專利名稱:烤爐的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種烤爐，用于加熱和干燥至少一基板。所述烤爐包括一操作腔室、一加熱板以及一多孔板。所述操作腔室具有至少一排氣孔用以排放所述操作腔室內(nèi)加熱的空氣。所述加熱板，設(shè)置于所述操作腔室底部，用以在所述操作腔室內(nèi)產(chǎn)生一加熱效果。所述多孔板，設(shè)置在所述加熱板的邊緣和一排氣孔上方。所述至少一基板設(shè)置于所述加熱板上。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置所述多孔板，讓所述操作腔室中的加熱氣流較為均勻，進(jìn)而改善了加熱溫度不均勻現(xiàn)象。藉此，當(dāng)所述基板為一液晶顯示器基板(liquid crystal display substrate)時(shí)，所制成的液晶顯示面板的Mura現(xiàn)象(板亮度不均勻造成各種痕跡的現(xiàn)象)可被改善。
【專利說(shuō)明】
烤爐
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型系涉及一種烤爐，尤其是一種用于面板產(chǎn)業(yè)來(lái)加熱和烘干一液晶顯示器基板之烤爐。
【背景技術(shù)】
[0002]在面板產(chǎn)業(yè)中，濕式制程發(fā)展的已經(jīng)相當(dāng)成熟。然而，受限于現(xiàn)有的機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)，在實(shí)際操作中仍存在許多問(wèn)題。如在烤爐中，因?yàn)榭緺t內(nèi)部的空氣持續(xù)被加熱，會(huì)導(dǎo)致壓力升高，為了解決壓力升高的問(wèn)題，現(xiàn)有技術(shù)通過(guò)在所述烤爐的周圍設(shè)置排氣孔進(jìn)行減壓。如此雖然解決了壓力的問(wèn)題，卻同時(shí)因?yàn)闅饬鞑痪鶆蛞约皽囟炔痪鶆?，進(jìn)而造成所制成的液晶顯示面板會(huì)產(chǎn)生Mur a現(xiàn)象(顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現(xiàn)象)。
[0003]因此，有必要提供一種烤爐，以解決上述之問(wèn)題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]有鑒于此，本實(shí)用新型目的在于提供一烤爐，其具有改善上述之問(wèn)題的功效。
[0005]為達(dá)成上述目的，本實(shí)用新型提供一種烤爐，用于加熱和干燥至少一基板。所述烤爐包括一操作腔室、一加熱板以及一多孔板。
[0006]所述操作腔室具有至少一排氣孔用以排放所述操作腔室內(nèi)加熱的空氣。所述加熱板，設(shè)置于所述操作腔室底部，用以在所述操作腔室內(nèi)產(chǎn)生一加熱效果。所述多孔板，設(shè)置在所述操作腔室中，其中所述加熱的空氣至少部分地流過(guò)所述多孔板來(lái)流入所述排氣孔中。所述至少一基板設(shè)置于所述操作腔室中來(lái)接收所述加熱板的加熱和干燥。
[0007]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述加熱板的面積跟所述多孔板的面積的比值小于或等于10。
[0008]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述多孔板設(shè)置于所述加熱板的邊緣和所述至少一排氣孔上。
[0009]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述至少一排氣孔系設(shè)置于所述操作腔室的周圍。
[0010]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述多孔板系完全覆蓋所述至少一排氣孔，使得所述受熱空氣在流入所述至少一排氣孔前須完全流過(guò)所述多孔板。
[0011 ]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述基板為一液晶顯示器基板。
[0012]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述烤爐是用在所述液晶顯示器基板的濕式制程中。
[0013]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述基板為一液晶顯示器基板。
[0014]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述烤爐是用在所述液晶顯示器基板的濕式制程中。
[0015]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述烤爐還包括一抽氣裝置，用于從所述至少一排氣孔將所述操作腔室中的氣體抽出。
[0016]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述多孔板系造成所述加熱的空氣擾流效果，而使所述加熱空氣均勻分布在所述操作腔室中。
[0017]相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置所述多孔板，讓所述操作腔室中的加熱氣流較為均勻，進(jìn)而改善了加熱溫度不均勻現(xiàn)象。藉此，當(dāng)所述基板為一液晶顯示器基板(liquid crystal display substrate)時(shí)，所制成的液晶顯示面板的Mura現(xiàn)象(板亮度不均勻造成各種痕跡的現(xiàn)象)可被改善。
【附圖說(shuō)明】

[0018]圖1，繪示本實(shí)用新型的第一優(yōu)選實(shí)施例的烤爐之正視剖視圖；
[0019]圖2，繪示根據(jù)圖1的剖面線2-2所得之頂視剖視圖；以及
[0020]圖3，繪示本實(shí)用新型的第二優(yōu)選實(shí)施例的烤爐之正視剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]以下參照附圖詳細(xì)說(shuō)明的實(shí)施例將會(huì)使得本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征以及實(shí)現(xiàn)這些優(yōu)點(diǎn)和特征的方法更加明確。但是，本實(shí)用新型不局限于以下所公開的實(shí)施例，本實(shí)用新型能夠以互不相同的各種方式實(shí)施，以下所公開的實(shí)施例僅用于使本實(shí)用新型的公開內(nèi)容更加完整，有助于本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠完整地理解本實(shí)用新型之范疇，本實(shí)用新型是根據(jù)申請(qǐng)專利范圍而定義。在說(shuō)明書全文中，相同的附圖標(biāo)記表示相同的裝置組件。
[0022]參考圖1以及圖2。圖1，繪示本實(shí)用新型的第一優(yōu)選實(shí)施例的烤爐100之正視剖視圖。圖2，繪示根據(jù)圖1的剖面線2-2所得之頂視剖視圖。所述烤爐100用于加熱和干燥至少一基板150。在此優(yōu)選實(shí)施例中，所述基板150為一在一濕式制程中的液晶顯示器基板(liquidcrystal display substrate)。所述液晶顯示器基板是用以制出一液晶顯示面板。換言之，所述烤爐100是用在一液晶顯示器基板的濕式制程中。所述烤爐100包括一操作腔室110、一加熱板120、一多孔板130、至少一排氣孔140。所述至少一排氣孔140系設(shè)置于所述操作腔室110的周圍。所述加熱板120，設(shè)置于所述操作腔室110底部。所述多孔板130，設(shè)置在所述加熱板120的邊緣和所述至少一排氣孔140上方。所述至少一基板150設(shè)置于所述操作腔室110中，優(yōu)選地是置放在所述加熱板120上以接受所述加熱板120的加熱和干燥。在實(shí)際操作中，優(yōu)選地，所述至少一基板150被放置于所述加熱板120的中央(溫度最均勻的位置)，在加熱和干燥的過(guò)程中，所述至少一基板150上的液體會(huì)受熱汽化(接收所述加熱板120的接觸熱以及所述操作腔室110的空氣的傳導(dǎo)熱)。在此，因?yàn)樵O(shè)置了所述多孔板130，使得所述操作腔室110的加熱空氣產(chǎn)生了一定的擾流效果，進(jìn)而使所述操作腔室110的空氣的流動(dòng)以及溫度較為均勻。
[0023]優(yōu)選地，在本優(yōu)選實(shí)施例中，所述多孔板130僅設(shè)置于所述加熱板120的邊緣并完全覆蓋所述至少一排氣孔140，以便讓所述操作腔室110的加熱空氣可以完全通過(guò)所述多孔板130從所述至少一排氣孔140排出所述操作腔室110的內(nèi)部。但是，也可以根據(jù)不同的設(shè)計(jì)需求，將所述多孔板130設(shè)置在不同的位置，唯一需要注意的是，所述至少一排氣孔140要能夠通過(guò)所述多孔板130與所述操作腔室110的空氣接觸。換言之，所述加熱的空氣在流入所述至少一排氣孔140中前要至少部分地流過(guò)所述多孔板130。
[0024]優(yōu)選地，所述加熱板120的面積跟所述多孔板130的面積的比值小于或等于10。
[0025]圖3，繪示本實(shí)用新型的第二優(yōu)選實(shí)施例的烤爐200之正視剖視圖。本優(yōu)選實(shí)施例與第一優(yōu)選實(shí)施例的差異在于:所述烤爐200還包括一抽氣裝置160，用于從所述至少一排氣孔140將所述操作腔室110中的氣體抽出。藉由所述抽氣裝置160，能夠讓所述操作腔室110內(nèi)部的壓力維持恒定，進(jìn)一步穩(wěn)定加熱和干燥效果，使所述至少一基板150能均勻受熱而在整個(gè)濕式制程中有一均勻的機(jī)械、電氣和化學(xué)特性。如此，由所述至少一基板150所得到的液晶顯示面板的Mura現(xiàn)象可被降至最低。
[0026]雖然本實(shí)用新型已用優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本實(shí)用新型，本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者，在不脫離本實(shí)用新型之精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種之更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本實(shí)用新型之保護(hù)范圍當(dāng)視后附之申請(qǐng)專利范圍所界定者為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種烤爐，用于加熱和干燥至少一基板，其特征在于，所述烤爐包括: 一操作腔室具有至少一排氣孔用以排放所述操作腔室內(nèi)加熱的空氣； 一加熱板，設(shè)置于所述操作腔室底部，用以在所述操作腔室內(nèi)產(chǎn)生一加熱效果；以及 一多孔板，設(shè)置在所述操作腔室中，其中所述加熱的空氣至少部分地流過(guò)所述多孔板來(lái)流入所述排氣孔中； 其中所述至少一基板設(shè)置于所述操作腔室中來(lái)接收所述加熱板的加熱和干燥。2.如權(quán)利要求1項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述加熱板的面積跟所述多孔板的面積的比值小于或等于10。3.如權(quán)利要求1項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述多孔板設(shè)置于所述加熱板的邊緣和所述至少一排氣孔上。4.如權(quán)利要求1項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述至少一排氣孔系設(shè)置于所述操作腔室的周圍。5.如權(quán)利要求3項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述烤爐還包括一抽氣裝置，用于從所述至少一排氣孔將所述操作腔室中的氣體抽出。6.如權(quán)利要求1項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述多孔板系完全覆蓋所述至少一排氣孔，使得所述受熱空氣在流入所述至少一排氣孔前須完全流過(guò)所述多孔板。7.如權(quán)利要求6項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述基板為一液晶顯示器基板。8.如權(quán)利要求7項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述烤爐是用在所述液晶顯示器基板的濕式制程中。9.如權(quán)利要求1項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述基板為一液晶顯示器基板。10.如權(quán)利要求7項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述烤爐是用在所述液晶顯示器基板的濕式制程中。11.如權(quán)利要求10項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述烤爐還包括一抽氣裝置，用于從所述至少一排氣孔將所述操作腔室中的氣體抽出。12.如權(quán)利要求1項(xiàng)所述之烤爐，其特征在于，所述多孔板系造成所述加熱的空氣擾流效果，而使所述加熱空氣均勻分布在所述操作腔室中。
【文檔編號(hào)】F27B17/00GK205718449SQ201620249263
【公開日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年3月29日
【發(fā)明人】黃榮龍, 呂峻杰, 陳瀅如
【申請(qǐng)人】盟立自動(dòng)化股份有限公司