專利名稱：用于液體加熱容器的加熱器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電液體加熱器及包含該加熱器的容器，特別地，涉及適合于減少加熱過程中所產(chǎn)生噪音總量的加熱器。
背景技術(shù)：
近些年，水壺和水罐的更短加熱時間的需求導致典型加熱器的功率從大致2.2kW增大到大致3kW。這種功率的增大沒有增加加熱器的尺寸而得以實現(xiàn)，所以器具不需要制造得更大以容納更大的加熱器。從而加熱功率的增大導致施加到加熱器表面上的功率密度增大。這依次改變了加熱器和正被加熱的水之間的熱轉(zhuǎn)移過程。
該加熱過程的改變導致加熱過程中水壺或水罐所產(chǎn)生噪音的增加，而這通常是由于局部泡核沸騰的影響。該噪音通常是不受歡迎的。
從而希望提供一種有效的、具有經(jīng)濟效益的在液體加熱過程中產(chǎn)生更低水平噪音的加熱器。
本發(fā)明試圖提供一種改進的加熱器，并且根據(jù)第一方面，提供一種電液體加熱器，該電液體加熱器包含在加熱器面臨液體的表面上的疏水涂層，所述疏水涂層形成紋理表面，其紋理足以使得能夠擾亂該表面上水泡的產(chǎn)生。
可以理解，疏水涂層抑制濕潤，因此促進了加熱器表面上水蒸氣氣泡的形成。然而，紋理表面涂層形成的紋理特征能防止表面上形成的氣泡變得過大從而產(chǎn)生平均尺寸更小的氣泡。例如由于泡核沸騰等導致的氣泡增大可以因而得到限制?？梢岳斫?，減小從加熱器表面釋放的氣泡的尺寸將趨向于導致所產(chǎn)生噪音水平更低。
有效的噪音減少通過疏水涂層的紋理特征來實現(xiàn)，這是由于這些紋理特征增加了微觀水平下表面張力的突然變化。申請人意識到這種氣泡生長的效果可以簡單并劃算地通過施加疏水涂層材料到加熱器表面上來實現(xiàn)，在此種方式下，該涂層具有表面微觀紋理。因而根據(jù)本發(fā)明，無需采用昂貴的多相涂層或復雜的多層涂層工藝而制造出減少的噪音的加熱器是可能的。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明制造的加熱器的另外一個優(yōu)勢在于，氣泡的最大尺寸和氣泡從加熱器表面脫離的頻率可以通過紋理表面特征的尺寸而控制在一定范圍內(nèi)。例如，如果紋理是規(guī)則的，則所產(chǎn)生氣泡大致尺寸相同并且在狹窄的頻帶中產(chǎn)生聲音；反之，如果紋理是不規(guī)則的，則聲音擴展到更寬頻帶。特別的優(yōu)勢在于，根據(jù)本發(fā)明的配置可以減少大范圍膜狀沸騰的發(fā)生率，而這是由于任何所形成的蒸汽層由于表面紋理特征的存在而縮減。膜狀沸騰是不想要的，這是由于氣體/蒸汽的形成層減少了從加熱器到液體的熱傳遞并因而使加熱器趨向于過熱；并且它使得與加熱器接觸的熱傳感器對元件溫度相對于對液體溫度更加靈敏，由此具有控制操作過早的傾向，例如在水到達沸點之前關(guān)斷水壺。
可以理解，根據(jù)本發(fā)明的紋理表面可以具有不同的形狀，僅僅具有的共同點為表面水平?jīng)]有始終遍及加熱器表面。紋理表面可以具有包括山峰或山谷的地形。特征可包括在表面型面的變化或表面的斷裂。構(gòu)成表面紋理的特征可均勻、不均勻或隨機分布在整個表面上。特征可有差別的或延展的、離散的或連續(xù)的。例如，紋理可經(jīng)由表面上多個凹槽或裂紋網(wǎng)絡形成；或紋理可經(jīng)由表面上的有差別的浮雕特征或連續(xù)的切削形成。紋理可包括任何此種表面特征的組合。
可以設想出很多可能的實現(xiàn)紋理表面的途徑，包括機械、熱或化學處理，涂層的激光制圖或后期加工。優(yōu)選地，疏水涂層根據(jù)申請所用方法形成紋理表面。這意味著，涂層的噪音減少特性可簡單地通過調(diào)整該涂層涂覆的方式而得以控制，以產(chǎn)生所需要的表面特征。例如，涂層可不均勻地沉積在加熱器表面上，用掩?？刂仆繉痈采w，或涂覆不止一層或循環(huán)沉積。涂層可采用噴射沉積、輥涂或幕涂方式而涂覆。
在某些優(yōu)選實施例中，紋理涂層印刷到加熱器表面上。例如噴墨或移印(tampo printing)等優(yōu)選印刷技術(shù)可非常迅速并容易地生產(chǎn)紋理涂層。如果加熱器表面不平的話，采用合成襯墊傳送紋理涂層的壓塞印刷特別有用。這被認為是新穎的且具有創(chuàng)造性的并被包括在其權(quán)利中，并且因而從另一方面看，本發(fā)明提供了一種處理電加熱器面臨液體的表面的方法，包括印刷疏水涂層到加熱器上以形成紋理表面。更優(yōu)選地，該紋理表面包括擾亂該表面氣泡生長的特征。
可選擇的，該涂層可在涂覆涂層到加熱器表面之前、期間或之后由于機械和/或熱處理而具有紋理表面。該涂層的機械處理可包括砂磨或噴砂處理、刨削、鉆孔、沖壓、雕刻或蝕刻。然而，更優(yōu)選地，該涂層經(jīng)熱處理以產(chǎn)生表面紋理?？梢栽谥靶枰獰崽幚韥砀稍锖?或烘烤該涂層。因此，如果這種熱處理步驟可以適合于控制涂層的最終表面結(jié)束加工將具有優(yōu)勢。在特定優(yōu)選實施例中，涂層經(jīng)熱處理以產(chǎn)生涂層中的裂紋。因此，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的第一方面，表面織紋理包括涂層表面中的裂紋。
申請人發(fā)現(xiàn)，裂紋可簡單地通過以280-400℃的溫度烘烤涂層來促進。該裂紋由烘烤階段中加熱元件的屈曲產(chǎn)生。而且，涂層表面紋理的熱控制不是必需一旦涂層涂覆過程完成就停止。加熱器自身的膨脹和屈曲，典型地，具有銅焊到其下面的覆蓋元件的不銹鋼加熱器板，在熱操作中，尤其是干燥接通中，能夠促進裂紋的形成并使它們保持開口。這因而可在器具測試中自動發(fā)生。
申請人對此高度評價，即在疏水涂層中產(chǎn)生裂紋提供了一種特別簡單的引入微觀范圍表面紋理的技術(shù)而無需額外的處理步驟。該技術(shù)在其自權(quán)利中被認為是新穎的并具有創(chuàng)造性，并且因而從另一方面看，本發(fā)明提供了一種處理電加熱器的面臨液體的表面的方法，包括提供具有疏水涂層的加熱器表面和處理該涂層以在該涂層中產(chǎn)生裂紋。
根據(jù)再一方面，本發(fā)明提供了一種電液體加熱器，包括在加熱器面臨液體的表面上的疏水涂層，所說的疏水涂層包括擾亂表面上氣泡生長的裂紋。
所應用的處理可以是任何適合的能夠?qū)е铝鸭y的處理，例如機械沖擊或化學處理等。然而，優(yōu)選地，該處理包括熱處理。
該合成涂層具有被裂紋分隔的由非中斷島狀物構(gòu)成的表面。裂紋擔當限制加熱器表面上氣泡生長的特征，使得產(chǎn)生更小平均尺寸的氣泡，這導致更安靜的加熱器。值得贊賞的是，該裂紋不需擾亂所有遍及涂層的路徑即可實現(xiàn)這種效果。
用以產(chǎn)生裂紋的涂層處理優(yōu)選地控制成產(chǎn)生裂紋間尺寸大約為40-400μm的涂層區(qū)域。裂紋間未擾亂涂層區(qū)域的尺寸能夠指定氣泡形成的尺寸。
在特定實施例中，控制該處理以產(chǎn)生被裂紋分隔為相似尺寸的涂層區(qū)域中的大體規(guī)則的圖案。這趨向于導致一致尺寸的蒸汽氣泡的形成和釋放，從而導致聲音在一個狹窄頻帶中產(chǎn)生。
在其它實施例中，控制該處理以產(chǎn)生被裂紋分隔為不同尺寸涂層區(qū)域中的大體不規(guī)則的圖案。這趨向于產(chǎn)生各種尺寸的氣泡，從而導致噪音在一個寬頻帶范圍內(nèi)擴展。
該處理可用于影響所產(chǎn)生裂紋的寬度。優(yōu)選地，熱產(chǎn)生尺寸為0.1-2μm的裂紋，平均尺寸大致為1μm。裂紋可生長到大致相同的寬度或該處理可導致寬度各不相同的裂紋。
由裂紋或另外適當方式產(chǎn)生的紋理涂層可完全暴露，但是在一些優(yōu)選實施例中涂覆一上覆層。該上覆層可以是相同或不同的材料。該上覆層可以是連續(xù)的，并足夠薄以符合下面的紋理型面；或間斷的，進入裂紋并遺留“島狀物”暴露出來。在后一情形下，如果材料表面張力不同，這也有助于擾亂氣泡生長。
如根據(jù)前述所能理解的那樣，優(yōu)選疏水涂層形成具有距離為從40到400μm的微觀范圍分隔的特征的紋理表面。優(yōu)選地，在表面紋理之間擴展的涂層區(qū)域在尺寸上比特征本身大得多。例如，裂紋間涂層島狀物優(yōu)選地至少在尺寸上比裂紋寬度巨大得多。
不是對涂層進行機械或熱處理，而是當涂覆到加熱器上時可對下面的加熱器基板進行處理以影響該涂層的表面微觀紋理。例如，加熱器表面本身可由模制、沖壓成型、蝕刻、沖壓、雕刻或鉆孔而紋理化。下面的加熱器表面紋理可簡單地將紋理印痕到疏水涂層上?；蛘?，加熱器表面的性質(zhì)可引起涂層不均勻地干燥或影響沉積過程，如此方式的結(jié)果是涂層紋理化。
申請人進一步意識到，應用實際加熱器板下面的紋理的想法可以擴展到給出進一步優(yōu)化的配置。
根據(jù)本發(fā)明的又一方面，本發(fā)明提供了一種電液體加熱器，包括粗糙表面和部分覆蓋該粗糙表面的疏水涂層，如此所述粗糙表面中的峰點暴露在使用中的液體中。
根據(jù)本發(fā)明的再一方面，本發(fā)明提供了一種處理電加熱器面臨液體的表面的方法，包括使加熱器表面粗糙并涂覆疏水涂層到加熱器表面以部分覆蓋它，如此粗糙表面中的峰點暴露在使用中的液體中。
應當理解，本發(fā)明的這方面可以與前面所述方面相結(jié)合，例如提供一種加熱器，包括粗糙表面和部分覆蓋該粗糙表面的疏水涂層，由此粗糙表面中的峰點暴露在使用中的液體中，疏水涂層形成紋理表面，其紋理足以擾亂該表面上氣泡的生長。
申請人已意識到，粗糙表面上的峰點暴露的地方，峰點擔當氣泡成核的場所。由于表面粗糙和疏水涂層的相對厚度的正確選擇，產(chǎn)生了這些成核場所的密集陣列，該陣列促進了最小化噪音的極大量的小氣泡的形成。所涂覆表面上氣泡的進一步擴展得以限制，這是因為存在于疏水涂層和暴露峰點之間邊緣的表面張力的變化趨向于促進氣泡從該表面的釋放。因而平均尺寸更小的氣泡通過開發(fā)下面的加熱器表面的粗糙度而得以簡單地產(chǎn)生，同時仍提供具有在面臨液體的表面上的疏水涂層的加熱器，該涂層能抗拒積垢附著并改進加熱器的視覺外觀。暴露的加熱器表面形成成核場所的微觀陣列。
涂層足夠薄所以粗糙表面至少部分暴露到使用中的液體中。換句話說，涂層在加熱器表面充滿凹陷同時表面峰點暴露出來。這些峰點可以起到用于蒸汽氣泡的優(yōu)先成核場所的作用，促進了遍及加熱器表面的許多小氣泡的形成，同時面臨液體的表面的容積被疏水涂層覆蓋以抗拒積垢附著力。因此可以理解，這種加熱器是對不曾涂覆并且因此傾向形成水垢的粗糙加熱器表面的改進。
次優(yōu)選地，在其它實施例中，涂層被處理成暴露下面加熱器表面的粗糙。例如，可以涂覆涂層使得完全覆蓋加熱器表面，然后可以砂磨、沖擊、擦除、腐蝕、蝕刻或以另外的方式部分地去除以使部分加熱器表面暴露在使用中的液體中。
現(xiàn)在描述根據(jù)所有上述實施例疏水涂層的一些普遍特征。
加熱器可包括單獨的在其面臨液體的表面上的疏水涂層。這在實施例中優(yōu)選為涂層必須足夠薄以至少部分暴露加熱器粗糙的下表面。在其它實施例中，優(yōu)選為加熱器涂覆有涂覆在紋理疏水涂層下面的基底層?；讓涌捎糜谠黾邮杷繉訉訜崞鞅砻娴母街Α?br> 還可以優(yōu)選為加熱器涂覆有涂覆在紋理疏水涂層上面的頂層，或者有或者沒有基底層。該頂涂層可以保護涂層的表明紋理并防止它損害或者破損。該頂涂層優(yōu)選為其上疏水涂層破裂并需要固定。該頂層優(yōu)選為薄的，從而下面涂層的紋理表面沒有被該頂層掩蔽。優(yōu)選地該頂層也包括疏水涂層以促進表面特征間氣泡的形成。進一步優(yōu)選地，該頂層耐剝落。
只要不是從技術(shù)觀點看相互排斥的，在本發(fā)明范圍內(nèi)，所有上述列出的個體特征可以任意結(jié)合并且所有的也可結(jié)合在一起。
任何適合種類的疏水涂層都可以采用。優(yōu)選地，該涂層具有80°-170°之間的水接觸角，優(yōu)選為大于90°。這減少了所涂覆表面的濕潤使得氣泡更有可能形成。
優(yōu)選地，疏水涂層抗拒積垢附著力。加熱器表面積垢的存在導致不想要的外觀并且也引起加熱器的運行溫度不利地增加。這可導致與加熱器關(guān)聯(lián)的熱靈敏控制的過早操作，所知道的一個結(jié)果是干沸騰擾亂。而且，加熱器表面積垢附著力可導致噪音水平增加。例如PTFE等積垢脫落附加劑可加入到涂層中。然而優(yōu)選采用硅基疏水涂層。一種被發(fā)現(xiàn)適合的涂層為Akzo Nobel生產(chǎn)的X10106。
硅基涂層也得到偏愛，這是因為人們發(fā)現(xiàn)基于PTFE的涂層更少適合經(jīng)歷干燥接通狀態(tài)的加熱器，因為干燥接通期間元件上的表面上的高溫上升引起涂層退化。申請人發(fā)現(xiàn)，采用基于PTFE的涂層，在典型水壺加熱器超過第一個100沸騰周期后噪音減少效果顯著退化。
優(yōu)選地，涂層包括純硅樹脂而不是包含一定數(shù)量的硅油(例如它在不粘耐熱烘焙器涂層中常見)，這是因為人們發(fā)現(xiàn)硅油的存在能導致膜狀沸騰。
涂層可采用任何適合的方法涂覆于加熱器表面上，例如噴涂、浸漬、印刷、滾壓或幕涂等。加熱器的面臨液體的表面可以不平坦而是可以包括弧形、階梯狀或其它型面狀的平面。用于涂覆涂層的方法可以根據(jù)加熱器表面是否平坦而加以選擇或適應。
本發(fā)明也擴展到液體加熱容器，優(yōu)選為水沸騰器具，包括任何上文描述的加熱器。


現(xiàn)在參考附圖描述本發(fā)明的一些優(yōu)選實施例，這僅僅作為示例，其中圖1a為根據(jù)第一實施例的加熱器的透視圖，該加熱器包含其面臨液體的表面上的裂紋涂層；圖1b為圖1a所示加熱器的平面圖，示出了加熱器表面的局部放大；
圖1c為圖1a所示加熱器的側(cè)剖視圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖2a為根據(jù)第二實施例的加熱器的透視圖，該加熱器包含其面臨液體的表面上的裂紋涂層；圖2b為圖2a所示加熱器的平面圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖2c為圖2a所示加熱器的側(cè)剖視圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖3a為根據(jù)第三實施例的加熱器的透視圖，該加熱器包含其面臨液體的表面上的裂紋涂層；圖3b為圖3a所示加熱器的平面圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖3c為圖3a所示加熱器的側(cè)剖視圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖4a為根據(jù)第四實施例的加熱器的透視圖，該加熱器包含其面臨液體的表面上的裂紋涂層；圖4b為圖4a所示加熱器的平面圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖4c為圖4a所示加熱器的側(cè)剖視圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖5a為根據(jù)第五實施例的加熱器的透視圖，該加熱器包含其面臨液體的表面上的裂紋涂層；圖5b為圖5a所示加熱器的平面圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖5c為圖5a所示加熱器的側(cè)剖視圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖6a為根據(jù)另一實施例的加熱器的透視圖，該加熱器包含暴露的噴砂；圖6b為圖6a所示加熱器的平面圖，示出了加熱器表面的局部放大；圖6c為圖6a所示加熱器的側(cè)剖視圖，示出了加熱器表面的局部放大。
具體實施例方式
首先來看圖1，可以看到根據(jù)本發(fā)明的電液體加熱器2。加熱器2適合封閉例如家用水沸騰水壺等液體加熱容器基底的開口。加熱器2包括本申請人的標準形式絕對密封的不銹鋼加熱器板4，該板具有圓周溝道以使其夾住容器壁的下邊緣，如WO96/18331所描述的那樣。覆蓋的電加熱元件和厚膜加熱元件中任何一個都可形成或附屬在加熱器板4的下邊。
如圖1b和圖1c的放大圖所示，加熱器板4的表面覆蓋有裂紋疏水涂層6。該涂層為可采用Akzo Nobel的X10106的2-30μm厚的層?？梢钥吹?，涂層6包括被裂紋10分隔的未破損涂層區(qū)域8。裂紋10至少0.1μm寬。
現(xiàn)在描述形成裂紋涂層的方法。典型地，首先對不銹鋼加熱器板4噴砂處理制備成粗糙度為1.5-3.0Ra用以涂層。板4作除污處理并且涂層通過噴涂而涂覆到其表面。在火爐中以100-150℃烘烤加熱器板以干燥該濕的涂層，然后以280400℃烘烤以促進裂紋產(chǎn)生。生成的涂層包括尺寸為40400μm的區(qū)域8，且其被尺寸為0.1-2μm的裂紋10網(wǎng)絡分隔。
圖2示出了與圖1類似的一個實施例，其中，疏水涂層6中的裂紋10形成未破損涂層區(qū)域8的規(guī)則圖案7，所有區(qū)域8大致尺寸相同，并且被大致相同寬度的裂紋10分隔。該規(guī)則圖案導致一致尺寸的蒸汽氣泡的形成和釋放，產(chǎn)生限制在一狹窄頻帶內(nèi)的聲音。
圖3示出了與圖1類似的另一個實施例，其中，疏水涂層6中的裂紋10形成涂層區(qū)域8的不規(guī)則圖案9，區(qū)域8尺寸不同且被不同寬度的裂紋10分隔。表面紋理中的不規(guī)則性產(chǎn)生各種尺寸的氣泡，導致噪音擴散到一寬頻帶范圍中。
圖4示出了類似于圖1-3的一個實施例，除了加熱器4在位于裂紋疏水涂層6下面的其表面上具有基涂層12?；繉?2用來增強疏水涂層6對不銹鋼板4的附著力?；繉?2為包含聚酯共聚體或環(huán)氧樹脂改良劑的X10106的改良層?；繉?2在涂覆裂紋疏水涂層6之前涂覆到加熱器板4的表面上。基涂層12中共聚體或環(huán)氧樹脂的存在抑制了當加熱器接受烘烤時裂紋的產(chǎn)生。人們發(fā)現(xiàn)環(huán)氧樹脂改良劑是最穩(wěn)固的。
圖5示出了類似于圖4的一個實施例，除了在該實施例中頂涂層14覆蓋了裂紋疏水涂層6的面臨液體的表面。可以看到，頂涂層14與疏水涂層6以及裂紋10的深度相比，相對薄一些，所以由裂紋10產(chǎn)生的表面紋理鏡像到頂涂層10中并且因而面臨液體的頂表面提供了擾亂表面上氣泡生長的特征。頂涂層14保護裂紋涂層6。頂涂層14為包含聚酯共聚體或環(huán)氧樹脂改良劑的X10106的改良層。頂涂層14分別涂覆到疏水涂層6上。頂涂層14中共聚體或環(huán)氧樹脂的存在抑制了當加熱器接受烘烤時裂紋的產(chǎn)生。人們發(fā)現(xiàn)環(huán)氧樹脂改良劑是最穩(wěn)固的。
可以領(lǐng)會到，在上述實施例中，盡管裂紋10表現(xiàn)為完全滲入疏水涂層6中，然而這對于噪音減少影響不是必需的并且該裂紋也可以不像涂層那樣深。
圖6示出了另一個實施例，其中，加熱器板4具有暴露在整個疏水涂層18中的噴砂表面16。疏水涂層18為包含聚酯共聚體或環(huán)氧樹脂改良劑的X10106的改良層。疏水涂層18僅僅比噴砂表面16上峰點的高度稍微薄一點。噴砂表面16上暴露的峰點擔當氣泡的成核場所，同時疏水涂層抗拒積垢對加熱器的附著力。盡管沒有示出，只要噴砂表面16至少部分暴露在整個涂層中就可以涂覆基涂層。
盡管已經(jīng)參照優(yōu)選實施例描述了本發(fā)明，所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員都能理解，在不脫離本發(fā)明的范圍內(nèi)可以作出各種改變。例如，疏水涂層不需示出的那樣具有裂紋而是經(jīng)由蝕刻、雕刻或其它處理而形成紋理表面。噪音減少效果可以通過任何形成微觀紋理表面的疏水涂層來實現(xiàn)，該涂層具有擾亂加熱器表面上氣泡生長的特征。該涂層可印刷到加熱器表面上以獲得所需的紋理。
權(quán)利要求
1.一種電液體加熱器，包括加熱器面臨液體的表面上的疏水涂層，所述疏水涂層形成一種紋理表面，使得其紋理擾亂所述表面上氣泡的生成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的加熱器，其中，所述疏水涂層形成紋理表面是其應用的方法造成的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的加熱器，其中，所述紋理涂層是印制在加熱器表面上的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的加熱器，其中，所述涂層具有的紋理表面是在將該涂層應用到加熱器表面之前、期間或之后機械處理和/或熱處理的結(jié)果。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的加熱器，其中，對該涂層熱處理以產(chǎn)生所述紋理表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的加熱器，其中，對所述涂層熱處理以在涂層中產(chǎn)生裂紋。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的加熱器，其中，表面紋理特征包括該涂層表面中的裂紋。
8.一種電液體加熱器，包括在加熱器面臨液體的表面上的疏水涂層，所述疏水涂層包括擾亂該表面上氣泡生長的裂紋。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8的加熱器，包括在裂紋之間的、尺寸范圍為40-400μm的涂層區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8的加熱器，其中，所述裂紋的寬度范圍為0.1-2μm。
11.根據(jù)權(quán)利要求7或8的加熱器，其中，裂紋之間區(qū)域的平均寬度是裂紋平均寬度的至少十倍。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或8中任一項的加熱器，進一步包括所述紋理涂層上面的上覆層。
13.一種電液體加熱器，包括粗糙表面和部分覆蓋該粗糙表面的疏水涂層，使得所述粗糙表面上的峰點暴露到使用中的液體中。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的加熱器，其中，疏水涂層形成紋理表面，使得其紋理擾亂所述表面上氣泡的生成。
15.根據(jù)權(quán)利要求1、8或13中任一項的加熱器，包括在其面臨液體的表面上的單一疏水涂層。
16.根據(jù)權(quán)利要求1、8或13中任一項的加熱器，包括在紋理疏水涂層下的基底層。
17.根據(jù)權(quán)利要求1、8或13中任一項的加熱器，包括紋理疏水涂層上面的頂層。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的加熱器，其中，所述頂層也包括疏水涂層。
19.根據(jù)權(quán)利要求17的加熱器，其中，所述頂層是抗水垢的。
20.根據(jù)權(quán)利要求1、8或13中任一項的加熱器，其中，所述疏水涂層具有80°-170°的水接觸角。
21.根據(jù)權(quán)利要求1、8或13中任一項的加熱器，其中，疏水涂層抗拒水垢粘附。
22.根據(jù)權(quán)利要求1、8或13中任一項的加熱器，其中，所述疏水涂層為硅基的。
23.根據(jù)權(quán)利要求22的加熱器，其中，該涂層包括純硅樹脂。
24.一種包含根據(jù)權(quán)利要求1、8或13所述加熱器的液體加熱容器。
25.一種包含根據(jù)權(quán)利要求1、8或13所述加熱器的水沸騰器具。
26.一種處理電加熱器面臨液體的表面的方法，包括，提供具有疏水涂層的加熱器表面并且處理該涂層以在該涂層上產(chǎn)生裂紋。
27.根據(jù)權(quán)利要求26的方法，其中，該處理包括熱處理。
28.根據(jù)權(quán)利要求26的方法，包括控制所述處理以產(chǎn)生在裂紋之間的、尺寸范圍為40-400μm的涂層區(qū)域。
29.根據(jù)權(quán)利要求26的方法，包括控制所述處理以產(chǎn)生寬度范圍為0.1-2μm的裂紋。
30.根據(jù)權(quán)利要求26的方法，包括控制該處理從而在裂紋之間的區(qū)域平均寬度是裂紋平均寬度的至少十倍。
31.根據(jù)權(quán)利要求26的方法，包括將上覆層施加到紋理涂層上。
32.一種處理電加熱器面臨液體的表面的方法，包括使該加熱器表面粗糙化并且將疏水涂層施加到該加熱器表面以部分覆蓋該表面，從而該粗糙表面上的峰點暴露到使用中的液體中。
33.根據(jù)權(quán)利要求32的方法，包括應用疏水涂層從而其形成紋理表面，紋理表面的紋理擾亂該表面上氣泡的生長。
34.一種處理電加熱器面臨液體的表面的方法，包括將疏水涂層印制到該加熱器上，從而形成紋理表面。
35.根據(jù)權(quán)利要求34的方法，其中，紋理表面包括擾亂該表面上氣泡生長的特征。
全文摘要
一種電液體加熱器，包括加熱器面臨液體的表面上的疏水涂層(6)。該疏水涂層(6)形成紋理表面，其紋理擾亂該表面上水泡的生長。該表面紋理特征在于在該涂層(6)表面中可包含裂紋(10)。
文檔編號F24H9/02GK101021355SQ200710087980
公開日2007年8月22日 申請日期2007年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月27日
發(fā)明者M·J·斯科特, I·費爾梅里 申請人:施特里克斯有限公司