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加熱方法、加熱裝置、以及圖像顯示裝置的制造方法

文檔序號:4594144閱讀:158來源:國知局
專利名稱:加熱方法、加熱裝置、以及圖像顯示裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在減壓氣氛下對基板進(jìn)行加熱的加熱方法和加熱裝置。進(jìn)一步,本發(fā)明涉及一種使用了由該加熱方法所加熱了的基板的圖像顯示裝置的制造方法。
背景技術(shù)
歷來,在制造構(gòu)成規(guī)定裝置的基板時,有時要對該基板進(jìn)行加熱處理。
在“特開2003-59788”號公報中,記載有為實行該加熱處理的基板加熱裝置。
在“特開2003-59788”號公報中所記載的基板加熱裝置具有載置臺,配置在該載置臺上的熱反射板,以及配置在該熱反射板上的、并安置有基板的加熱板。在該構(gòu)成下,在載置臺和加熱板之間設(shè)置有熱反射板,在基板和熱反射板之間設(shè)置有加熱板。
進(jìn)一步,在該載置臺上,形成有用于通過冷卻水的通路;又,在加熱板的周圍設(shè)置有熱反射環(huán)。
在“特開2003-59788”號公報中所記載的基板加熱裝置上,由于從加熱板所散發(fā)出的熱由熱反射板所反射,并由該反射熱也會對基板進(jìn)行加熱,所以可以加快基板的升溫速度。
但是,在“特開2003-59788”號公報中所記載的基板加熱裝置上,在由位于基板下部的加熱板對基板進(jìn)行直接加熱的同時,從加熱板所散發(fā)出的熱會由熱反射板所反射,并再次面向基板。即,不可以對基板的與加熱板不相接的面進(jìn)行加熱。
因此,產(chǎn)生如下問題不能均勻地加熱基板,其結(jié)果使該基板翹曲、被破損。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是,提供一種可以均勻地對基板進(jìn)行加熱、從而可以防止發(fā)生基板的翹曲和破損的加熱方法、加熱裝置、以及使用了由該加熱方法所加熱處理了的基板的圖像顯示裝置的制造方法。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的加熱方法使用具有下列構(gòu)成的加熱裝置支持基板的支持部件;對向配置在該基板的兩面的、加熱上述基板的多個的熱發(fā)生體;圍繞著上述基板和多個的熱發(fā)生體的熱反射部件;收容有上述支持部件、熱發(fā)生體、和上述熱反射部件的真空容器,并且,在上述基板的周端面和上述熱反射部件之間的區(qū)域上配置分隔部件,其中,在對上述真空容器進(jìn)行排氣所形成的減壓氣氛下,由上述熱發(fā)生體和上述熱反射部件對上述基板進(jìn)行加熱。
又,本發(fā)明的加熱裝置具有下列構(gòu)成支持基板的支持部件;對向配置在上述基板的兩面的、對上述基板進(jìn)行加熱的多個的熱發(fā)生體;圍繞著上述基板和多個的熱發(fā)生體的熱反射部件;以及收容有上述支持部件、熱發(fā)生體、和熱反射部件的真空容器,并且,在上述基板的周端面和上述熱反射部件之間的區(qū)域上配置分隔部件。
在該加熱裝置上,上述分隔部件最好由與上述基板相同的材料所構(gòu)成。又,上述分隔部件最好是具有與上述基板相同的放射率的部件,或具有與上述基板相同的熱容量的部件。上述基板和上述分隔部件也可以由玻璃所構(gòu)成。
而且,上述分隔部件的、與上述基板的周端面相對向的端面最好比上述基板的周端面要大。
又,本發(fā)明涉及一種圖像顯示裝置的制造方法,該圖像顯示裝置具有圖像顯示機(jī)構(gòu)和內(nèi)置有上述圖像顯示機(jī)構(gòu)的容器,其中,具有對作為上述容器的構(gòu)成部件的基板由上述的加熱方法或加熱裝置進(jìn)行加熱處理的工序。
在具有上述構(gòu)成的發(fā)明中,受到加熱處理的基板由支持部件所支持著,并在該基板的表面和里面和多個的熱發(fā)生體對向配置。而且,由熱反射部件圍繞著基板和多個的熱發(fā)生體的。進(jìn)一步,通過在基板的周端面和熱反射部件之間的區(qū)域上設(shè)置分隔部件,就可以防止配置在基板的表面?zhèn)群屠锩鎮(zhèn)壬系臒岚l(fā)生體的熱從基板的單面?zhèn)认騿蚊鎮(zhèn)壤@入的現(xiàn)象,使熱均勻地傳遞到基板和分隔部件上。
依據(jù)上述的本發(fā)明,由于可以對基板的溫度均勻地進(jìn)行加熱,所以可以在不發(fā)生基板的翹曲和破損的情況下進(jìn)行加熱處理。


圖1為對本發(fā)明的加熱方法的一實施形態(tài)、以及加熱裝置的構(gòu)成進(jìn)行模式顯示的斷面圖。
圖2為顯示了圖1中的加熱裝置的其它形態(tài)的斷面圖。
具體實施例方式
以下,參照圖面對本發(fā)明的實施形態(tài)進(jìn)行說明。但本發(fā)明不只限于這些實施形態(tài)。
圖1為對本發(fā)明的加熱方法的一實施形態(tài)、以及加熱裝置的構(gòu)成進(jìn)行模式顯示的斷面圖。
在圖1中,在形成有空間的腔室5的內(nèi)部配置著熱反射部件3。熱反射部件3以多個的板形成一圍套形;在本例中,通過連結(jié)頂板3a、左右的側(cè)板3b、以及底板3c而構(gòu)成熱反射部件3.
在構(gòu)成熱反射部件3的一部分的底板3c上,豎立安置著多個的支持桿6。在這些支持桿6的頂端上,支持著受到加熱處理的基板1。
在熱反射部件3的內(nèi)側(cè),以規(guī)定的間隔配置著熱發(fā)生體2。熱發(fā)生體2被對向配置在基板1的表面?zhèn)群屠锩鎮(zhèn)壬?。由此,形成一種在基板1和熱發(fā)生體2的周圍配置著熱反射部件(反射器)3的構(gòu)成。
而且,在基板1的構(gòu)成面的延長線上,在基板周端面1a和熱反射部件3(的側(cè)板3b)之間的區(qū)域上設(shè)置有分隔部件(分隔件)4?;逯芏嗣?a和分隔部件4之間的間隔最好是5mm-20mm。
在腔室5內(nèi),設(shè)置有用于減壓的真空泵(未圖示),通過其對腔室5內(nèi)進(jìn)行排氣而形成減壓氣氛。在該狀態(tài)下熱發(fā)生體2產(chǎn)生發(fā)熱,使基板1受到加熱處理。
依據(jù)本實施形態(tài),通過將分隔部件4設(shè)置在基板1的構(gòu)成面的延長線上、位于基板周端面1a和熱反射部件3之間的區(qū)域上,可以防止被配置在基板1的表面?zhèn)群屠锩鎮(zhèn)壬系臒岚l(fā)生體2的熱從基板1的單面?zhèn)认騿蚊鎮(zhèn)壤@入的現(xiàn)象,使熱均勻地傳遞到基板1和分隔部件4上。
因此,可以對基板1的溫度均勻地進(jìn)行加熱,在不會發(fā)生基板1的翹曲和破損的情況下進(jìn)行加熱處理。
以下,對本發(fā)明的實施例進(jìn)行詳細(xì)的說明,但本發(fā)明不只限于這些實施例。又,對在實施例中所提到的構(gòu)成部件的符號,使用與在圖1和圖2中所示的部件相同的符號。
(實施例1)在本實施例中,作為基板1的材料,使用600mm×900mm×厚度2.8mm的玻璃;作為熱反射部件3,使用對銅的表面進(jìn)行了砂紙加工的部件;由熱反射部件3所包圍的區(qū)域設(shè)定為寬度1000mm和深度700mm。作為設(shè)置在基板1的構(gòu)成面的延長線上、位于基板1和熱反射部件3之間的區(qū)域上的分隔部件4,使用與基板1相同的玻璃,且其厚度為2.8mm。在基板1的表面的一部分上,涂覆有一層銦(インジウム)膜(未圖示)。作為對基板1進(jìn)行加熱的熱發(fā)生體2,使用護(hù)套式(ミ-ス)加熱器。
在圖1中,基板1決定著位置,并被安置在支持桿6的上面。在安置基板1后,對腔室5內(nèi)排氣到2×10-6Pa。在使腔室5內(nèi)得到減壓后,用10分鐘的時間將熱發(fā)生體(護(hù)套式加熱器)2加熱到750℃。通過由熱發(fā)生體(護(hù)套式加熱器)2所產(chǎn)生的加熱,基板1被加熱到400℃;在該狀態(tài)下保持30分鐘,對基板1進(jìn)行脫氣處理。
在用以上的方法進(jìn)行基板的加熱處理時,由于基板1和分隔部件4不但厚度相同而且材質(zhì)也一樣,即放射率相同,所以加熱工序中的溫度變得相等,在基板1和分隔部件4之間不會發(fā)生熱的授受。
又,通過設(shè)置分隔部件4,配置在基板1的上下的加熱器2的熱也不會相互繞入基板1的反對側(cè),可以在工序中對基板1的溫度進(jìn)行均勻的加熱。由此,可以確認(rèn)不會發(fā)生基板1的翹曲和破損。而且,由于不會發(fā)生基板1的翹曲,所以不會發(fā)生涂覆在基板1的一部分上的銦膜因熔化而流入到其它部位上的現(xiàn)象。
(實施例2)在本實施例中,其基本構(gòu)造與實施例1相同。作為基板1,使用厚度為2.8mm、熱容量為2.1×106J/m3℃的玻璃;作為設(shè)置在基板面的延長線上、位于基板1和熱反射部件3之間的區(qū)域上的分隔部件4,使用厚度為1.5mm、熱容量為4.0×106J/m3℃的不銹鋼。其它的部件同在上述構(gòu)成中,在進(jìn)行與實施例1同樣的加熱處理時,由于圖1中的基板1和分隔部件4每單位面積的熱容量大致相等,基板1和分隔部件4的溫度在工序中以同樣的溫度進(jìn)行升溫;所以在基板1和分隔部件4之間不會發(fā)生熱的授受,可以對基板1溫度均勻地進(jìn)行加熱處理。由此,可以確認(rèn)具有與實施例1同樣的效果。
(實施例3)圖2為顯示了圖1中的加熱裝置的其它形態(tài)的斷面圖。
在本實施例中,其基本構(gòu)造與實施例1相同。但作為分隔部件4的端面,如圖2所示,形成一種比基板周端面1a的厚度要上下突出5mm的突緣形狀(突出部4a);而且,將基板周端面1a與分隔部件4的端部(突出部4a)之間的間隔設(shè)定為5mm。
在上述構(gòu)成中,在進(jìn)行與實施例1同樣的加熱處理時,可以防止加熱器的熱進(jìn)入到基板1的端面,可以確認(rèn)能夠進(jìn)一步降低溫度分布。由此,可以確認(rèn)不會發(fā)生基板1的翹曲和破損。
又,本發(fā)明不只限于上述的各實施例,而是顯而易見可以有種種的變更。
例如,作為基板1,也可以使用用于構(gòu)成內(nèi)置有圖像顯示部的容器的基板。換句話說,在具有圖像顯示部和內(nèi)置有該圖像顯示部的容器的圖像顯示裝置的制造方法中,對構(gòu)成內(nèi)置有圖像顯示部的容器的基板,也可以用上述的方法進(jìn)行加熱處理。這時,可以均勻地對構(gòu)成內(nèi)置有圖像顯示部的容器的基板進(jìn)行加熱;而且,可以降低在加熱時發(fā)生基板的翹曲和破損的可能性。
權(quán)利要求
1.一種加熱基板的加熱方法,該加熱方法使用具有下列構(gòu)成的加熱裝置支持基板的支持部件,對向配置在上述基板的兩面的、對上述基板進(jìn)行加熱的多個的熱發(fā)生體,圍繞著上述基板和上述多個的熱發(fā)生體的熱反射部件,收容有上述支持部件、上述熱發(fā)生體和上述熱反射部件的真空容器,以及在上述基板的周端面和上述熱反射部件之間的區(qū)域上配置分隔部件;其中在對上述真空容器進(jìn)行排氣所形成的減壓氣氛下,由上述熱發(fā)生體和上述熱反射部件對上述基板進(jìn)行加熱。
2.加熱裝置,該加熱裝置具有下列構(gòu)成部件支持基板的支持部件,對向配置在上述基板的兩面的、對上述基板進(jìn)行加熱的多個的熱發(fā)生體,圍繞著上述基板和上述多個的熱發(fā)生體的熱反射部件,以及收容有上述支持部件、上述熱發(fā)生體和上述熱反射部件的真空容器;上述基板的周端面和上述熱反射部件之間的區(qū)域上配置分隔部件。
3.如權(quán)利要求2所述的加熱裝置,其特征在于上述分隔部件由與上述基板相同的材料所構(gòu)成。
4.如同權(quán)利要求2所述的加熱裝置,其特征在于上述分隔部件為具有與上述基板相同的放射率的部件。
5.如權(quán)利要求2所述的加熱裝置,其特征在于上述分隔部件為具有與上述基板相同的熱容量的部件。
6.如權(quán)利要求2所述的加熱裝置,其特征在于上述基板和上述分隔部件由玻璃所構(gòu)成。
7.如權(quán)利要求2至6的任何一項中所述的加熱裝置,其特征在于上述分隔部件的、與上述基板的周端面相對向的端面比上述基板的周端面要大。
8.一種圖像顯示裝置的制造方法,該圖像顯示裝置具有圖像顯示機(jī)構(gòu)和內(nèi)置有上述圖像顯示機(jī)構(gòu)的容器;其特征在于由權(quán)利要求1所述的方法加熱處理作為上述容器的構(gòu)成部件的基板。
9.一種圖像顯示裝置的制造方法,該圖像顯示裝置具有圖像顯示機(jī)構(gòu)和內(nèi)置有上述圖像顯示機(jī)構(gòu)的容器;其特征在于由權(quán)利要求2至6的任何一項中所述的裝置加熱處理作為上述容器的構(gòu)成部件的基板。
10.一種圖像顯示裝置的制造方法,該圖像顯示裝置具有圖像顯示機(jī)構(gòu)和內(nèi)置有上述圖像顯示機(jī)構(gòu)的容器;其特征在于由權(quán)利要求7中所述的裝置加熱處理作為上述容器的構(gòu)成部件的基板。
全文摘要
在制造圖像顯示裝置時,為了對構(gòu)成內(nèi)置有圖像顯示裝置的容器的基板進(jìn)行均勻的加熱,抑制發(fā)生基板的翹曲和破損,在真空容器內(nèi),將加熱器對向配置在基板的兩側(cè),并用熱反射部件所圍繞;進(jìn)一步,配置位于基板的周端面和熱反射部件之間的分隔部件;由此對基板進(jìn)人加熱。
文檔編號F26B25/08GK1604274SQ20041007891
公開日2005年4月6日 申請日期2004年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月30日
發(fā)明者木村明弘, 鐮田重人 申請人:佳能株式會社
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