專利名稱：感應(yīng)加熱的烹飪裝置及控制其的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實施例涉及不管容器在烹飪板上的位置均能夠加熱該容器的感應(yīng)加熱的烹飪裝置。
背景技術(shù)：
通常，感應(yīng)加熱的烹飪裝置供給高頻電流至加熱線圈，以便在加熱線圈中產(chǎn)生強(qiáng)的高頻磁場，通過高頻磁場在磁耦接至加熱線圈的烹飪?nèi)萜?在下文，簡稱為容器)中產(chǎn)生渦電流，使得用焦耳熱加熱容器以便烹飪食物。在這樣的感應(yīng)加熱烹飪裝置中，用于提供熱源的多個加熱線圈固定地安裝在形成外觀的主體的內(nèi)部。另外，其上放置了容器的烹飪板設(shè)置在主體的上側(cè)上，在這一烹飪板上，容器標(biāo)記形成在對應(yīng)于加熱線圈的位置處，以便讓使用者能夠精確地放置容器。然而，為了使用這樣的感應(yīng)加熱的烹飪裝置烹飪食物(加熱該容器)，使用者需要將容器精確地放置在烹飪板的特定位置上。也就是說，如果使用者沒有將容器放置在精確的位置上，那么就不能均勻地加熱食物。因此，通過將大量的加熱線圈布置在烹飪板的整個表面下面，開發(fā)了不管容器在烹飪板上的位置如何都能烹飪食物的新型的感應(yīng)加熱的烹飪裝置。如果使用新開發(fā)的感應(yīng)加熱的烹飪裝置烹飪食物，那么在使用者將容器放置在烹飪板上之后且在開始烹飪操作之前，需要執(zhí)行檢測容器被放置在烹飪板上的位置的操作 (容器位置檢測操作)。為了檢測容器在烹飪板上的位置，使用了一種方法，所述方法能夠使高頻電流流過布置在烹飪板下方的多個加熱線圈，測量流過加熱線圈的電流值，且使用測得的電流檢測容器是否放在加熱線圈上。在新開發(fā)的感應(yīng)加熱的烹飪裝置中，因為小尺寸的加熱線圈稠密地布置在烹飪板的整個表面的下方，所以加熱線圈之間的距離非常小。在這樣的感應(yīng)加熱的烹飪裝置中，如果高頻電流同時供應(yīng)至所有加熱線圈以便檢測容器的位置，在相鄰的加熱線圈之間出現(xiàn)磁場干擾，因此可能出現(xiàn)容器位置檢測誤差。也就是，在測量流過任意一個加熱線圈(第一加熱線圈)的電流以檢測容器是否被放置在加熱線圈(第一加熱線圈)上時，與相鄰的加熱線圈(第二和第三加熱線圈)的磁場干涉會產(chǎn)生噪聲干擾。因此，它可能錯誤地確定容器被放置在加熱線圈上，盡管容器實際上沒有放置在加熱線圈上。此時，隨著加熱線圈之間的距離被減小，與相鄰加熱線圈的磁場干涉會增大。如果在發(fā)生了容器位置檢測誤差的情況下進(jìn)行烹飪操作，那么容器實際上沒有被放置在其上的加熱線圈也被驅(qū)動。因此，消耗了不必要的功率，且可能損壞包含在感應(yīng)加熱的烹飪裝置中的換流器(電路元件)。

發(fā)明內(nèi)容
因此，一個方面用于提供感應(yīng)加熱的烹飪裝置以在檢測容器的位置時降低相鄰的加熱線圈之間的磁場干擾，以便增加容器位置的檢測精度，和控制其的方法。本發(fā)明的另外的方面將被在隨后的描述中進(jìn)行部分地闡述且從所述描述是部分地清楚的，或可以通過實施本發(fā)明而學(xué)習(xí)得知。根據(jù)一個方面，提供了一種感應(yīng)加熱的烹飪裝置，包括多個加熱線圈塊，包括一個或更多個加熱線圈；多個換流器，以將高頻電壓供應(yīng)至所述加熱線圈中的每一個；和控制器，用于控制所述多個換流器的操作，以將所述高頻電壓交替地供應(yīng)至每個加熱線圈塊且對屬于所述多個加熱線圈塊的每一個的加熱線圈之中的、容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。所述感應(yīng)加熱的烹飪裝置還可以包括被設(shè)置以將容器放置在其上的烹飪板，所述加熱線圈可以相鄰地布置在所述烹飪板的下方。所述感應(yīng)加熱的烹飪裝置還可以包括用于檢測每個加熱線圈中流動的電流值的一個或更多個的傳感器，所述控制器可以根據(jù)由每一傳感器檢測的在每個加熱線圈中流動的電流值的水平對所述容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。如果在所述加熱線圈中流動的電流值大于或等于預(yù)定值，那么所述控制器可以確定所述容器被放置在所述加熱線圈上。所述預(yù)定值可以是在由磁性材料形成的容器占據(jù)所述加熱線圈的預(yù)定比例的面積時，在所述加熱線圈中流動的電流值。所述感應(yīng)加熱的烹飪裝置還可以包括顯示單元，所述顯示單元用于顯示所述容器被放置在其上的所述加熱線圈的位置信息。所述感應(yīng)加熱的烹飪裝置還可以包括操作單元，所述操作單元用于輸入所述容器被放置在其上的所述加熱線圈的功率水平。所述控制器可以控制對所述多個換流器的操作，以便將對應(yīng)于通過所述操作單元輸入的所述功率水平的高頻電壓供應(yīng)至所述容器被放置在其上的加熱線圈。根據(jù)另一方面，提供了一種控制感應(yīng)加熱的烹飪裝置的方法，在所述感應(yīng)加熱的烹飪裝置中，包括一個或更多個加熱線圈的多個加熱線圈塊布置在烹飪板的下方，以便將高頻電壓供應(yīng)至所述加熱線圈中的每一個，所述方法包括以下步驟交替地將所述高頻電壓供應(yīng)至所述多個加熱線圈塊中的每一個；和對屬于所述多個加熱線圈塊的每一個的加熱線圈之中的、容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。 對所述容器被放置在其上的所述加熱線圈的檢測步驟可以包括在供給所述高頻電壓時，對在每個加熱線圈中流動的電流值進(jìn)行檢測；和根據(jù)在每個加熱線圈中流動的電流值的水平對所述容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。如果在所述加熱線圈中流動的電流值大于或等于預(yù)定值，那么所述加熱線圈可以被確定為所述容器被放置在其上的加熱線圈。所述預(yù)定值可以是在由磁性材料形成的容器占據(jù)所述加熱線圈的預(yù)定比例的面積時，在所述加熱線圈中流動的電流值。所述方法還可以包括顯示所述容器被放置在其上的所述加熱線圈的位置信息的步驟。所述方法還可以包括將與由使用者輸入的加熱線圈的功率水平對應(yīng)的高頻電壓供應(yīng)至所述容器被放置在其上的加熱線圈的步驟。


結(jié)合附圖，將從實施例的下述描述中明白和更加容易理解本發(fā)明的這些和/或其它方面，其中圖1是示出根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的配置的透視圖；圖2是示出根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的控制裝置的方塊圖；圖3A至3D是示出將根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置中的加熱線圈劃分且設(shè)定成多個加熱線圈塊的視圖；圖4是示出控制根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的方法的流程圖；圖5是示出其中容器放置在根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置中的第二加熱線圈塊B2的兩個加熱線圈L2-1和L2-2上的情形的平面視圖；和圖6示出在根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的顯示單元上顯示容器位置的檢測結(jié)果的例子。
具體實施例方式現(xiàn)在具體參考實施例，其例子在附圖中示出，其中相似的參考標(biāo)記在全文中表示相似的元件。圖1是示出根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的配置的視圖。如圖1所示，根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置包括主體1。容器P將放置在其上的烹飪板2，被設(shè)置在主體1的上側(cè)上。在主體1中，用于提供加熱源至烹飪板2的多個加熱線圈L設(shè)置在烹飪板2的下方。加熱線圈L相鄰地布置在烹飪板2的整個表面的下方。在實施例中，16個加熱線圈L 布置成4X4的矩陣。用于驅(qū)動加熱線圈L的控制裝置3設(shè)置在烹飪板2的下方。將參考圖2更加詳細(xì)地描述控制裝置3的電路配置?？刂泼姘?被設(shè)置在主體1的上部上，該控制面板4包括操作單元80，該操作單元 80包括多個操作按鈕以輸入命令至控制裝置3，以便驅(qū)動加熱線圈L，且包括顯示單元90， 以顯示關(guān)于感應(yīng)加熱的烹飪裝置的操作的信息。圖2是示出根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的控制裝置的方塊視圖。如圖2所示，根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的控制器中的控制裝置3包括四個子控制器 60A，60B, 60C和60D、一個主控制器70、操作單元80和顯示單元90。形成一個控制單元的每一子控制器60A，60B, 60C和60D控制布置成4X4矩陣的總共16個的加熱線圈L中的4個加熱線圈的驅(qū)動，設(shè)置主控制器70以控制4個子控制器 60A，60B，60C 和 60D。在實施例中，描述了一種配置，其中關(guān)于在布置成4X4矩陣中的加熱線圈L的結(jié)構(gòu)中的每一行中的4個加熱線圈設(shè)置了一個子控制器60A，60B, 60C或60D。也就是，第一子控制器60A控制布置在4X4矩陣中的第1行中的4個加熱線圈Ll-1，Ll_2，L1-3和L1-4 的驅(qū)動，第一子控制器60B控制布置在4 X 4矩陣中的第2行中的4個加熱線圈L2-1，L2-2， L2-3和L2-4的驅(qū)動，第三子控制器60C控制布置在4X4矩陣中的第3行中的4個加熱線圈L3-1，L3-2，L3-3和L3-4的驅(qū)動，第四子控制器60D控制布置在4X4矩陣中的第4行中的4個加熱線圈L4-1，L4-2，L4-3和L4-4的驅(qū)動。在表示每個加熱線圈L的附圖標(biāo)記 LX-Y (X和Y是自然整數(shù))，“X”表示行號，“Y”表示列號。也就是，附圖標(biāo)記“L1-1，，表示布置在4X4矩陣的第一行和第一列的加熱線圈L。因為驅(qū)動在布置成4X4矩陣中的16個加熱線圈中布置在每一行中的4個加熱線圈Ll-I至Ll-4，L2-1至L2_4，L3-1至L3-4或L4-1至L4-4的控制配置是相同的，所以僅描述了驅(qū)動布置在4X4矩陣的第1行中的4個加熱線圈Ll-I，Ll-2，L1-3和L1-4的控制配置，且省略了驅(qū)動布置在其它行中的加熱線圈L的控制配置的描述。如在圖2的上側(cè)上顯示地，用于驅(qū)動在布置成4X4矩陣中的16個加熱線圈中的布置在第1行中的4個加熱線圈L1-1，L1-2，L1_3和L1-4的一部分控制裝置3包括整流器 10A-1，10A-2，10A-3 和 10A-4，整平單元(smoothing units) 20A-1，20A-2，20A-3 和 20A-4， 換流器 30Α-1，30Α-2，30Α-3 和 30A-4、傳感器 40A-1，40A-2，40A-3 和 40A-4、驅(qū)動器 50A-1， 50A-2, 50A-3和50A-4和第一子控制器60A。通過與加熱線圈10A-1，10A-2,10A-3和10A-4對應(yīng)設(shè)置的換流器30A_1，30A_2， 30A-3和30A-4獨立地驅(qū)動加熱線圈Ll_l，Ll_2，L1-3和L1-4。也就是，由換流器30A-1驅(qū)動加熱線圈Ll-I，由換流器30A-2驅(qū)動加熱線圈L1-2，由換流器30A-3驅(qū)動加熱線圈L1-3， 由換流器30A-4驅(qū)動加熱線圈L1-4。整流器10A-1，10A-2,10A-3和10A-4對輸入的交流電(AC)進(jìn)行整流和輸出整流的脈沖電壓。整平單元20A-1，20A-2，20A-3 和 20A-4 使從整流器 10A-1，10A-2,10A-3 和 10A-4 接收的脈沖電壓平整，且輸出平整后的DC電壓。換流器30A-1，30A-2，30A-3和30A-4包括切換元件Q，以根據(jù)驅(qū)動器50A-1， 50A-2，50A-3和50A-4的切換控制信號切換從整平單元20A-1，20A-2，20A-3和20A-4接收的DC電壓，并且提供諧振電壓至加熱線圈L1-1，L1-2，L1_3和L1-4和諧振電容器C，以便通過并聯(lián)輸入至加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3和L1-4的電壓而連續(xù)地與加熱線圈Ll_l，L1-2， L1-3和L1-4諧振。如果接通換流器30A-1，30A-2，30A-3和30A-4的切換元件Q，那么加熱線圈Ll-I， Ll-2，L1-3和L1-4和諧振電容器C形成了并聯(lián)的諧振電路。相比，如果切斷切換元件Q，在接通切換元件Q時儲存在諧振電容器C中的電荷被釋放，電流沿著切換元件Q被接通時的高頻電流的方向的相反方向流過加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3和L1-4。傳感器40Α-1，40Α-2，40Α-3 和 40A-4 連接至整流器 10A-1，10A-2,10A-3 和 10A-4 以及 20A-1，20A-2，20A-3 和 20A-4 之間的線。傳感器 40A-1，40A-2，40A-3 和 40A-4 檢測在 Ll-1，Ll-2，L1-3和L1-4中流動的電流值，且提供檢測到的電流值至第一子控制器60A，以便檢測容器P放置在其上的加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3和L1-4。傳感器40A-1，40A-2，40A-3 和40A-4設(shè)置成與加熱線圈L1-1，L1-2，L1_3和Ll-4對應(yīng)，且包括電流互感器(CT)傳感器 (電流傳感器)。在實施例中，雖然描述的方法是使用CT傳感器作為傳感器40Α-1，40Α-2， 40A-3和40A-4以及使用CT傳感器檢測到的加熱線圈L中流動的電流值來檢測容器P放置在其上的加熱線圈L1-1，L1-2，L1_3和L1-4，但是可以使用各種傳感器(諸如電壓傳感器、 壓力傳感器、紅外傳感器等)對容器P放置在其上的加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3和L1-4進(jìn)行檢測。
驅(qū)動器50A-1，50A-2，50A-3和50A-4根據(jù)第一子控制器60A的控制信號輸出驅(qū)動信號至換流器30A-1，30A-2，30A-3和30A-4中的切換元件Q，以便接通或斷開切換元件Q。第一子控制器60A根據(jù)主控制器70的控制信號發(fā)送控制信號至每一驅(qū)動器 50Α-1，50Α-2，50Α-3或50A-4，從而控制對每個加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3或L1-4的驅(qū)動。 第一子控制器60A接收由每一傳感器40A-1，40A-2，40A-3或40A-4檢測到的在每個加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3或L1-4中流動的電流值，且發(fā)送電流值至主控制器70。主控制器70控制感應(yīng)加熱的烹飪裝置的整體操作。主控制器70通信連接至第一至第四子控制器60A，60B, 60C和60D以控制布置在4X4矩陣中的每行中的4個加熱線圈 Ll-I至Ll-4，L2-1至L2-4，L3-1至L3-4或L4-1至L4-4的驅(qū)動，以發(fā)送控制信號至子控制器60A, 60B, 60C或60D并控制對加熱線圈Ll-I至Ll-4，L2-1至L2-4，L3-1至L3-4或 L4-1至L4-4的驅(qū)動。主控制器70通過使用傳感器40A-1至40A-4，40B-1至40B-4，40C-1至40C-4和 40D-1至40D-4檢測到的流過加熱線圈L的電流值，來檢測在加熱線圈L中的其上放置了容器P的加熱線圈L，同時控制換流器30A-1至30A-4，30B-1至30B_4，30C_1至30C-4或 30D-1至30D-4的操作，以便根據(jù)通過操作單元80輸入的關(guān)于所有加熱線圈塊B的容器P 的位置檢測命令，交替地執(zhí)行專門地供給高頻電壓至僅屬于每個加熱線圈塊B的加熱線圈 L的過程。主控制器70 控制換流器 30A-1 至 30A-4，30B-1 至 30B-4，30C-1 至 30C-4 或 30D-1 至30D-4的操作，以便供給與通過操作單元80輸入的加熱線圈L的功率水平相對應(yīng)的高頻電壓至加熱線圈L，所述加熱線圈L被確定是容器P放置到其上的加熱線圈，以便執(zhí)行烹飪操作。主控制器70在其中包括存儲器70-1。存儲器70-1儲存關(guān)于多個加熱線圈塊B的信息和用于確定容器P是否放置到加熱線圈L上的參考值(預(yù)定值)，感應(yīng)加熱的烹飪裝置的加熱線圈L被劃分到所述加熱線圈塊B中。操作單元80包括多個按鈕，例如諸如0N/0FF按鈕以接通或切斷電源(參見圖6 的標(biāo)記82)，用以輸入容器位置檢測操作的命令的AUTO按鈕(參見圖6的標(biāo)記84)，用以調(diào)整加熱線圈L的功率水平的+/-按鈕(參見圖6的標(biāo)記86)以及用以輸入烹飪操作的開始或暫停的開始/暫停按鈕(參見圖6的標(biāo)記88)。顯示單元90顯示容器放置在其上的加熱線圈L的位置信息和使用+/_按鈕(參見圖6的標(biāo)記86)由使用者輸入的加熱線圈L的功率水平。在實施例中，雖然描述了這樣的配置，其中關(guān)于布置在每行中的4個加熱線圈L設(shè)置了一個子控制器60A，60B, 60C或60D，控制子控制器60A至60D的一個主控制器70設(shè)置在布置成4X4矩陣的加熱線圈L的結(jié)構(gòu)中，但是可以使用具有其它配置的子控制器或可以在沒有子控制器的情況下讓一個控制器控制所有16個線圈。在下文中，將參考圖3A至3D描述一種檢測在根據(jù)本實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置中的烹飪板上放置的容器的位置的方法，所述位置是容器放置在其上的加熱線圈的位置。如上所述，在小尺寸的加熱線圈L稠密地布置在烹飪板2的整個表面的下方的感應(yīng)加熱的烹飪裝置中，在這樣的感應(yīng)加熱的烹飪裝置中如果高頻電壓被同時供應(yīng)至所有加熱線圈L以檢測容器P的位置，那么由于相鄰加熱線圈之間的磁場干涉可能發(fā)生容器位置檢測誤差。因此，在實施例中，劃分且設(shè)定感應(yīng)加熱的烹飪裝置的加熱線圈L成多個(η，η為 2,3,……)包括一個或更多的加熱線圈L的加熱線圈塊并且將高頻電壓供應(yīng)至僅屬于每個加熱線圈塊B的加熱線圈L的過程被關(guān)于所有的加熱線圈塊B交替地進(jìn)行，由此抑制由于相鄰的加熱線圈L之間的磁場干擾造成的容器位置檢測誤差。在此處，加熱線圈塊包括一個或更多的加熱線圈L，高頻電壓被同時或在短時間間隔內(nèi)供應(yīng)至所述一個或更多的加熱線圈L。如果加熱線圈塊B包括一個加熱線圈L，那么高頻電壓被交替地供應(yīng)至每個加熱線圈L。在實施例中，為了檢測容器P的位置，一種方法是在關(guān)于所有加熱線圈塊B交替執(zhí)行供給高頻電壓至僅屬于每個加熱線圈塊B的加熱線圈L的過程的同時測量在每個加熱線圈L中流動的電流值，且如果測得的電流值大于或等于預(yù)定值則確定容器P被放置在加熱線圈L上。在此處，預(yù)定值是確定容器是否被放置在加熱線圈L上的參考值，并且預(yù)定值可以被設(shè)定成在由磁性材料(例如諸如鐵(Fe))制成的容器P占據(jù)(覆蓋)加熱線圈L的面積的40%時，在加熱線圈L中流動的電流值。在由非磁性材料(例如諸如鋁(Al))制成的容器P占據(jù)加熱線圈L的面積的100%時，該預(yù)定值設(shè)定為大于加熱線圈L中流動的電流值的值。如果在加熱線圈L中流動的電流值大于或等于預(yù)定值，也就是如果放置在加熱線圈L上的容器P占據(jù)了加熱線圈L的面積的40%或更大，則確定容器P被放置在加熱線圈 L上，而驅(qū)動加熱線圈L以烹飪食物。與之相反，如果在加熱線圈L中流動的電流值小于預(yù)定值，也就是如果容器P放置在加熱線圈L上但是占據(jù)了加熱線圈L的面積小于40%，則確定了容器P未被放置在加熱線圈L上而不驅(qū)動加熱線圈L。圖3Α至3D是示出劃分和設(shè)定根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的加熱線圈為多個加熱線圈塊的視圖。感應(yīng)加熱的烹飪裝置的16個加熱線圈L布置成4X4矩陣，如上所述。圖3Α顯示加熱線圈Ll-I至L4_4中的每一個設(shè)定到一個加熱線圈塊B的情形。在這種情形，設(shè)定了總共16個加熱線圈塊。圖;3B(a)至(d)顯示設(shè)定了總共8個加熱線圈塊B的情形。圖;3B(a)至!3B(b) 顯示在水平或垂直方向上相鄰的2個加熱線圈設(shè)定到一個加熱線圈塊B的情形，圖;3B(c) 和!3B(d)顯示出布置的2個加熱線圈(例如Ll-I和L1-3)和在水平或垂直方向上插入在它們之間的另一個加熱線圈被設(shè)定成一個加熱線圈塊B。圖3C(a)至3C(c)顯示設(shè)定了總共4個加熱線圈塊B的情形。圖3C(a)顯示布置在4X4矩陣中的每行中的4個加熱線圈Ll-I至L1-4，L2-1至L2_4，L3_1至L3-4或L4-1 至L4-4設(shè)定成一個加熱線圈塊B的情形，圖3C(b)顯示布置在4X4矩陣中的每列中的4 個加熱線圈Ll-I至L4-l，Ll-2至L4_2，L1_3至L4-3或L1-4至L4-4設(shè)定成一個加熱線圈塊B的情形，圖3C(c)顯示布置的4個加熱線圈(例如，Ll-I，Ll-3，L3-1和L3-3)以及在水平和垂直方向上插入在它們之間的另一個加熱線圈被設(shè)定成一個加熱線圈塊B的情形。圖3D (a)至圖3D (d)顯示設(shè)定了總共2個加熱線圈塊B的情形。圖3D (a)顯示布置在4 X 4矩陣中的2個不相鄰的行中的8個加熱線圈(例如Ll-I至L1-4和L3-1至L3-4) 被設(shè)定成一個加熱線圈塊B的情形，圖3D(b)顯示了布置在4X4矩陣的2個非相鄰的列中的8個加熱線圈(例如Ll-I至L4-1和L1-3至L4-3)設(shè)定成一個加熱線圈塊B的情形。 圖3D(c)顯示了通過將4X4矩陣的每行中布置的4個加熱線圈劃分成2組且以Z字形方式連接所述行的組而布置的8個加熱線圈(例如Ll-I至Ll-2，L2-3至L2_4，L3_1至L3-2 和L4-3至L4-4)被設(shè)定成一個加熱線圈塊B的情形，和圖3D(d)顯示了通過將4X4矩陣的每列中布置的4個加熱線圈劃分成2個組且以Z字形方式連接所述列的組而布置的8個加熱線圈(例如Ll-I至L2-1，L3-2至L4_2，L1-3至L2-3和L3-4至L4-4)被設(shè)定成一個加熱線圈塊B的情形。通常，隨著加熱線圈塊B的數(shù)量的增加，容器位置檢測精度將提高，但是會增加檢測容器位置所需要的時間。相反，隨著加熱線圈塊B的數(shù)量的減少，檢測容器位置所需要的時間將減少，但是會降低容器位置檢測精度。在相同數(shù)量的加熱線圈L設(shè)定為一個加熱線圈塊B的情況中，如果一個加熱線圈塊B被設(shè)定成使得靠近每個加熱線圈L的加熱線圈L 的數(shù)量減少，則可以提高容器位置檢測精度。雖然參考圖3A至3C描述了劃分和設(shè)定感應(yīng)加熱的烹飪裝置的加熱線圈成多個加熱線圈塊B的例子，但是可以使用除了上述的方法之外的方法將加熱線圈劃分且設(shè)定成多個加熱線圈塊B，以便抑制相鄰加熱線圈之間的磁場干擾。在下文中，將參考圖4、5和6描述了控制根據(jù)實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的方法。在實施例中，假設(shè)感應(yīng)加熱的烹飪裝置的加熱線圈L被劃分成多個加熱線圈塊B， 且判斷容器P是否放置在加熱線圈L上的參考值(預(yù)定值)儲存在主控制器70的存儲器 70-1中。在下文中，為了便于描述，在圖5中顯示的布置在4X4矩陣中的每行中布置的4 個加熱線圈Ll-I至Ll-4，L2-1至L2-4，L3-1至L3-4或L4-1至L4-4設(shè)定成一個加熱線圈塊B時，描述了控制根據(jù)本實施例的感應(yīng)加熱的烹飪裝置的方法。使用者將容器P放置在烹飪板2上，操作了 0N/0FF按鈕82，且對感應(yīng)加熱的烹飪裝置供電，以便烹飪食物。之后，使用者操作AUTO按鈕84且輸入容器P的位置檢測命令， 以檢測容器P在烹飪板2上的位置(容器放置在其上的加熱線圈的位置)。首先，如果使用者操作AUTO按鈕84并輸入容器P的位置檢測命令信號，那么主控制器70將容器位置檢測命令傳輸至第一子控制器60A，以控制對應(yīng)于第一加熱線圈塊Bl的布置在4X4矩陣的第一行中的4個加熱線圈L1-1，L1-2，L1_3和Ll-4的驅(qū)動，以便檢測在感應(yīng)加熱的烹飪裝置的加熱線圈L中流動的電流值(操作105)。接收容器位置檢測命令的第一子控制器60A發(fā)送控制信號至每一驅(qū)動器50A-1， 50A-2, 50A-3或50A-4，以便在預(yù)定時間(例如0. 5-2秒)期間供給高頻電壓至屬于第一加熱線圈塊Bl的每一線圈L1-1，L1-2，L1_3或Ll-4(操作110)。設(shè)置成與每一線圈Ll-1，Ll-2，L1-3或L1-4對應(yīng)的每個傳感器40A_1，40A_2， 40A-3或40A-4檢測在每一線圈Ll-I，L1-2，L1-3或Ll-4中流動的電流值，且傳輸電流值至第一子控制器60A，同時高頻電流在每一線圈L1-1，L1-2，L1_3或L1-4中流動(操作115)。第一子控制器60A將每個線圈L1-1，L1-2，L1_3或L1-4中流動的電流檢測值傳輸至主控制器70 (操作120)。在此之后，主控制器70確定在每個線圈L1-1，L1-2，L1_3或L1-4中流動的電流值是否大于或等于預(yù)定值(操作125)。在此處，預(yù)定值是用以判斷容器P是否放置在加熱線圈L上的參考值。如果確定了在每個線圈L1-1，L1-2，L1_3或L1-4中流動的電流值大于或等于預(yù)定值(操作125中的“是”)，那么主控制器70在存儲器70-1中儲存表示容器P放置在線圈 Ll-1，Ll-2，L1-3或L1-4的信息(操作130)，且如果確定了在每個線圈Ll-1，Ll-2，L1-3或 L1-4中流動的電流值小于預(yù)定值(操作125中的“否”)，那么主控制器70在存儲器70-1 中存儲表示容器P未被放置在線圈Ll-1，Ll-2，L1-3或L1-4上的信息(操作135)。在圖5顯示的例子中，因為容器P未被放置在屬于第一加熱線圈塊Bl的任一個線圈Ll-I至L1-4上(例如，如果“被放置在其上”，容器P必須占據(jù)加熱線圈L的面積的至少 40% )，所以表示容器P未被放置在加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3或L1-4上的信息儲存在存儲器70-1中。如果完成了屬于第一加熱線圈塊Bl的每一個加熱線圈Ll-1，Ll-2，L1-3或L1-4 的容器位置檢測操作，那么主控制器70重復(fù)地執(zhí)行操作105-135，以執(zhí)行屬于第二、第三和第四加熱線圈塊B2、B3和B4的加熱線圈L2-1至L2-4，L3-1至L3-4和L4-1至L4-4的容器位置檢測操作。在圖5顯示的例子中，因為容器P放置在屬于第二加熱線圈塊B2的加熱線圈L2-1 至L2-4中的2個加熱線圈L2-1和L2-2上，所以在存儲器70_1中存儲表示容器P放置在 2個加熱線圈L2-1和L2-2上的信息(在圖5中，假設(shè)容器P占據(jù)加熱線圈L2-2的面積的 40%或更大)。在此之后，主控制器70確定是否完成了所有加熱線圈塊B的容器位置檢測操作 (操作140)。確定了所有的加熱線圈塊B的容器位置檢測操作沒有完成(操作140中的“否”)， 主控制器70對于其容器位置檢測操作仍需要執(zhí)行的加熱線圈塊B重復(fù)地執(zhí)行操作105至 135。如果確定了完成了所有加熱線圈塊B的容器位置檢測操作(操作140的“是”)， 那么主控制器70在顯示單元90上顯示了容器位置檢測操作的結(jié)果(容器放置在其上的加熱線圈的位置)(操作145)。如圖6所示，其中形成了布置在4X4矩陣中的加熱線圈L的布置結(jié)構(gòu)的顯示表面92放置在顯示單元90上，在形成在顯示表面92上的4X4矩陣的布置結(jié)構(gòu)中，容器P放置在其上的加熱線圈L2-1和L2-2的位置可以通過點亮對應(yīng)于容器P 放置在其上的加熱線圈L2-1和L2-2的位置來顯示。使用者使用顯示單元90確認(rèn)容器P放置在其上的加熱線圈L2-1和L2_2的位置， 操作設(shè)置在操作單元80上的+/-按鈕86，且輸入使用者期望的功率水平(烹飪程度)。接下來，使用者操作開始/暫停按鈕88且輸入烹飪開始命令。通過使用者使用+/_按鈕86 輸入的加熱線圈L的功率水平可以以柱狀圖的形式顯示在圖6所示的顯示單元90的下端上。此時，標(biāo)尺的高度與輸入的功率水平成比例地增加(例如從第一水平至第五水平)。如果由使用者通過+/_按鈕86的操作輸入功率水平調(diào)節(jié)信號和通過開始/暫停按鈕88的操作輸入烹飪開始信號，那么主控制器70傳輸控制命令至第二子控制器60B，以控制容器P放置在其上的加熱線圈L2-1和L2-2的驅(qū)動，用以根據(jù)輸入的功率水平驅(qū)動容器P放置在其上的加熱線圈L2-1和L2-2 (操作150)。在此之后，接收控制命令的第二子控制器60B發(fā)送控制信號至驅(qū)動器50B-1和
1150B-2,以便驅(qū)動加熱線圈L2-1和L2-2，其被確定是容器P被放置在其上的加熱線圈，以便供給高頻電壓至容器P被放置在其上的加熱線圈L2-1和L2-2，而開始執(zhí)行烹飪操作 (155)。根據(jù)本發(fā)明的實施例，通過在檢測容器關(guān)于所有加熱線圈塊的位置時交替執(zhí)行供給高頻電壓至屬于每個加熱線圈塊的加熱線圈的過程，可以在檢測容器的位置時降低相鄰加熱線圈之間的磁場干擾的影響而提高容器位置檢測精度。盡管已經(jīng)顯示和描述了幾個實施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解在不背離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對這些實施例進(jìn)行改變，本發(fā)明的范圍限定在權(quán)利要求和它們的等同物中。
權(quán)利要求
1.一種感應(yīng)加熱的烹飪裝置，包括多個加熱線圈塊，包括一個或更多個加熱線圈；多個換流器，用于供應(yīng)高頻電壓至所述加熱線圈中的每一個；和控制器，用于控制所述多個換流器的操作，以交替地供應(yīng)所述高頻電壓至每個加熱線圈塊，并且對屬于所述多個加熱線圈塊的每一個的加熱線圈之中的、容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感應(yīng)加熱的烹飪裝置，還包括被設(shè)置以將容器放置在其上的烹飪板，其中所述加熱線圈相鄰地布置在所述烹飪板的下方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感應(yīng)加熱的烹飪裝置，還包括一個或更多個傳感器以檢測每個加熱線圈中流動的電流的值，其中所述控制器根據(jù)由每個傳感器檢測的在每個加熱線圈中流動的電流值的水平對所述容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的感應(yīng)加熱的烹飪裝置，其中如果在所述加熱線圈中流動的電流的值大于或等于預(yù)定值，那么所述控制器確定所述容器被放置在所述加熱線圈上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的感應(yīng)加熱的烹飪裝置，其中所述預(yù)定值是在由磁性材料形成的容器占據(jù)所述加熱線圈預(yù)定比例的面積時，在所述加熱線圈中流動的電流的值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感應(yīng)加熱的烹飪裝置，還包括顯示單元，以顯示所述容器被放置在其上的所述加熱線圈的位置信息。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感應(yīng)加熱的烹飪裝置，還包括操作單元，以輸入所述容器被放置在其上的所述加熱線圈的功率水平。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的感應(yīng)加熱的烹飪裝置，其中所述控制器控制所述多個換流器的操作，以便將與通過所述操作單元輸入的所述功率水平相對應(yīng)的高頻電壓供應(yīng)至所述容器被放置在其上的加熱線圈。
9.一種控制感應(yīng)加熱的烹飪裝置的方法，在所述感應(yīng)加熱的烹飪裝置中，包括一個或更多個加熱線圈的多個加熱線圈塊布置在烹飪板的下方，以便將高頻電壓供應(yīng)至所述加熱線圈的每一個，所述方法包括以下步驟交替地供應(yīng)所述高頻電壓至所述多個加熱線圈塊的每一個；和對屬于所述多個加熱線圈塊的每一個的加熱線圈之中的、容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中對所述容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測的步驟包括在供應(yīng)所述高頻電壓時，對在每個加熱線圈中流動的電流的值進(jìn)行檢測；和根據(jù)在每個加熱線圈中流動的電流值的水平對所述容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中如果在所述加熱線圈中流動的電流的值大于或等于預(yù)定值，那么所述加熱線圈被確定為所述容器被放置在其上的加熱線圈。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述預(yù)定值是在由磁性材料形成的容器占據(jù)所述加熱線圈預(yù)定比例的面積時，在所述加熱線圈中流動的電流的值。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，還包括顯示所述容器被放置在其上的所述加熱線圈的位置信息的步驟。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，還包括將與由使用者輸入的加熱線圈的功率水平相對應(yīng)的高頻電壓供應(yīng)至所述容器被放置在其上的加熱線圈的步驟。
全文摘要
一種感應(yīng)加熱的烹飪裝置，包括多個加熱線圈塊，其包括一個或更多個加熱線圈；多個換流器，以將高頻電壓供應(yīng)至所述加熱線圈中的每一個；和控制器，用于控制所述多個換流器的操作，以將所述高頻電壓交替地供應(yīng)至每個加熱線圈塊且對屬于所述多個加熱線圈塊的每一個的加熱線圈之中的、容器被放置在其上的加熱線圈進(jìn)行檢測。使用這一配置，在檢測所述容器的位置時可以減小相鄰加熱線圈之間的磁場干涉的影響而提高容器位置的檢測精度。
文檔編號F24C7/06GK102374558SQ20111022228
公開日2012年3月14日 申請日期2011年8月4日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月5日
發(fā)明者孫鐘哲, 李性浩, 金賀娜 申請人:三星電子株式會社