(如流體處理系統(tǒng))中使用的重復(fù)組件。另外，本說(shuō)明書(shū)中使用的術(shù)語(yǔ)“流體”具有較廣的意義，它包括液體和氣體。利用本系統(tǒng)的優(yōu)選進(jìn)行處理的流體是液體，最好是水(如廢水、工業(yè)污水、再使用水和飲用水等)。
那些本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解在本說(shuō)明書(shū)中提到的密封件等在相鄰輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和隔板標(biāo)準(zhǔn)組件(如果有的話)之間提供了實(shí)用的流體密封。那些本領(lǐng)域技術(shù)人員很清楚為了實(shí)現(xiàn)本流體處理系統(tǒng)的好處絕對(duì)的不透過(guò)任何流體的密封是不必要的，可以發(fā)生少量的泄露(如一旦有這種泄露，將這些泄露流體再循環(huán)到流體流動(dòng)中是很簡(jiǎn)單的事)。盡管有這種少量的泄露，限制件起到它的作用，即在一個(gè)區(qū)域內(nèi)基本上圍繞、限制、包圍、包住流體流動(dòng)，在這個(gè)區(qū)域內(nèi)至少放置了輻射源的一部分。


將參照

本發(fā)明的實(shí)施例，其中類似的參考標(biāo)號(hào)表示相似的元件，其中圖1說(shuō)明了本輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和流體處理系統(tǒng)第一個(gè)實(shí)施例的部分橫截面的透視圖；圖2說(shuō)明了沿圖1中線II-II的剖視圖；圖3和圖4說(shuō)明了圖1所示輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件在運(yùn)行和被取出位置時(shí)橫截面的側(cè)視圖；
圖5說(shuō)明了本輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和流體處理系統(tǒng)第二個(gè)實(shí)施例的透視圖；圖6和圖7說(shuō)明了圖5所示輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件在運(yùn)行和被取出位置時(shí)橫截面的側(cè)視圖；圖8說(shuō)明了本輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和流體處理系統(tǒng)第三個(gè)實(shí)施例的透視圖；圖9說(shuō)明了示于圖8的流體處理系統(tǒng)的一端(為了清晰的目的示出了少一些的標(biāo)準(zhǔn)組件)；圖10示出了示于圖8的流體處理系統(tǒng)的一部分的透視圖，其中一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件處于被取出位置；圖11示出了示于圖8的流體處理系統(tǒng)的一部分的側(cè)視圖，其中一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件處于被取出位置；圖12示出了示于圖10的流體處理系統(tǒng)的一部分的放大視圖，其中輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件被轉(zhuǎn)動(dòng)取出以便維護(hù)等；圖13示出了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選模式的示意性視圖。
優(yōu)選實(shí)施例的描述參考圖1到圖4描述流體處理系統(tǒng)100，它包括明渠105。明渠105包括一對(duì)側(cè)壁110和底部115。
在明渠105中放置著一系列輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120。每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120包括一對(duì)支撐腿125。在每個(gè)給定的標(biāo)準(zhǔn)組件中一系列可使輻射透過(guò)的保護(hù)套管130放置在一對(duì)支撐腿125之間。如LPHO紫外輻射燈這樣的輻射源燈(未示出)放置在每個(gè)保護(hù)套管130的內(nèi)部。以流體密封的形式將套管130與支撐腿125連接起來(lái)的辦法是傳統(tǒng)的，如可參考專利Maarschalkerweerd #1、#2和其它授予TrojanTechnologies Inc.的專利。
對(duì)于給定的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120，每對(duì)支撐腿125用橫梁135連接。在每個(gè)橫梁135的一端放置著具有孔眼的件140。連接在明渠105兩個(gè)側(cè)壁110上的一根樞軸桿145穿過(guò)每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120的孔眼件140。
特別參考圖1和圖2，每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120包括一個(gè)可膨脹的密封件150。每個(gè)可膨脹的密封件150連接到公共管道155上。公共管道155連接到諸如空氣或水的流體源(未示出)上。
進(jìn)一步參考圖2，可以看出可膨脹密封件150在第一位置和第二位置之間可以可逆地膨脹，其中密封件在第一位置以流體密封連接的形式在明渠105的相鄰輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120和/或壁110之間膨脹，在第二位置可膨脹的密封件150處于相對(duì)未膨脹狀態(tài)，因而在明渠105的相鄰輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120和/或壁110之間形成間隙。那些本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解靠近任一個(gè)壁110的一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120在橫梁135的每側(cè)都包括一個(gè)可膨脹的密封件150。其它的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120將只包括一個(gè)可膨脹的密封件150。
特別參考圖1和圖3，其中示出了運(yùn)行中的流體處理系統(tǒng)100。每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120都浸沒(méi)在明渠105中并且所有的可膨脹密封件150運(yùn)行于第一(膨脹的)位置，從而在明渠105的相鄰輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120和壁110之間形成基本上不漏水的密封。通過(guò)這種布置，限定了與Maarschalkerweerd #2專利的流體處理區(qū)域設(shè)計(jì)相類似的基本上封閉的橫截面流體處理區(qū)域165。這里的差別在于封閉流體處理區(qū)域的一個(gè)表面由一個(gè)可移開(kāi)的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件所限定，并且輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件包括相對(duì)較長(zhǎng)的輻射源。
圖4示出了位于取出位置的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120，在這個(gè)狀態(tài)對(duì)它的部件進(jìn)行維護(hù)。首先將要被取出的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120的可膨脹密封件150(為了清晰在圖4中未示出，可參考圖2)放氣使它處于第二(未膨脹)位置。為了將標(biāo)準(zhǔn)組件120取出，大致按箭頭A示出的方向擺動(dòng)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120使它繞樞軸桿145轉(zhuǎn)動(dòng)。在這個(gè)位置，可以對(duì)單獨(dú)一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件進(jìn)行維護(hù)同時(shí)將其它標(biāo)準(zhǔn)組件置于原處并且保持系統(tǒng)運(yùn)行。另外，也可以將所有的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件擺動(dòng)到取出位置以同時(shí)維護(hù)它們。
參考圖5-7，描述了輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和流體處理系統(tǒng)的第二個(gè)實(shí)施例。示出的流體處理系統(tǒng)200包括明渠205。明渠205包括兩個(gè)側(cè)壁210和底部215。
在明渠205之中放置著一系列輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220。每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件包括一對(duì)支撐腿225(在圖5-7中，只示出了每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220的一個(gè)支撐腿225)。對(duì)于給定的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220，在每對(duì)支撐腿225之間放置著一系列可使輻射透過(guò)的保護(hù)套管230。在每個(gè)保護(hù)套管230內(nèi)放置著至少一個(gè)諸如LPHO紫外輻射燈的輻射源(未示出)。
每對(duì)支撐腿225通過(guò)一個(gè)橫梁235連接。
對(duì)于每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220，在它的一端設(shè)有一對(duì)孔眼件240。一根放置在側(cè)壁210之間的樞軸桿245穿過(guò)每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220的每個(gè)孔眼件240。
盡管沒(méi)有特別示出，每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220包括一個(gè)象上面描述的可膨脹密封件，可參考上面描述的和圖1-4示出的實(shí)施例。
輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220進(jìn)一步包括一個(gè)延伸件270。延伸件270優(yōu)選與每個(gè)支撐腿225具有基本相同的長(zhǎng)度。
特別參考圖6和圖7，將描述流體處理系統(tǒng)200的操作。
圖6繪出了處于工作位置的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220。因此，輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220的每個(gè)可膨脹密封件(未示出)處于第一(膨脹的)位置，因此在輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220和明渠205的壁210之間建立了一個(gè)基本上不漏水的密封。在箭頭B方向上行進(jìn)的流體(典型物是水)被迫使從延伸件270和橫梁235下面穿過(guò)，使得限定出流體處理區(qū)域265并且具有封閉的橫截面。
參考圖7，當(dāng)需要維護(hù)時(shí)，在箭頭C的方向擺動(dòng)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220使它繞樞軸桿245轉(zhuǎn)動(dòng)。這使得延伸件270向下擺動(dòng)。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解，放置在這個(gè)位置的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220將有效地偏轉(zhuǎn)流體使之通過(guò)明渠205中相鄰的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其結(jié)果是流體在系統(tǒng)200的通過(guò)量將減小因此減弱或避免了一些未處理流體的通過(guò)。那些本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠認(rèn)識(shí)到當(dāng)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件220處于圖7所示的位置時(shí)，延伸件270下游的流體水位的改變將根據(jù)以下因素明渠205中標(biāo)準(zhǔn)組件的總數(shù)目、被向上擺動(dòng)的標(biāo)準(zhǔn)組件的數(shù)目、相鄰源之間的間距等。
參考圖8-12，描述了輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和流體處理系統(tǒng)的第三個(gè)實(shí)施例。示出的流體處理系統(tǒng)300包括明渠305。明渠305包括兩個(gè)側(cè)壁310和底部315。
在明渠305之中放置著一系列輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320。每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320包括一對(duì)支撐腿325。對(duì)于給定的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320，在每對(duì)支撐腿325之間放置著一系列可使輻射透過(guò)的保護(hù)套管330。在每個(gè)保護(hù)套管330內(nèi)放置著至少一個(gè)諸如LPHO(或其它類型)紫外輻射燈的輻射源(為了清晰未示出)。
一個(gè)橫梁335連接著每個(gè)支撐腿325。
對(duì)于每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320，至少在其一端設(shè)有一個(gè)U形支架340，支架上具有樞軸桿345可放置在其中的一對(duì)孔。那些本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解，通過(guò)調(diào)節(jié)相鄰的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320可以對(duì)準(zhǔn)U形支架340，從而樞軸桿345可以穿過(guò)所有的U形支架340放置。優(yōu)選輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320配備一個(gè)位于下面的閉鎖或類似的裝置(未示出)，從而在明渠的流動(dòng)條件下可以將輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件固定在其位置上。對(duì)下鎖或類似裝置的精確特性沒(méi)有特別的限制，并且可以將它們裝入每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)組件或者可以作為一個(gè)獨(dú)立結(jié)構(gòu)可松開(kāi)地與一個(gè)或多個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320接合。
在相鄰輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320之間放置有隔板標(biāo)準(zhǔn)組件350。隔板標(biāo)準(zhǔn)組件350包括一對(duì)在相對(duì)表面上的密封件352。圖9特別清楚地示出，密封件352接觸鄰接給定隔板標(biāo)準(zhǔn)組件350的每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320的橫梁335。如圖10所示，隔板標(biāo)準(zhǔn)組件350在其一端支撐在桿351上，它的相對(duì)一端支撐在樞軸桿345上。優(yōu)選隔板350的末端可松開(kāi)地接合到桿351上。
那些本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解，示于圖8-12的實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是只需要在每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320上提供很少的密封件(與上面參考圖1-4所描述的實(shí)施例相比)。更具體地說(shuō)，在一列相鄰的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320上，只有在輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件外部的橫梁335的外表面需要設(shè)有密封件-這在圖9中用參考標(biāo)號(hào)354示出。
進(jìn)一步參考圖8-12，將描述流體處理系統(tǒng)300的操作。
圖8描述了完全處于工作位置的流體處理系統(tǒng)300(所有的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320處于適當(dāng)?shù)奈恢?。位于每個(gè)隔板標(biāo)準(zhǔn)組件350相對(duì)兩側(cè)的密封件352在每個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320的橫梁335之間沿著至少一部分橫梁335，優(yōu)選沿著橫梁335的基本上整個(gè)長(zhǎng)度，提供一個(gè)流體基本上不能穿過(guò)的密封。另外，在每個(gè)最外側(cè)的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320的每個(gè)橫梁335的外表面上的密封件354在側(cè)壁310和每個(gè)最外側(cè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320的橫梁335之間提供一個(gè)流體基本上不能穿過(guò)的密封。這樣的結(jié)果是在輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320的相鄰橫梁335下面的明渠305的區(qū)域中提供了一個(gè)基本上封閉的流體處理區(qū)域(或者封閉區(qū)域)。
參考圖10-12，當(dāng)需要維護(hù)時(shí)，在箭頭E的方向擺動(dòng)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320使得它繞樞軸桿345轉(zhuǎn)動(dòng)。從圖11可以清楚地看出，部分轉(zhuǎn)動(dòng)上來(lái)的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320仍然有一部分橫梁335在區(qū)域F與相鄰的隔板標(biāo)準(zhǔn)組件350(為了清晰沒(méi)有示出)密封配合在一起。這在輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320陣列中與橫梁335聚集的最鄰近區(qū)域保持了流體基本上不能穿過(guò)的密封。這是輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件320和隔板標(biāo)準(zhǔn)組件350的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)。
參考圖13，它示意性地示出了實(shí)現(xiàn)明渠的一部分轉(zhuǎn)換為閉合橫截面的另一種裝置。在示于圖1-12的實(shí)施例中，用于限定流體處理區(qū)域的基本上封閉的橫截面通過(guò)旋轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)動(dòng)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件(有或沒(méi)有隔板標(biāo)準(zhǔn)組件)到適當(dāng)位置來(lái)實(shí)現(xiàn)。如圖13所示，明渠400承接在箭頭F方向的流體流動(dòng)。限制件410可在箭頭G的方向往復(fù)移動(dòng)。為了清晰起見(jiàn)沒(méi)有示出輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，但它們應(yīng)放置在明渠400的限制件410的表面415和底表面420之間。圖13示出了限制件怎樣移動(dòng)(線性或滑動(dòng)移動(dòng))以限定封閉區(qū)域(或封閉流體處理區(qū)域)的實(shí)施例。但是對(duì)這個(gè)實(shí)施例沒(méi)有特別地限制，限制件410的移動(dòng)可以通過(guò)其它形式實(shí)現(xiàn)，如轉(zhuǎn)動(dòng)或其它形式。
在整個(gè)說(shuō)明書(shū)中，利用一些概括性的術(shù)語(yǔ)并且參考詳細(xì)描述的實(shí)施例給出了在相鄰輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件和隔板標(biāo)準(zhǔn)組件(如果有的話)之間的密封件。只要這些密封件能夠?qū)崿F(xiàn)本發(fā)明陳述的目的，對(duì)它們的精確特性沒(méi)有特別的限制。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，密封件可以是所謂的“接觸密封”。一些適當(dāng)?shù)慕佑|密封的例子可以包括磁密封、電磁密封、氣壓密封、液壓密封、機(jī)械密封、流體靜壓密封等。另外，在另一個(gè)實(shí)施例中，密封可以是非接觸密封，它們不涉及兩個(gè)表面的物理接觸，而是基于跨越開(kāi)口的壓差引起流阻。這種密封的例子是所謂的窄縫密封、迷宮密封、射流密封、電密封等，在本發(fā)明的流體處理系統(tǒng)中優(yōu)選使用接觸密封。當(dāng)然可以使用各種密封的組合并且將它們包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
盡管已經(jīng)參考說(shuō)明性的實(shí)施例和例子描述了本發(fā)明，所做的描述不應(yīng)被理解為是限制性的。因此，參考這里的描述，對(duì)于那些本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)講，對(duì)本發(fā)明的說(shuō)明性的實(shí)施例以及其它實(shí)施例的各種改進(jìn)將很明顯。例如，象上面描述的Maarschalkerweerd #1專利中以各種形式所描述的，可以為輻射源在輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件中(例如在輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件120的橫梁135中)設(shè)置鎮(zhèn)流器或其它的電源。另外，可能象授予給Trojan Technologies Inc.的各種專利及其所公開(kāi)的各種專利所描述的那樣在輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件中裝入機(jī)械或化學(xué)/機(jī)械清潔系統(tǒng)。另外，還可以改進(jìn)所描述的實(shí)施例使得支撐腿125放在明渠105的底部115上。另外，盡管在每個(gè)詳細(xì)描述的實(shí)施例的流體處理系統(tǒng)中，輻射源具有基本上與明渠中流體流動(dòng)方向基本上平行的縱向軸線，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解可以改進(jìn)所描述的實(shí)施例使得輻射源的縱向軸線橫向于流體流動(dòng)方向。這可以通過(guò)定向輻射源的縱向軸線使之相對(duì)于流體流動(dòng)的方向基本上垂直(如在水平方向上垂直或在豎直方向上垂直)或者呈一定角度(如在水平方向上呈一定角度或在豎直方向上呈一定角度)。另外，如上所述，可以用其它可膨脹的或不可膨脹的由其它材料制成的密封系統(tǒng)改進(jìn)示出的特殊實(shí)施例。為實(shí)現(xiàn)密封，對(duì)于密封材料的選擇以及它的放置沒(méi)有特別的限制。重要的特征是輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件、密封和隔板標(biāo)準(zhǔn)組件(如果有的話)的組合一起工作來(lái)提供一個(gè)流體基本上不能透過(guò)的密封，從而限定了一個(gè)封閉流體處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)具有一個(gè)基本上封閉的橫截面區(qū)域并且至少一個(gè)輻射源的至少一部分放置于其中。優(yōu)選利用一個(gè)促動(dòng)器來(lái)實(shí)現(xiàn)流體基本上不能透過(guò)的密封，該促動(dòng)器能夠?qū)ο噜彉?biāo)準(zhǔn)組件施加側(cè)向力以建立密封。逆轉(zhuǎn)促動(dòng)器可以對(duì)一個(gè)或多個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件進(jìn)行維護(hù)和/或?qū)⑺鼈內(nèi)〕?。另外，可以利用位于上游、下游或同時(shí)在上游和下游設(shè)置的堰、壩和閘以改進(jìn)描述的實(shí)施例以優(yōu)化流體處理區(qū)域上游和下游的流體流動(dòng)，而該區(qū)域由本發(fā)明的流體處理系統(tǒng)所限定。另外，可以改進(jìn)所描述的實(shí)施例使之包括斜面和/或臺(tái)階式的明渠表面，就象同時(shí)未決的國(guó)際專利申請(qǐng)S.N.PCT/CA01/00297所披露的那樣，該申請(qǐng)于2001年3月12日提出。另外，可以改進(jìn)本發(fā)明所描述的實(shí)施例使之在流體處理系統(tǒng)和/或輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件的渠道壁上包括混合器或混合元件，這樣的例子在下面的一些專利中有所描述，如美國(guó)專利5,846,437，6,015,229，6,126,841和6,224,759，以及2001年6月6日提出的國(guó)際專利申請(qǐng)S.N.PCT/CA01/00816。另外，可以通過(guò)在水力系中設(shè)有多系列的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件以改進(jìn)所描述的實(shí)施例。另外，盡管示出的實(shí)施例描述了將這樣一系列標(biāo)準(zhǔn)組件中的一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件部分取出，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解有時(shí)候可能和/或需要將這樣一系列標(biāo)準(zhǔn)組件中的一個(gè)、一些或全部輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件完全取出、拆除或更換。另外，盡管示出的實(shí)施例利用位于限制件上游和下游的壩或傾斜表面使流體通過(guò)，也可以只利用限制件上游側(cè)或下游側(cè)的壩和傾斜表面。當(dāng)然，可以利用限制件上游和/或下游不同設(shè)計(jì)的壩或傾斜表面。因此可以想到所附權(quán)利要求將涵蓋任何這樣的改進(jìn)或?qū)嵤├?br> 對(duì)在這里所引入作為參考的公開(kāi)、專利和專利申請(qǐng)的整體參考程度是對(duì)每個(gè)單獨(dú)的公開(kāi)、專利和專利申請(qǐng)引入時(shí)明確并且單獨(dú)說(shuō)明的整體參考程度。
權(quán)利要求
1.一種輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，它包括一個(gè)支撐件，一個(gè)與支撐件連接的輻射源組件，一個(gè)放置在標(biāo)準(zhǔn)組件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和與第一表面相鄰的第二表面之間提供流體基本上不能透過(guò)的密封。
2.如權(quán)利要求1所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中支撐件放置在支架中。
3.如權(quán)利要求2所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中支架包括與第一支撐件相對(duì)的第二支撐件，第一支撐件和第二支撐件支撐輻射源組件的相對(duì)兩端。
4.如權(quán)利要求3所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中支架包括第三支撐件，它使第一支撐件和第二支撐件互相連接。
5.如權(quán)利要求4所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中密封件放置在第三支撐件的表面上。
6.如權(quán)利要求1所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中一個(gè)電源放置在支架中。
7.如權(quán)利要求1所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，進(jìn)一步包括一個(gè)取出系統(tǒng)，用來(lái)相對(duì)于流體處理系統(tǒng)在應(yīng)用位置和維護(hù)位置之間移動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)組件。
8.如權(quán)利要求1所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中密封件包括可膨脹的密封件。
9.如權(quán)利要求1所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中密封件包括可變形密封件。
10.一種流體處理系統(tǒng)，它包括一個(gè)承接流體流動(dòng)的明渠，放置在明渠中的至少一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，至少一個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件的表面把要被處理的流體限制在封閉流體處理區(qū)域內(nèi)，輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件包括至少一個(gè)放置在流體處理區(qū)域中的輻射源組件。
11.如權(quán)利要求10所述的流體處理系統(tǒng)，其中輻射源組件安裝在第一支撐件上。
12.如權(quán)利要求11所述的流體處理系統(tǒng)，其中支撐件放置在支架中。
13.如權(quán)利要求12所述的流體處理系統(tǒng)，其中支架包括與第一支撐件相對(duì)的第二支撐件，第一支撐件和第二支撐件支撐輻射源組件的相對(duì)兩端。
14.如權(quán)利要求13所述的流體處理系統(tǒng)，其中支架包括第三支撐件，它使第一支撐件和第二支撐件互相連接。
15.如權(quán)利要求14所述的流體處理系統(tǒng)，進(jìn)一步包括一個(gè)放置在第一支撐件、第二支撐件和第三支撐件中至少一個(gè)支撐件的表面上的密封件。
16.如權(quán)利要求15所述的流體處理系統(tǒng)，包括并排放置的多個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件。
17.如權(quán)利要求10所述的流體處理系統(tǒng)，其中一個(gè)電源放置在支架上。
18.如權(quán)利要求10所述的流體處理系統(tǒng)，進(jìn)一步包括一個(gè)取出系統(tǒng)，用來(lái)相對(duì)于流體處理系統(tǒng)在應(yīng)用位置和維護(hù)位置之間移動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)組件。
19.如權(quán)利要求10所述的流體處理系統(tǒng)，其中輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件進(jìn)一步包括一個(gè)阻隔板，當(dāng)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件在取出位置時(shí)，它阻隔明渠。
20.如權(quán)利要求10所述的流體處理系統(tǒng)，其中密封件包括可膨脹的密封件。
21.如權(quán)利要求10所述的流體處理系統(tǒng)，其中密封件包括可變形密封件。
22.一種流體處理系統(tǒng)，它包括一個(gè)承接流體流動(dòng)的明渠，一個(gè)可以在限定了封閉區(qū)域的第一位置和限定了開(kāi)放區(qū)域的第二位置之間移動(dòng)的限制件，至少一個(gè)放置在明渠中的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，該輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件具有至少一個(gè)輻射源元件，至少一部分輻射源元件放置在封閉區(qū)域內(nèi)。
23.如權(quán)利要求22所述的流體處理系統(tǒng)，其中限制件可以在第一位置和第二位置之間繞樞軸移動(dòng)。
24.如權(quán)利要求22所述的流體處理系統(tǒng)，其中限制件可以在第一位置和第二位置之間滑動(dòng)地移動(dòng)。
25.如權(quán)利要求22所述的流體處理系統(tǒng)，其中限制件和輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件是一個(gè)整體。
26.如權(quán)利要求22所述的流體處理系統(tǒng)，其中輻射源元件包括一個(gè)基本上與明渠中流動(dòng)方向平行設(shè)置的縱向軸線。
27.如權(quán)利要求22所述的流體處理系統(tǒng)，其中輻射源元件包括一個(gè)相對(duì)于明渠中流動(dòng)方向橫向設(shè)置的縱向軸線。
28.如權(quán)利要求25所述的流體處理系統(tǒng)，包括多個(gè)基本上彼此相鄰放置的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件。
29.如權(quán)利要求28所述的流體處理系統(tǒng)，其中至少一個(gè)密封元件放置在多個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件中的相鄰對(duì)之間。
30.如權(quán)利要求28所述的流體處理系統(tǒng)，進(jìn)一步包括至少一個(gè)放置在多個(gè)輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件中相鄰對(duì)之間的隔板標(biāo)準(zhǔn)組件。
31.如權(quán)利要求30所述的流體處理系統(tǒng)，其中隔板標(biāo)準(zhǔn)組件包括放置在隔板標(biāo)準(zhǔn)組件上的第一密封件，第一密封件布置成在隔板標(biāo)準(zhǔn)組件和第一鄰近輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件之間提供密封。
32.如權(quán)利要求30所述的流體處理系統(tǒng)，其中隔板標(biāo)準(zhǔn)組件包括放置在隔板標(biāo)準(zhǔn)組件相對(duì)兩側(cè)上的第一密封件和第二密封件，第一密封件布置成在隔板標(biāo)準(zhǔn)組件和第一鄰近輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件之間提供密封，第二密封件布置成在隔板標(biāo)準(zhǔn)組件和第二鄰近輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件之間提供密封。
33.一種輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，它包括多個(gè)輻射源，每個(gè)輻射源(i)具有和相鄰輻射源的同心縱向軸線大致平行排列的同心縱向軸線，和(ii)放置在與每個(gè)相鄰輻射源離開(kāi)預(yù)定距離的位置上并且在相鄰輻射源的同心縱向軸線之間限定了預(yù)定的中心到中心的距離，輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件進(jìn)一步包括一個(gè)限制件，它具有一個(gè)放置在離開(kāi)相鄰輻射源一定距離的表面，這個(gè)距離是中心到中心距離的一個(gè)預(yù)定部分。
34.如權(quán)利要求33所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，進(jìn)一步包括一個(gè)支架，它具有支撐多個(gè)輻射源的第一端區(qū)域的第一支撐件。
35.如權(quán)利要求34所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中支架包括至少支撐多個(gè)輻射源的第二端區(qū)域的第二支撐件。
36.如權(quán)利要求33所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中第一支撐件包括一個(gè)第一延長(zhǎng)件，它具有基本上與同心縱向軸線正交設(shè)置的第一縱向軸線。
37.如權(quán)利要求35所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中第二支撐件包括一個(gè)第二延長(zhǎng)件，它具有基本上與同心縱向軸線正交設(shè)置的第二縱向軸線。
38.如權(quán)利要求35所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，進(jìn)一步包括一個(gè)第三支撐件，它使得第一支撐件與第二支撐件相互連接。
39.如權(quán)利要求38所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中限制件放置在第三支撐件中。
40.如權(quán)利要求33所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，進(jìn)一步包括一個(gè)放置在標(biāo)準(zhǔn)組件第一表面上的密封件，密封件能夠在第一表面和與第一表面鄰近的第二表面之間提供流體基本上不能透過(guò)的密封。
41.如權(quán)利要求40所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中密封件放置在限制件上。
42.如權(quán)利要求38所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，進(jìn)一步包括一個(gè)放置在標(biāo)準(zhǔn)組件第一表面上的密封件，密封件能夠在第一表面和與第一表面鄰近的第二表面之間提供流體基本上不能透過(guò)的密封。
43.如權(quán)利要求40所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中密封件放置在第一支撐件、第二支撐件、第三支撐件和限制件中的一個(gè)或多個(gè)上。
44.如權(quán)利要求34所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中電源放置在支架中。
45.如權(quán)利要求33所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，進(jìn)一步包括一個(gè)取出系統(tǒng)，用來(lái)在相對(duì)于流體處理系統(tǒng)的應(yīng)用位置和維護(hù)位置之間移動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)組件。
46.如權(quán)利要求43所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中密封件包括可膨脹密封件。
47.如權(quán)利要求43所述的輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，其中密封件包括可變形密封件。
全文摘要
一種輻射源標(biāo)準(zhǔn)組件，它包括一個(gè)支撐件，一個(gè)與支撐件連接的輻射源組件，一個(gè)放置在標(biāo)準(zhǔn)組件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和與第一表面相鄰的第二表面之間提供流體基本上不能透過(guò)的密封。
文檔編號(hào)C02F1/32GK1481337SQ01820582
公開(kāi)日2004年3月10日 申請(qǐng)日期2001年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2000年12月15日
發(fā)明者喬治·A·特勞本貝格, 賈森·J·塞爾尼, 邁克·馬爾庫(kù), 邁克爾·P·薩爾凱塞, 戴維·E·斯普勞勒, P 薩爾凱塞, E 斯普勞勒, J 塞爾尼, 喬治 A 特勞本貝格, 馬爾庫(kù) 申請(qǐng)人:特洛伊人技術(shù)公司