本發(fā)明涉及空氣調(diào)節(jié)技術領域，具體而言，涉及一種水箱組件及恒濕機。

背景技術：

恒溫恒濕機主要為電子零部件、工業(yè)材料、成品在研發(fā)、生產(chǎn)和檢驗各環(huán)節(jié)的試驗提供恒定濕熱、復雜高低溫交變等試驗環(huán)境和試驗條件，適用于電子電器、通訊、化工、五金、橡膠、玩具等各行業(yè)。

目前，恒溫恒濕機的加濕系統(tǒng)普遍采用電極加濕系統(tǒng)。電極加濕的原理是將電極棒插入電極罐水面下，接通電源，借助水中的離子移動將水加熱至沸騰，產(chǎn)生水蒸汽的產(chǎn)生量大小則取于電極罐中水位的高低，即電極棒插入水中的深度或面積，蒸汽噴桿均勻分布于空調(diào)箱或風管中，經(jīng)空氣吸收而達到加濕的目的。可以說電極加濕系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。

上述的電機加濕系統(tǒng)在使用過程中容器里面的液態(tài)水在通電電極的作用下，逐漸變成水蒸汽。當水質(zhì)不好時，容易在容器表面產(chǎn)生出一層水垢污穢。該水垢會隨時間的推移而增厚，達到一定程度時容易堵塞閥門，甚至降低加濕效果。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的在于提供一種水箱組件及恒濕機，以解決現(xiàn)有技術中水箱里產(chǎn)生水垢后影響水箱使用的問題。

為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種水箱組件，包括水箱、檢測設備和除污設備。水箱用于儲存加濕用的水；檢測設備設置在水箱上，用于檢測水箱的透光率是否低于預定值；除污設備設置在水箱上，與檢測設備連接，除污設備用于接收檢測設備的檢測信號，并對水箱內(nèi)的污垢進行清除。

進一步地，水箱上具有透光結(jié)構(gòu)，檢測設備包括設置在水箱上的光敏檢測器，光敏檢測器用于檢測透光結(jié)構(gòu)的透光率。

進一步地，檢測設備還包括光源，光源設置在水箱上，光源用于透過透光結(jié)構(gòu)向光敏檢測器照射光線。

進一步地，水箱整體由透光結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

進一步地，光源和光敏檢測器設置在水箱的外部，并與透光結(jié)構(gòu)對應設置。

進一步地，除污設備包括超聲波去污器，超聲波去污器安裝在水箱上。

進一步地，水箱的底部設置有排污口，排污口用于排出水箱內(nèi)的污垢。

進一步地，除污設備還包括清洗噴嘴，清洗噴嘴設置在水箱內(nèi)。

進一步地，清洗噴嘴為多個，多個清洗噴嘴在水箱內(nèi)間隔設置。

進一步地，水箱組件還包括水位控制裝置，水箱上設置有進水口，水位控制裝置設置在進水口上。

為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種恒濕機，包括水箱組件，水箱組件為上述的水箱組件。

進一步地，恒濕機包括電極，電極設置在水箱組件的水箱中，電極用于產(chǎn)生水蒸氣。

應用本發(fā)明的技術方案，在使用時，當檢測設備檢測到水箱的透光率小于預定值時，則判斷水箱內(nèi)的污垢超標。除污設備接收到檢測設備的檢測信號，啟動清除污垢，以實現(xiàn)水箱組件的自清潔，既節(jié)省人力，還能確保水箱組件的正常使用。

除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點之外，本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點。下面將參照圖，對本發(fā)明作進一步詳細的說明。

附圖說明

構(gòu)成本發(fā)明的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的恒濕機的實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中，上述附圖包括以下附圖標記：

10、水箱；11、排污口；20、電極；30、檢測設備；31、光敏檢測器；32、光源；40、除污設備；41、超聲波去污器；42、清洗噴嘴；50、水位控制裝置。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本發(fā)明中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細說明本發(fā)明。

為了使本技術領域的人員更好地理解本發(fā)明方案，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分的實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本發(fā)明保護的范圍。

需要說明的是，本發(fā)明的說明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術語“第一”、“第二”等是用于區(qū)別類似的對象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應該理解這樣使用的術語在適當情況下可以互換，以便這里描述的本發(fā)明的實施例。此外，術語“包括”和“具有”以及他們的任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含，例如，包含了一系列步驟或單元的過程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元，而是可包括沒有清楚地列出的或?qū)τ谶@些過程、方法、產(chǎn)品或設備固有的其它步驟或單元。

需要注意的是，這里所使用的術語僅是為了描述具體實施方式，而非意圖限制根據(jù)本申請的示例性實施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復數(shù)形式，此外，還應當理解的是，當在本說明書中使用術語“包含”和/或“包括”時，其指明存在特征、步驟、操作、器件、組件和/或它們的組合。

除非另外具體說明，否則在這些實施例中闡述的部件和步驟的相對布置、數(shù)字表達式和數(shù)值不限制本發(fā)明的范圍。同時，應當明白，為了便于描述，附圖中所示出的各個部分的尺寸并不是按照實際的比例關系繪制的。對于相關領域普通技術人員已知的技術、方法和設備可能不作詳細討論，但在適當情況下，所述技術、方法和設備應當被視為授權(quán)說明書的一部分。在這里示出和討論的所有示例中，任何具體值應被解釋為僅僅是示例性的，而不是作為限制。因此，示例性實施例的其它示例可以具有不同的值。應注意到：相似的標號和字母在下面的附圖中表示類似項，因此，一旦某一項在一個附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對其進行進一步討論。

為了便于描述，在這里可以使用空間相對術語，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用來描述如在圖中所示的一個器件或特征與其他器件或特征的空間位置關系。應當理解的是，空間相對術語旨在包含除了器件在圖中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為“在其他器件或構(gòu)造上方”或“在其他器件或構(gòu)造之上”的器件之后將被定位為“在其他器件或構(gòu)造下方”或“在其他器件或構(gòu)造之下”。因而，示例性術語“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位(旋轉(zhuǎn)90度或處于其他方位)，并且對這里所使用的空間相對描述做出相應解釋。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，方位詞如“前、后、上、下、左、右”、“橫向、豎向、垂直、水平”和“頂、底”等所指示的方位或位置關系通常是基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，在未作相反說明的情況下，這些方位詞并不指示和暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位或者以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明保護范圍的限制；方位詞“內(nèi)、外”是指相對于各部件本身的輪廓的內(nèi)外。

圖1示出了本發(fā)明的水箱組件的實施例一的結(jié)構(gòu)，水箱組件包括水箱10、檢測設備30和除污設備40。其中，水箱10用于儲存加濕用的水，檢測設備30設置在水箱10上，用于檢測水箱10的透光率是否低于預定值，除污設備40設置在水箱10上，并與檢測設備30連接，除污設備40用于接收檢測設備30的檢測信號，并對水箱10內(nèi)的污垢進行清除。在使用時，當檢測設備30檢測到水箱10的透光率小于預定值時，則判斷水箱10內(nèi)的污垢超標。除污設備40接收到檢測設備30的檢測信號，啟動清除污垢，以實現(xiàn)水箱組件的自清潔，既節(jié)省人力，還能確保水箱組件的正常使用。

在實施例一的技術方案中，水箱10的與上具有透光結(jié)構(gòu)，檢測設備30包括設置在水箱10上的光敏檢測器31，光敏檢測器31用于檢測透光結(jié)構(gòu)的透光率。當光敏檢測器31檢測到透光率小于預定值時，則判斷水箱10內(nèi)的污垢超標，并啟動除污設備40對水箱10內(nèi)的污垢進行清除。可選的，除污期間，加濕工作暫停，確保除污工作順利進行?？蛇x的，透光結(jié)構(gòu)為透明結(jié)構(gòu)或半透明結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的，透明結(jié)構(gòu)的檢測效果會更好。

如圖1所示，在實施例一中，檢測設備30還包括光源32，光源32設置在水箱10上，用于透過透光結(jié)構(gòu)向光敏檢測器31照射光線。水箱10上的污垢會使透光結(jié)構(gòu)的透光率降低，光敏檢測器31接收到的光信號的強度減弱，當水箱10上積累的污垢超標，光敏檢測器31接收到的光信號低于預定值時，除污設備40接收到光敏檢測器31的檢測信號，開始啟動，對水箱10內(nèi)的污垢進行清除。

優(yōu)選的，光源32和光敏檢測器31設置在水箱10的外部上的與透光結(jié)構(gòu)相對應的位置處，以確保光源32發(fā)出的光線可以透過透光結(jié)構(gòu)直接照射到光敏檢測器31上。可選的，光敏檢測器31為光敏器件。另外，可選的，也可以將光源32和光敏檢測器31設置在水箱10的內(nèi)部，相應的應當對光源32和光敏檢測器31坐密封防水處理，同時還應當使得光源32和光敏檢測器31與水箱10的內(nèi)壁保持平滑，以提高清洗效果。

在實施例一中，如圖1所示，除污設備40包括超聲波去污器41，超聲波去污器41安裝在水箱10上，用于去除水箱10內(nèi)附著的污垢。由于污垢與容器在同樣超聲波影響下，產(chǎn)生的振動頻率不一樣，污垢在振動過程中從水箱10和電極20上脫落下來，從而達到除污目的?？蛇x的，可以調(diào)節(jié)超聲波去污器41的超聲頻率，進而改變污垢與容器的振動頻率。

可選的，水箱10的底部設置有排污口11，排污口11用于排出水箱10內(nèi)的污垢。水箱組件在工作狀態(tài)時，排污口11為封堵狀態(tài)，只有在水箱組件自清潔過程中，排污口11被打開，以排出清潔下來的污垢。

如圖1所示，在實施例一中，除污設備40還包括清洗噴嘴42，清洗噴嘴42設置在水箱10內(nèi)，用于配合排污口11沖走水箱10內(nèi)的污垢。可選的，清洗噴嘴42可為高壓噴嘴，利用高水壓沖掉水箱10上的污垢。

可選的，清洗噴嘴42為多個，多個清洗噴嘴42在水箱10內(nèi)相間隔的設置。多個清洗噴嘴42朝向水箱10內(nèi)的不同位置，以便大面積地沖洗污垢。

可選的，水箱組件還包括水位控制裝置50，水箱10上設置有進水口，水位控制裝置50設置在進水口上。通過水位控制裝置50確保水箱10內(nèi)的水位保持在規(guī)定的范圍內(nèi)，避免水位降低到電極20以下導致安全隱患。

本發(fā)明還提供了水箱組件的實施例二(圖中未示出)，實施例二與實施例一的區(qū)別在于，實施例二中，水箱10的整體都為透光結(jié)構(gòu)。同實施例一相同，實施例二中的水箱組件包括水箱10和電極20。其中，水箱10用于儲存加濕用的水，電極20設置在水箱10中，用于產(chǎn)生水蒸氣。另外，該水箱組件也包括檢測設備30和除污設備40，檢測設備30設置在水箱10上，用于檢測水箱10內(nèi)的污垢是否超標，除污設備40設置在水箱10上，并與檢測設備30連接，除污設備40用于接收檢測設備30的檢測信號，并對水箱10內(nèi)的污垢進行清除。當檢測設備30檢測到水箱10中的污垢超標時，除污設備40接收到檢測設備30的信號，啟動清除污垢，以實現(xiàn)水箱組件的自清潔，既節(jié)省人力，還能確保水箱組件的正常使用。

同實施例一相同，實施例二中的檢測設備30也包括設置在水箱10上的光敏檢測器31，光敏檢測器31用于檢測透光結(jié)構(gòu)的透光率，并通過透光率判斷水箱10內(nèi)的污垢是否超標。當透光率小于預定值時，則判定水箱10內(nèi)的污垢超標，并啟動除污設備40對水箱10內(nèi)的污垢進行清除。可選的，除污期間，加濕工作暫停，確保除污工作順利進行。

可選的，檢測設備30還包括光源32，光源32設置在水箱10上，用于透過透光結(jié)構(gòu)向光敏檢測器31照射光線。水箱10上的污垢會使透光結(jié)構(gòu)的透光率降低，光敏檢測器31接收到的光信號的強度減弱，當水箱10上積累的污垢超標，光敏檢測器31接收到的光信號低于預定值時，除污設備40接收到光敏檢測器31的檢測信號，開始啟動，對水箱10內(nèi)的污垢進行清除。

可選的，光源32和光敏檢測器31設置在水箱10的外部，光源32發(fā)出的光線可以透過水箱10直接照射到光敏檢測器31上?？蛇x的，光敏檢測器31為光敏器件。可選的，水箱可采用透光效果好的材料制成。

同實施例一相同，實施例二中，除污設備40也包括超聲波去污器41，超聲波去污器41安裝在水箱10上，用于去除水箱10內(nèi)附著的污垢。由于污垢與容器在同樣超聲波影響下，產(chǎn)生的振動頻率不一樣，污垢在振動過程中從水箱10和電極20上脫落下來，從而達到除污目的?？蛇x的，可以調(diào)節(jié)超聲波去污器41的超聲頻率，進而改變污垢與容器的振動頻率。

可選的，水箱10的底部設置有排污口11，排污口11用于排出水箱10內(nèi)的污垢。水箱組件在工作狀態(tài)時，排污口11為封堵狀態(tài)，只有在水箱組件自清潔過程中，排污口11被打開，以排出清潔下來的污垢。

可選的，除污設備40還包括清洗噴嘴42，清洗噴嘴42設置在水箱10內(nèi)，用于配合排污口11沖走水箱10內(nèi)的污垢?？蛇x的，清洗噴嘴42可為高壓噴嘴，利用高水壓在沖走已經(jīng)掉下來的污垢的同時還能沖掉殘留在水箱10上的污垢，進一步清潔水箱10。

可選的，清洗噴嘴42為多個，多個清洗噴嘴42在水箱10內(nèi)相間隔的設置。多個清洗噴嘴42朝向水箱10內(nèi)的不同位置，以便較大面積地沖洗污垢。

與實施例一相同，實施例二中，水箱組件也包括水位控制裝置50，水箱10上設置有進水口，水位控制裝置50設置在進水口上。通過水位控制裝置50確保水箱10內(nèi)的水位保持在規(guī)定的范圍內(nèi)，避免水位降低到電極20以下導致安全隱患。

需要說明的是，在水質(zhì)一樣的情況下，水箱組件每周的自清潔次數(shù)是差不多的。所以，可以通過自清潔次數(shù)的多少判斷水質(zhì)的優(yōu)劣。當清潔次數(shù)過多時，說明水質(zhì)較差。水箱組件會發(fā)送提醒更換水源的信息，維護人員可以自行評判是否更換。

如圖1所示，本發(fā)明提供了一種恒濕機，該恒濕機包括水箱組件，水箱組件為上述的水箱組件。采用該水箱組件，可以使恒濕機的自清潔，既節(jié)省人力，還能確保恒濕機的使用效果。

如圖1所示，在該實施例中，恒濕機包括電極20，電極20設置在水箱組件的水箱10中，電極20用于產(chǎn)生水蒸氣?？蛇x的，在除污設備40清除污垢期間，水箱組件暫停加濕工作，除污設備也可根據(jù)接收到的檢測信號判斷是否需要重復清洗，當清洗完畢后，水箱組件繼續(xù)加濕工作。

從以上的描述中，可以看出，本發(fā)明上述的實施例實現(xiàn)了如下技術效果：

1、可以自行判斷電極加濕容器是否存在水垢或污穢，并自動清除水垢；

2、無需人為定時對恒溫恒濕機組的電極加濕容器進行清潔維護；

3、水質(zhì)不好時，可以提醒維護人員更換水源。

4、降低機組維護的難度，提高維護工作的效率；

5、降低恒濕機后期維護成本。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領域的技術人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。